JPS6130237U - ウエハ処理装置のウエハロ−ド機構 - Google Patents

ウエハ処理装置のウエハロ−ド機構

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Publication number
JPS6130237U
JPS6130237U JP11241884U JP11241884U JPS6130237U JP S6130237 U JPS6130237 U JP S6130237U JP 11241884 U JP11241884 U JP 11241884U JP 11241884 U JP11241884 U JP 11241884U JP S6130237 U JPS6130237 U JP S6130237U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
loading mechanism
rotating shaft
sample stage
processing equipment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11241884U
Other languages
English (en)
Inventor
正人 外島
幸雄 村川
Original Assignee
日立電子エンジニアリング株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 日立電子エンジニアリング株式会社 filed Critical 日立電子エンジニアリング株式会社
Priority to JP11241884U priority Critical patent/JPS6130237U/ja
Publication of JPS6130237U publication Critical patent/JPS6130237U/ja
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案のウエハロード機構の１実施例の垂直断
面図である。 第２図乃至第６図は上記実−施例の作動説明図である。 １・・・試料台、１ａ・・・座ぐり、２・・・管状の回
転軸、３・・・突上ピン、３ａ・・・支承部、３ａ’・
・・上昇位置における支承部、３ａ″・・・中間位置に
おける支承部、４・・・ウエハ、５・・・フォーク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 垂直な回転軸に支承された試料台を有するウエハ処理装
    置において、前記の回転軸を管状に構成してその中空部
    に突上ピンを摺動自在に嵌合すると共に、該突上ピンの
    上端に、試料台表面から突出、収納可能なウエハ支承部
    を設けて、この突上ピンが上昇摺動したとき試料台上の
    ウエハを持ち上げ、かつ該突上ピンが下降摺動すると持
    ち上げていたウエハを試料台上に戴置するように構成し
    、更に、上記の上昇摺動点及び下降摺動の途中で該突上
    ピンを一時的に停止せしめて支持しているウエハを試料
    台から０．１票〜２抽離間せしめた状態に保持し得るよ
    うに構成したことを特徴とする、ウエハ処理装置のウエ
    ハロード機構。
JP11241884U 1984-07-26 1984-07-26 ウエハ処理装置のウエハロ−ド機構 Pending JPS6130237U (ja)

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JP11241884U JPS6130237U (ja) 1984-07-26 1984-07-26 ウエハ処理装置のウエハロ−ド機構

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Publication Number Publication Date
JPS6130237U true JPS6130237U (ja) 1986-02-24

Family

ID=30671470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11241884U Pending JPS6130237U (ja) 1984-07-26 1984-07-26 ウエハ処理装置のウエハロ−ド機構

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JP (1) JPS6130237U (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6439634U (ja) * 1987-09-01 1989-03-09
JPH0230128A (ja) * 1988-05-18 1990-01-31 Veeco Instr Inc 基板移送及び冷却方法、並びにその方法を実施するための装置
WO1997020340A1 (fr) * 1995-11-28 1997-06-05 Tokyo Electron Limited Procede et dispositif pour traiter un semi-conducteur au moyen d'un gaz de traitement, pendant que le substrat est chauffe

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6439634U (ja) * 1987-09-01 1989-03-09
JPH0230128A (ja) * 1988-05-18 1990-01-31 Veeco Instr Inc 基板移送及び冷却方法、並びにその方法を実施するための装置
WO1997020340A1 (fr) * 1995-11-28 1997-06-05 Tokyo Electron Limited Procede et dispositif pour traiter un semi-conducteur au moyen d'un gaz de traitement, pendant que le substrat est chauffe

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