JPS61296704A - 鉄心の製造方法 - Google Patents
鉄心の製造方法Info
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- JPS61296704A JPS61296704A JP60137941A JP13794185A JPS61296704A JP S61296704 A JPS61296704 A JP S61296704A JP 60137941 A JP60137941 A JP 60137941A JP 13794185 A JP13794185 A JP 13794185A JP S61296704 A JPS61296704 A JP S61296704A
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は鉄心の製造方法に関する。
従来から良く知られている鉄少の製造方法として例えば
特公昭47−22514号公報、特公昭47−2251
5号公報に記載されているような、磁性粉と樹脂とを混
合した後、圧縮成形する方法がある。
特公昭47−22514号公報、特公昭47−2251
5号公報に記載されているような、磁性粉と樹脂とを混
合した後、圧縮成形する方法がある。
このような方法;二よれば高い飽和磁束密度、高透磁率
を有する等の優れた特性の鉄心を得ることができる。
を有する等の優れた特性の鉄心を得ることができる。
一方、このような鉄心の用途としては例えば電力増幅器
用、磁気増幅器用等の各種リアクトル、変圧器用等の用
途が挙げられる。このような用途においては、かなりの
高周波の電流が流れる場合がある。例えばスイッチング
回路(=用いられるリアクトルについてみると、数+H
X〜200KHz程度のスイッチング周波数の電流や、
さらに高調波として例えば500KHz以上もの高周波
の電流が流れる場合がある。交流磁気特性(二おける鉄
損は。
用、磁気増幅器用等の各種リアクトル、変圧器用等の用
途が挙げられる。このような用途においては、かなりの
高周波の電流が流れる場合がある。例えばスイッチング
回路(=用いられるリアクトルについてみると、数+H
X〜200KHz程度のスイッチング周波数の電流や、
さらに高調波として例えば500KHz以上もの高周波
の電流が流れる場合がある。交流磁気特性(二おける鉄
損は。
ヒステリシス損と渦電流損との和で示され、周波数が高
くなればなるほど周波数の2乗に比例して増大する渦電
流損が支配的になる。従って高周波での使用を考慮した
場合、この渦電流損を小さく抑える必要が有り、この渦
電流損を小さくすることに上り鉄損を小さくすることが
できる。また一般(二鉄損増加率が大きい場合には、透
磁率は周波数の増加に伴ない低下する傾向があるが、高
周波領域でも透磁率の低下は小さいことが望まれる。
くなればなるほど周波数の2乗に比例して増大する渦電
流損が支配的になる。従って高周波での使用を考慮した
場合、この渦電流損を小さく抑える必要が有り、この渦
電流損を小さくすることに上り鉄損を小さくすることが
できる。また一般(二鉄損増加率が大きい場合には、透
磁率は周波数の増加に伴ない低下する傾向があるが、高
周波領域でも透磁率の低下は小さいことが望まれる。
ここで前述の特公昭47−22514号公報等に示され
たような方法では、高透磁率、高飽和磁束密度等の効果
を得ることはできるものの、例えば10KHzを超える
ような高周波領域での低鉄損、高透磁率を得ることは困
難であった。これは上記方法が磁性粉と樹脂を混合した
後圧縮成形して製造していたため、磁性粉の表面を覆う
高分子層の厚さが不拘−吃;なり易く、磁性粉相互間を
十分(二電気的に絶縁することができなかったためと考
えられる。またこのような絶縁を良好にするためには混
合する樹脂の量を多くすることが考えられるが。
たような方法では、高透磁率、高飽和磁束密度等の効果
を得ることはできるものの、例えば10KHzを超える
ような高周波領域での低鉄損、高透磁率を得ることは困
難であった。これは上記方法が磁性粉と樹脂を混合した
後圧縮成形して製造していたため、磁性粉の表面を覆う
高分子層の厚さが不拘−吃;なり易く、磁性粉相互間を
十分(二電気的に絶縁することができなかったためと考
えられる。またこのような絶縁を良好にするためには混
合する樹脂の量を多くすることが考えられるが。
すると磁性粉の量が少なくなり、又、磁性粉間の磁気抵
抗が必要以上(二大きくなり、磁束密度の低下等、磁気
特性が低下してしまう。
抗が必要以上(二大きくなり、磁束密度の低下等、磁気
特性が低下してしまう。
従っていか(=効率良くかつ良好迄二磁性粉間を絶縁す
るかが問題となっていた。
るかが問題となっていた。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、透磁率の
周波数特性に優れ、磁束密度の高い鉄心の製造方法を提
供することを目的とする。
周波数特性に優れ、磁束密度の高い鉄心の製造方法を提
供することを目的とする。
本発明は金属磁性粉と高分子エマルジョンとを接触させ
た後(二乾燥し前記磁性粉表面に絶縁層を形成する第1
の工程と、前記磁性粉を圧縮成形する第2の工程とを具
備したことを特徴とする鉄心の製造方法である。
た後(二乾燥し前記磁性粉表面に絶縁層を形成する第1
の工程と、前記磁性粉を圧縮成形する第2の工程とを具
備したことを特徴とする鉄心の製造方法である。
本発明者等が前記目的を達成するために鋭意研究を進め
た結果、磁性粉と高分子エマルジョンとを接触させ、磁
性粉表面にポリマー粒子を付着せしめた後(二乾燥し、
ポリマー粒子をフィルム化すること;二より、効率良く
良好な絶縁層を形成することができる−ことが見出され
た。このような磁性粉を用い圧縮成形して得られた鉄心
は磁束密度が高く、鉄損が小さく、透磁率の周波数特性
ζ二優れたものとなる。
た結果、磁性粉と高分子エマルジョンとを接触させ、磁
性粉表面にポリマー粒子を付着せしめた後(二乾燥し、
ポリマー粒子をフィルム化すること;二より、効率良く
良好な絶縁層を形成することができる−ことが見出され
た。このような磁性粉を用い圧縮成形して得られた鉄心
は磁束密度が高く、鉄損が小さく、透磁率の周波数特性
ζ二優れたものとなる。
本発明で用いられる磁性粉としては、純鉄粉。
Fe−8i合金粉(Fe −3% 8を合金粉など)、
F6−人4合金粉、F6−8i−人!合金粉、Fe−N
1合金粉。
F6−人4合金粉、F6−8i−人!合金粉、Fe−N
1合金粉。
Pa−Co・合金粉、 Fe基あるいはCo基非晶質合
金等が例示されるが、この他にも従来から鉄心材料とし
て用いられているものであればいかなるものを使用して
もよい1 これらの磁性粉は単独で又は混合系で使用さ
れる。
金等が例示されるが、この他にも従来から鉄心材料とし
て用いられているものであればいかなるものを使用して
もよい1 これらの磁性粉は単独で又は混合系で使用さ
れる。
上記した磁性粉の固有電気抵抗率は、高々10μΩ・α
から数十μΩ・cm>x度である。したがって、表皮効
果が生じる高い周波数成分を含む交流電流で励磁する場
合においても充分に良好な特性を有する鉄心とするため
には、これらの磁性粉を微細な粒子として、粒子表面か
ら粒子内部まで充分磁化に寄与せしめなければならない
。このため、数十KHz程度までの周波数成分を含む電
流二より励磁され、その周波数帯域までの透磁率特性が
要求される鉄心を得るためには、平均粒径が300μm
以下の磁性粉を用いることが好ましい。また100KH
z以上の周波数成分を含む電流(二より励磁され、その
周波数帯域までの透磁率特性が要求される鉄心を得るた
めには、平均粒径が100μm以下の磁性粉を用いるこ
とが好ましい。一方平均粒径が極めて小さくなると、通
常の成形圧力(1000MPa以下)を加えて圧縮成形
しただけでは得られる鉄心の密度が大きくならずに磁束
密度の低下を招くことから、磁性粉の平均粒径は10μ
m以上であることが好ましい。
から数十μΩ・cm>x度である。したがって、表皮効
果が生じる高い周波数成分を含む交流電流で励磁する場
合においても充分に良好な特性を有する鉄心とするため
には、これらの磁性粉を微細な粒子として、粒子表面か
ら粒子内部まで充分磁化に寄与せしめなければならない
。このため、数十KHz程度までの周波数成分を含む電
流二より励磁され、その周波数帯域までの透磁率特性が
要求される鉄心を得るためには、平均粒径が300μm
以下の磁性粉を用いることが好ましい。また100KH
z以上の周波数成分を含む電流(二より励磁され、その
周波数帯域までの透磁率特性が要求される鉄心を得るた
めには、平均粒径が100μm以下の磁性粉を用いるこ
とが好ましい。一方平均粒径が極めて小さくなると、通
常の成形圧力(1000MPa以下)を加えて圧縮成形
しただけでは得られる鉄心の密度が大きくならずに磁束
密度の低下を招くことから、磁性粉の平均粒径は10μ
m以上であることが好ましい。
第1の工程について説明する。
第1の工程ではまず磁性粉と高分子エマルジョンとを接
触させる。この工程で用いられるエマルジョンは、水あ
るいは水−アルコール、水−7セトンなどの分散媒中シ
ニ、微細な球形ポリマー粒子が分散したものである。こ
れらのポリマー粒子は、側光ばエデレン、スチレン、ブ
タジェン、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、およびそ
れらの誘導体のうち、いずれか1糧のモノマーの重合体
、あるいは2種以上のモノマーの共重合体である。した
がって、これらのポリマー粒子の例としては、ポリエチ
レン、ポリスチレン、ポリブタジェン。
触させる。この工程で用いられるエマルジョンは、水あ
るいは水−アルコール、水−7セトンなどの分散媒中シ
ニ、微細な球形ポリマー粒子が分散したものである。こ
れらのポリマー粒子は、側光ばエデレン、スチレン、ブ
タジェン、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、およびそ
れらの誘導体のうち、いずれか1糧のモノマーの重合体
、あるいは2種以上のモノマーの共重合体である。した
がって、これらのポリマー粒子の例としては、ポリエチ
レン、ポリスチレン、ポリブタジェン。
ポリビニルトルエン、ポリインプレン、ポリクロロプレ
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エチル、スチレン
−ブタジェン共11合体、スチ、レンーメtルメタクリ
ンート共重合体などを挙げることができる。エマルジョ
ン中(二は以上のようなポリマー粒子の少なくとも1種
類以上が分散している。
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エチル、スチレン
−ブタジェン共11合体、スチ、レンーメtルメタクリ
ンート共重合体などを挙げることができる。エマルジョ
ン中(二は以上のようなポリマー粒子の少なくとも1種
類以上が分散している。
また、これらのポリマー粒子の直径は一般にほぼ均一で
あるが、本発明に用いるエマルジョン中では、最大の粒
子でも10μm以下であることが望ましい。その理由は
、これらのポリマー粒子がフィルム化し、金属磁性粉間
の絶縁層となった場合に、その絶縁層の厚さが10μm
以下であることが望ましいこと(二よる。この厚さを越
えた絶縁層は、金属磁性粉間の磁気抵抗を必要以上(=
増加させ、結果として励磁力1oooo vmの磁束密
度がフェライ゛トと同等かそれ以下になってしまう。
あるが、本発明に用いるエマルジョン中では、最大の粒
子でも10μm以下であることが望ましい。その理由は
、これらのポリマー粒子がフィルム化し、金属磁性粉間
の絶縁層となった場合に、その絶縁層の厚さが10μm
以下であることが望ましいこと(二よる。この厚さを越
えた絶縁層は、金属磁性粉間の磁気抵抗を必要以上(=
増加させ、結果として励磁力1oooo vmの磁束密
度がフェライ゛トと同等かそれ以下になってしまう。
このような高分子エマルジョンと磁性粉とを接触させる
方法であるが、磁性粉表面(:ポリマー粒子が付着すれ
ば良く1例えば磁性粉を攪拌しているところへエマルジ
ョンを滴下あるいはスプレーする方法、エマルジョン中
に金属磁性粉を入れて攪拌したのち金属磁性粉をひき上
げる方法等が挙げられる。エマルジョン中のポリマー粒
子は表面電荷密度が高く、磁性粉と接触させることで磁
性粉表面;:1〜数層付着する。従って後で乾燥するこ
と(二より、薄くかつ均質な絶縁膜を形成することがで
きる。なおエマルジョン中のポリマー粒子濃度は適宜数
−〜数十嗟に調整して用いれば良い。
方法であるが、磁性粉表面(:ポリマー粒子が付着すれ
ば良く1例えば磁性粉を攪拌しているところへエマルジ
ョンを滴下あるいはスプレーする方法、エマルジョン中
に金属磁性粉を入れて攪拌したのち金属磁性粉をひき上
げる方法等が挙げられる。エマルジョン中のポリマー粒
子は表面電荷密度が高く、磁性粉と接触させることで磁
性粉表面;:1〜数層付着する。従って後で乾燥するこ
と(二より、薄くかつ均質な絶縁膜を形成することがで
きる。なおエマルジョン中のポリマー粒子濃度は適宜数
−〜数十嗟に調整して用いれば良い。
エマルジョンと磁性粉を接触させた後乾燥するが、この
乾燥により、エマルジョンを構成していた溶媒の蒸発と
ともにポリマー粒子がフィルム化し、絶縁層を形成する
。これは、例えば集合したポリマー粒子が粒子間隙に残
存する分散媒::よって生じた毛細管圧により変形し融
着するためと考えられる。
乾燥により、エマルジョンを構成していた溶媒の蒸発と
ともにポリマー粒子がフィルム化し、絶縁層を形成する
。これは、例えば集合したポリマー粒子が粒子間隙に残
存する分散媒::よって生じた毛細管圧により変形し融
着するためと考えられる。
前記の乾燥は、大気中100C以下の温度で放置するの
が最も一容易な方法であるが、鉄心製造工程を短縮化す
るため;ニガス気流中や減圧化で行なっても良い。さら
;二、融着したフィルム層と金属磁性粉との密着性を高
めるため);、乾燥後の金属磁性粉に200C以下程度
の熱処理を施してもよい。
が最も一容易な方法であるが、鉄心製造工程を短縮化す
るため;ニガス気流中や減圧化で行なっても良い。さら
;二、融着したフィルム層と金属磁性粉との密着性を高
めるため);、乾燥後の金属磁性粉に200C以下程度
の熱処理を施してもよい。
この場合の熱処理時間は1時間以内で十分である。
前述の磁性粉と高分子エマルジョンの接触の際、磁性粉
に表面処理剤を添加しておくとポリマー粒子の付着をさ
ら(二分散性良く行なわせることができる。表面処理剤
としてはチタン系カップリング剤、シラン系カップリン
グ剤、アルミニウム系カップリング剤のカップリング剤
が挙げられる。他にもインジウム系、クロム系、ジルコ
ニウム系等のカップリング剤等が挙げられる。なおこれ
らの添加量は磁性粉の0.3〜5 vo1%で良い。
に表面処理剤を添加しておくとポリマー粒子の付着をさ
ら(二分散性良く行なわせることができる。表面処理剤
としてはチタン系カップリング剤、シラン系カップリン
グ剤、アルミニウム系カップリング剤のカップリング剤
が挙げられる。他にもインジウム系、クロム系、ジルコ
ニウム系等のカップリング剤等が挙げられる。なおこれ
らの添加量は磁性粉の0.3〜5 vo1%で良い。
チタン系カップリング剤は、加水分解され易い少なくと
も一つの基(6)と、加水分解され(=<<親油性を示
す少なくとも一つの基(イ)とが、チタン原子(T+)
に結合して成るチタン化合物であり、Rm −T I
−Xn (m+ n=4,6.1≦m≦4)の一般式
で表わされる。加水分解され易い基Bとしては、例えば
モノアルコキシ基、オキシ酢酸の残基、エチレングリコ
ールの残基等があり、Xは炭化水素等を有する1一種あ
るいは数種の親油性の基である。チタン系カップリング
剤としては例えば、イソプロピルトリ(N−アミノエテ
ル−アミノエテル)チタネート、イソプロピルトリイソ
ステアロイルチタネート、4−アミンベンゼンスルホニ
ルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタネート、テ
トラ(2,2ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス
(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラオク
チルビス(ジトリデシルホスファイト)f−タネート、
ジクミフェニルオキシアセテートチタネート等が挙げら
れる。
も一つの基(6)と、加水分解され(=<<親油性を示
す少なくとも一つの基(イ)とが、チタン原子(T+)
に結合して成るチタン化合物であり、Rm −T I
−Xn (m+ n=4,6.1≦m≦4)の一般式
で表わされる。加水分解され易い基Bとしては、例えば
モノアルコキシ基、オキシ酢酸の残基、エチレングリコ
ールの残基等があり、Xは炭化水素等を有する1一種あ
るいは数種の親油性の基である。チタン系カップリング
剤としては例えば、イソプロピルトリ(N−アミノエテ
ル−アミノエテル)チタネート、イソプロピルトリイソ
ステアロイルチタネート、4−アミンベンゼンスルホニ
ルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタネート、テ
トラ(2,2ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス
(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラオク
チルビス(ジトリデシルホスファイト)f−タネート、
ジクミフェニルオキシアセテートチタネート等が挙げら
れる。
またシラン系カップリング剤は
(CH,)、。
(RO)、−8i−X (n=2.3 )の一般式
で示されるシラン化合物である。ROはアルコキン基で
、これは例えばメトキシ基、エトキシ基があり、Xはエ
ポキシ基9、メタクリル基。
で示されるシラン化合物である。ROはアルコキン基で
、これは例えばメトキシ基、エトキシ基があり、Xはエ
ポキシ基9、メタクリル基。
アミノ基等を有する有機官能基である。シラン系カップ
リング剤としては例えば、r−アミノプロピルトリエト
キシシラン、r−グリシドキンプロピルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキ。
リング剤としては例えば、r−アミノプロピルトリエト
キシシラン、r−グリシドキンプロピルトリメトキシシ
ラン、β−(3,4−エポキ。
ジシクロヘキシル)エテルトリメトキシシラン。
N−β(アミノエテル)−r−アミノブロピルメチルジ
メトキンシラン等が挙げられる。
メトキンシラン等が挙げられる。
以上説明した%xの工程で得られた絶縁層を有する磁性
体を用い、本発明率2の工程では圧縮成形により所望の
形状の鉄心を製造する。すなわち、成形用金型に磁性粉
を充填して、 1000MPa+以下程度の工業的に容
易な圧力で圧縮成形すれば良い。
体を用い、本発明率2の工程では圧縮成形により所望の
形状の鉄心を製造する。すなわち、成形用金型に磁性粉
を充填して、 1000MPa+以下程度の工業的に容
易な圧力で圧縮成形すれば良い。
得られた鉄心には、必要に応じて300 C以下程度の
熱処理を施してもよい。この熱処理を施すと絶縁層が隣
接する他の磁性粉表面の絶縁層と一体化し、鉄心全体の
機械的強度を向上させることができる。
熱処理を施してもよい。この熱処理を施すと絶縁層が隣
接する他の磁性粉表面の絶縁層と一体化し、鉄心全体の
機械的強度を向上させることができる。
以上のよう(二して得られた鉄心は、磁性体が数μm以
下程度の薄い絶縁体層で均一1=覆われている゛。従っ
て磁性粉間の十分な絶縁性を少量の絶縁物で確保するこ
とができる。よって鉄心の密度が高く、高い磁束密度を
維持することができ、かつ磁性粉粒子間の電気絶縁性が
高いため、鉄心全体の交流磁化(;対する渦電流損が極
めて少なくなり、ひいては鉄損も少なくなる。このため
、該鉄心(:あっては、高周波帯域で使用しても鉄損が
少ないため発熱等の問題はさほどなく、また、実効透磁
率の低下が小さい。
下程度の薄い絶縁体層で均一1=覆われている゛。従っ
て磁性粉間の十分な絶縁性を少量の絶縁物で確保するこ
とができる。よって鉄心の密度が高く、高い磁束密度を
維持することができ、かつ磁性粉粒子間の電気絶縁性が
高いため、鉄心全体の交流磁化(;対する渦電流損が極
めて少なくなり、ひいては鉄損も少なくなる。このため
、該鉄心(:あっては、高周波帯域で使用しても鉄損が
少ないため発熱等の問題はさほどなく、また、実効透磁
率の低下が小さい。
また、本発明製造方法では、金属磁性粉表面に高分子層
を設けるのに通常必要とされる樹脂の混線等のための特
別な装置を必要としない。
を設けるのに通常必要とされる樹脂の混線等のための特
別な装置を必要としない。
更に、圧縮成形工程においては、磁性体の表面は柔軟な
高分子層で覆われているため、表面に凹凸があり硬度の
高い磁性粉相互間の摩擦が緩和され、成形体充填率が向
上するととも)二、圧縮成形後の梨からの抜き圧が減少
するという利点もある。
高分子層で覆われているため、表面に凹凸があり硬度の
高い磁性粉相互間の摩擦が緩和され、成形体充填率が向
上するととも)二、圧縮成形後の梨からの抜き圧が減少
するという利点もある。
以上説明したよう(二本発明によれば、少量の絶縁物で
良好に磁性粉間の絶縁が確保されるため、磁束密度が高
く、鉄損が小さく、透磁率の周波数特性に優れた奴心を
得ることができる。特;;数十KHz以上の高周波域で
の使用(二適した鉄心を製造するのに好適である。
良好に磁性粉間の絶縁が確保されるため、磁束密度が高
く、鉄損が小さく、透磁率の周波数特性に優れた奴心を
得ることができる。特;;数十KHz以上の高周波域で
の使用(二適した鉄心を製造するのに好適である。
・本発明の実施例を以下(二説明する。
(実施例1)
磁性粉として平均粒径54μmのre −1% st合
金粉1009−を攪拌しながら、その中へ平均直径0.
2μmのポリスチレン粒子含有量10重量饅の水を溶媒
とする高分子エマルジョン0.25ccを滴下した。こ
の合金粉を室温で24時間放置して乾燥し、その後大気
中180Cで0.5時間加熱した。合金粉表面を走査量
電子顕微鏡(sgM)で観察したところ、合金粉表面は
ほぼ全面にわたって多孔質フィルム状の高分子に覆われ
ていることが確認された。
金粉1009−を攪拌しながら、その中へ平均直径0.
2μmのポリスチレン粒子含有量10重量饅の水を溶媒
とする高分子エマルジョン0.25ccを滴下した。こ
の合金粉を室温で24時間放置して乾燥し、その後大気
中180Cで0.5時間加熱した。合金粉表面を走査量
電子顕微鏡(sgM)で観察したところ、合金粉表面は
ほぼ全面にわたって多孔質フィルム状の高分子に覆われ
ていることが確認された。
この合金粉のうち20 fを成形用金温(=充填し、6
00 MP、の圧力で圧縮成形し、鉄心とした。このと
き、金温からの抜き圧は1000 klと測定された。
00 MP、の圧力で圧縮成形し、鉄心とした。このと
き、金温からの抜き圧は1000 klと測定された。
(実施例2)
磁性粉として平均粒径54μmのFe −154!9i
合金粉1009−に対してチタン系カップリング剤(イ
ソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート ブ
タネート)を1体積チ添加し、十分攪拌した。次;;直
径0゜2μmのポリスチレン粒子含有量10重量%の水
を溶媒とする高分子エマルジョンQ、25ccを滴下し
、十分攪拌した。この合金粉を室温で冴時間放置して乾
燥した後、大気中180Cで0.5時間加熱した。
合金粉1009−に対してチタン系カップリング剤(イ
ソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート ブ
タネート)を1体積チ添加し、十分攪拌した。次;;直
径0゜2μmのポリスチレン粒子含有量10重量%の水
を溶媒とする高分子エマルジョンQ、25ccを滴下し
、十分攪拌した。この合金粉を室温で冴時間放置して乾
燥した後、大気中180Cで0.5時間加熱した。
得られた合金粉のうち、209−を成形用金型C:充填
し、600MPaの圧力で圧縮成形し、鉄心とした。
し、600MPaの圧力で圧縮成形し、鉄心とした。
(実施例3)
磁性粉として平均粒径250μmのFe−3%人1合金
粉100?を最大粒径5μmのスチレンブタジェン共重
合体の粉子5重量%含有の水−アルコール溶媒の高分子
エマルジョン中:二人れて攪拌した後、合金粉をひき上
げた。この合金粉を50Cで6時間乾燥した。得られた
合金粉を成形用金型に充填し。
粉100?を最大粒径5μmのスチレンブタジェン共重
合体の粉子5重量%含有の水−アルコール溶媒の高分子
エマルジョン中:二人れて攪拌した後、合金粉をひき上
げた。この合金粉を50Cで6時間乾燥した。得られた
合金粉を成形用金型に充填し。
600 MPaの圧力で圧縮成形し、鉄心とした。
(実施例4)
最大粒径ルμmのスチレンブタジェン共重合体粒子5重
量%含有の水−アルコール溶媒の高分子エマルジョンを
使用した他は、実施例3と同様にして鉄心を作成した。
量%含有の水−アルコール溶媒の高分子エマルジョンを
使用した他は、実施例3と同様にして鉄心を作成した。
(比較例1,2)
平均粒径54μmのFe −1%81合金粉およびFe
−3チλJ合金粉をそれぞれ実施例と同様の成形用金型
に充填し、500MPaの圧力で圧縮成形すること(;
より鉄心を得た。それぞれを比較例1.比較例2とする
。比較例1の圧縮成形の際の金型からの抜き圧は、実施
例1の圧縮成形と全く同様の条件でありながら、250
0に#と高い値であった。
−3チλJ合金粉をそれぞれ実施例と同様の成形用金型
に充填し、500MPaの圧力で圧縮成形すること(;
より鉄心を得た。それぞれを比較例1.比較例2とする
。比較例1の圧縮成形の際の金型からの抜き圧は、実施
例1の圧縮成形と全く同様の条件でありながら、250
0に#と高い値であった。
(比較例3)
平均粒径54μmのFe−1%8i合金粉に150メツ
シユパスの粉体樹脂(ポリアミド樹脂)を15体積チ混
合し、これを比較例1,2と同様にして圧縮成形し鉄心
とした。
シユパスの粉体樹脂(ポリアミド樹脂)を15体積チ混
合し、これを比較例1,2と同様にして圧縮成形し鉄心
とした。
特性の測定
上記の実施例および比較例で得られた鉄心の100KH
zからIMHzの高周波帯域における初透磁率特性を測
定した。また、励磁力10000人/mに対する磁束密
度を測定した。さらに、100KHz0.05 ’r
l二おける実効透磁率と鉄損をU関数計を用いて測定し
た。
zからIMHzの高周波帯域における初透磁率特性を測
定した。また、励磁力10000人/mに対する磁束密
度を測定した。さらに、100KHz0.05 ’r
l二おける実効透磁率と鉄損をU関数計を用いて測定し
た。
第1図に100KHzでの初透磁率を100%としたと
きの各周波数での比透磁率の比を図示したが、図中の曲
線人は実施例21曲線Bは比較例19曲線Cは比較例3
の変化を示している。本発明の鉄心の初透磁率の低下は
、比較例と比べて非常に小さく、測定範囲内:二おいて
はほとんど変化がなかった。また、実施例1.3および
4の鉄心は実施例2には劣るものの、いずれも初透磁率
の低下は小さかった。しかし、比較例2の鉄心は比較例
1よりもさらに低下が大きかった。
きの各周波数での比透磁率の比を図示したが、図中の曲
線人は実施例21曲線Bは比較例19曲線Cは比較例3
の変化を示している。本発明の鉄心の初透磁率の低下は
、比較例と比べて非常に小さく、測定範囲内:二おいて
はほとんど変化がなかった。また、実施例1.3および
4の鉄心は実施例2には劣るものの、いずれも初透磁率
の低下は小さかった。しかし、比較例2の鉄心は比較例
1よりもさらに低下が大きかった。
本発明実施例1,2の鉄心は、励磁力10000人/m
t:対して0.9 T以上、また実施例3の鉄心でも
0.6 T以上あり、フェライトに比べて高磁束密度を
有しており、実施例4の鉄心では0,4Tであり、フェ
ライトと同等であった。すなわちいずれもフェライトと
同等以上の高磁束密度を有していた。
t:対して0.9 T以上、また実施例3の鉄心でも
0.6 T以上あり、フェライトに比べて高磁束密度を
有しており、実施例4の鉄心では0,4Tであり、フェ
ライトと同等であった。すなわちいずれもフェライトと
同等以上の高磁束密度を有していた。
また、第1表ζ二は、U関数計で測定した鉄心の100
KHz、0.05Tでの特性を示したが、本発明実施例
の優位さが明らかである。
KHz、0.05Tでの特性を示したが、本発明実施例
の優位さが明らかである。
第1表
以上のように本発明実施例の鉄心は、高磁束密度を有し
ていながら、しかも高周波帯域においても透磁率低下が
非常(二手さい。これは本発明実施例の鉄心中の金属磁
性粉間の絶縁が良好であり。
ていながら、しかも高周波帯域においても透磁率低下が
非常(二手さい。これは本発明実施例の鉄心中の金属磁
性粉間の絶縁が良好であり。
鉄損が小さく抑えられていることによる。
さら(二実施例1の鉄心と同様にして板状試験片を圧縮
成形して作成した。試験片のうち1本はそのままでまた
1本七言200Cで1時間加熱した後(=曲げ試験を行
なったところ、加熱した試験片の方が伸びが1.5倍以
上も増加していた。このようC二圧縮成形後熱処理を加
えることにより、機械的強度が向上する。
成形して作成した。試験片のうち1本はそのままでまた
1本七言200Cで1時間加熱した後(=曲げ試験を行
なったところ、加熱した試験片の方が伸びが1.5倍以
上も増加していた。このようC二圧縮成形後熱処理を加
えることにより、機械的強度が向上する。
以上のごとく本発明による鉄心は磁気特性、特に高周波
域での磁気特性(二優れ、工業上非常に有効である。
域での磁気特性(二優れ、工業上非常に有効である。
第1図は透磁率の周波数特性図。
Claims (3)
- (1)金属磁性粉と高分子エマルジョンとを接触させた
後に乾燥し前記磁性粉表面に絶縁層を形成する第1の工
程と、前記磁性粉を圧縮成形する第2の工程とを具備し
たことを特徴とする鉄心の製造方法。 - (2)前記高分子エマルジョン中のポリマー粒子は、エ
チレン、スチレン、ブタジエン、酢酸ビニル、アクリル
酸エステル及びこれらの誘導体の重合体または共重合体
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の鉄
心の製造方法。 - (3)前記高分子エマルジョン中のポリマー粒子の粒径
が10μm以下であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の鉄心の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60137941A JPH0740528B2 (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 鉄心の製造方法 |
EP19860104746 EP0205786B1 (en) | 1985-06-26 | 1986-04-08 | Magnetic core and preparation thereof |
DE8686104746T DE3668722D1 (de) | 1985-06-26 | 1986-04-08 | Magnetkern und herstellungsverfahren. |
US06/852,719 US4696725A (en) | 1985-06-26 | 1986-04-16 | Magnetic core and preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60137941A JPH0740528B2 (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 鉄心の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61296704A true JPS61296704A (ja) | 1986-12-27 |
JPH0740528B2 JPH0740528B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=15210278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60137941A Expired - Fee Related JPH0740528B2 (ja) | 1985-06-26 | 1985-06-26 | 鉄心の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0740528B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021102A (ja) * | 1988-06-07 | 1990-01-05 | Kurieiteitsuku Japan:Kk | 磁性担体およびその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS494197A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-01-14 | ||
JPS55130103A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-08 | Tohoku Metal Ind Ltd | Process for producing dust magnetic material |
JPS601816A (ja) * | 1983-05-05 | 1985-01-08 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 鉄粉コア磁気装置 |
-
1985
- 1985-06-26 JP JP60137941A patent/JPH0740528B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS494197A (ja) * | 1972-05-01 | 1974-01-14 | ||
JPS55130103A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-08 | Tohoku Metal Ind Ltd | Process for producing dust magnetic material |
JPS601816A (ja) * | 1983-05-05 | 1985-01-08 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 鉄粉コア磁気装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH021102A (ja) * | 1988-06-07 | 1990-01-05 | Kurieiteitsuku Japan:Kk | 磁性担体およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0740528B2 (ja) | 1995-05-01 |
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |