JPS61296592A - 半導体メモリ装置 - Google Patents

半導体メモリ装置

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JPS61296592A
JPS61296592A JP60138824A JP13882485A JPS61296592A JP S61296592 A JPS61296592 A JP S61296592A JP 60138824 A JP60138824 A JP 60138824A JP 13882485 A JP13882485 A JP 13882485A JP S61296592 A JPS61296592 A JP S61296592A
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memory chip
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memory device
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Kazuo Terada
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、小型で大容量のメモリ装置を構成するのに適
した半導体メモリ装置に関する。
(従来技術およびその問題点) 大容量半導体メモリ装置は、チップを同一規格のケース
、例えば300ミル幅のデュアルインノ(ッケージ(D
IP)に収めるようにし、且つ1チツプあたいの収容情
報ビット数を増大させることくより、高集積化されて来
九。そのため、この半導体メモリ装置を複数個用いて構
成されたメモリ装置の実装密度はチップあたいの収容ビ
ット数の増大に比例して増大して来た。
ところが、従来の半導体メモリ装置では、ケースを限定
すると、それに従いメモリチップの最大寸法も決まって
しまう。そのためチップあたいの収容ビット数を増やす
には、その分1ビットの情報貯蔵に必要なメモリセルの
面積を小さくしなければならなかった。一方メモリセル
の寸法は、メモリセルから出力される信号を十分な値以
上に保つため、ある大きさ以下にできない。このことか
ら、半導体メモリチップを収めるケースを従来のままに
して、そのメモリチップに収容するビット数を増やすこ
とには限界があった。この限界は1メガビツトのメモリ
チップにおいてすでに問題となっている。例えば、技術
誌「日経エレクトロニクスJ 1984年6月4日号1
61ページや同誌1984年9月24日号255ページ
の海外技術速報では1メガビツトメモリのケース寸法を
大きくする問題が報じられている。ところが、ケース寸
法を大きくすることはこの半導体メモリ装置を複数個用
いて構成されたメモリ装置の実装密度を低下させてしま
う。
そこで、本発明の目的は、ケースの寸法を大きくしたり
、メモリセルの寸法を小さくしたりしなくても1ケース
あたいの収容ビット数を容易に増やすことのできる半導
体メモリ装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 前述の問題点を解決するために本発明が提供する手段は
、複数のビットからなるアドレスを入力し、そのアドレ
ンに対応した記憶素子の記憶データを出力する半導体メ
モリ装置であって、複数の前記ビットのうちの一部分が
予め指定された値である前記アドレスが入力されたとき
にだけ前記記憶データを出力することを特徴とする。
(実施例) 次に実施例を挙げ本発明を一層詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す回路図である。
この実施例において、符号11で示すブロックは従来の
半導体メモリ装置1チップ分に相当する。
そこで、第2図にその従来の半導体装置の入出力端子構
成を示し、その概要をまず説明する。第2図で、21は
従来のメモリチップ、VDD、 ()NDは電源供給端
子、At e AHe ””e Anはn本のアドレス
入力端子、Cgはチップ選択信号入力端子、WEは書き
込み読み出し制御信号入力端子、DXMは書き込みデー
タ入力端子、I)otrtは読み出しデータ出力端子を
それぞれ示す。(但し、これら端子符号は、以下の説明
では、これら端子の入出力信号の論理値を表す符号とし
ても用いる。)このメモリチップはCEとWEが高レベ
ルのとき、アドレスA11 A!#−・、入n のメモ
リセル(記憶素子)にDXIIの情報が書き込まれる。
C’Eが高、w13Xが低レベルのとき、アドレスAl
t At *・・・。
Anのメモリセルの内容がDOυテに出力され乙、。
CEが低レベルのときには0017?  は浮遊状態と
なる。
次に、第1図に示す本発明の一実施例の半導体メモリ装
置1チップ分につき説明する。この図の11は、前に述
べたとおり、第2図で示した従来例のメモリチップと同
一構成の部分である。不実施例のメモリチップ(破線で
囲まれた部分)12の構成は上記従来例のメモリチップ
構成部11に第1図に示された論理回路を付加したもの
である。
131.132は論理積演算子、141,142゜14
3.144はインバータ、151,152゜153.1
54,155はレーザによって切断できるフユーズ素子
(ここでは何らかの方法で永久的に状態を変えられる素
子のことをフェーズ素子と呼ぶ)をそれぞれ示す。An
+、 、 An+、は拡張したアドレスの入力端子をそ
れぞれ示す。このメモリチップはフユーズ素子155と
、151或いは152の一方と、153或いは154の
一方と、計37ユーズ素子を切断して使う。この場合、
このメモリチップは、切断したフユーズ素子に対応した
拡張アドレスのときにのみ選択され、デー久を出力でき
る。例えばフユーズ素子155,151゜153が切断
された場合、(AH+st An + 2 ) =(1
,0)のときにこのメモリチップが選択可能となる。
第1図に示した本発明の半導体メモリ装置の実施例では
、従来のメモリチップに付加した論理回路部が極めて小
さいから、これらの論理回路をチップ上に載せたとして
も、そのチップ寸法は従来のメモリチップの寸法と大差
なくできる。そのため同一寸法の半導体結晶基板上にく
り返して本実施例のメモリチップを作った場合、一枚の
基板から取れるチップ数は従来のメモリチップとそう変
わらない。その製造方法も従来のメモリチップのそれと
同じでおる。本実施例の半導体メモリ装置ではフユーズ
素子を必要としているが、最近の大容鷺半導体メモリ装
置では冗長構成を取っているものが多く、その冗長回路
にはフユーズ素子が必ず使われる。本発明の半導体メモ
リ装置で使うフユーズ素子として、冗長回路に使うフユ
ーズ素子と同じものを使うので、フユーズ素子を作るた
めの特別の製造工程はいらない。
以上のように従来のメモリチップと同様に作られた本実
施例のメモリチップは、やは妙従来のメモリチップと同
様の検査を受ける。フユーズ素子がまだ切断されていな
い時にはノード16は高レベルなのでアドレスAH+ 
1 * An +tにかかわらず、本実施例のメモリチ
ップは第2図の従来のメモリチップと同じ動作をする。
検査選別後、フユーズ素子を切断して完成した本実施例
のメモリチップは次のようにケースへ実装される。第3
図(a)〜(C)はその実装構造の一例を示す図である
。この図の12は本実施例のメモリチップ、32は実装
用のサブケース、33はサブケース32の上面から下面
につながった導電体電極、34はメモリチップ12と導
電体電極33をつなぐボンディングワイヤをそれぞれ示
す。
本図(a)はメモリチップ12がサブケース32に実装
された状態を上方の斜めから、(b)は下方の斜めから
見た図である。、第3図(C)は実装完成図である。こ
の図の32−1. 32−2. 32−3は同図(a)
(=b)で示されるメモリチップを実装したサブケース
、35はふた、36は32と同様なサブケースで、導電
体電極部にDIPの足37が付いたものをそれぞれ示す
。これら4サブケース32−1.32−2.32−3.
36は例えば拡散溶接を用いて本図(C)のように積み
重ねられる。本図の実装の例では4チツプが積み重ねら
れているが、これら4チツプのフユーズ素子は、それら
の拡張アドレス(An + B e An + t )
がそれぞれ(0,oL (o、1)、(1,0)、(1
,1)に対応するように切断される。その場合、実装が
゛完成した第3図(c)のメモリ装置は、アドレスがA
4 e AHe・・・t An十!となり、従来のメモ
リチップの4倍の記憶容量をもつメモリ装置となる。
通常り工Pの厚さは4〜5鵡、メモリチップの厚さは0
.1〜0.2mである。よって第3図(C)で示される
ようなケースの厚さは通常のDIPと同様にすることは
容易である。この平面的な寸法が通常のDIPと同様に
できることは上記の説明からも明らかである。
以上、実施例の回路を第1゛図に示し、この実施例を用
いたメモリ装置の実装方式を第3図に示したが、本発明
の半導体メモリ装置はこれに限ることはない。例えば、
実施例ではフユーズ素子としてレーザ切断ポリシリコン
を用いたが、これは電気的に切断する素子とか、逆に接
続する素子、読み出し専用メモリセルを用いたものでも
構わなiまた、従来のメモリチップとして第2図の例を
用いたが、これは他の構成のメモリチップでも構わない
。例えば、アドレス多重方式とか、データが2ビット以
上でも差支えない。
(発明の効果) 以上説明したように本発明の半導体メモリ装置では従来
のメモリ装置と同様の方法で製造、検査ができ、且つ従
来のメモリ装置と同じ大きさのケースに従来よりも多く
の記憶容量を収容することができ゛る。従って、本発明
によれば、ケースの寸法を従来より大きくしたり、メモ
リセルの寸法を従来より小さくしたりしなくても、1ケ
ース当りの収容ビット数が容易に増やせる半導体メモリ
装。
置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は従来
の半導体メモリ装置の入出力端子の構成を示す図、第3
図(a)〜(C)は第1図実施例の実装構造を示す斜視
図である。 11・・・従来のメモリテップと同じ構成部分、12・
・・実施例のメモリチップ、131,132・・・論理
積演算子、141〜144・・・インバータ、151〜
155・・・フユーズ素子、A4 t A4 t・・・
。 An、 An+1 t An +z  ”’アドレン入
力端子、VDDIGND・・・電源供給端子、Cm・・
・チップ選択信号入力端子、wg・・・書き込み読み出
し制御信号入力端子、Dxト・・畜き込みデータ入力端
子、I)oox・・・読み出しデータ出力端子。 代理人 弁理士 本 庄 伸 介 第1図 1Z メモリ手、プ 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  複数のビットからなるアドレスを入力し、そのアドレ
    スに対応した記憶素子の記憶データを出力する半導体メ
    モリ装置において、複数の前記ビットのうちの一部分が
    予め指定された値である前記アドレスが入力されたとき
    にだけ前記記憶データを出力することを特徴とする半導
    体メモリ装置。
JP13882485A 1985-06-25 1985-06-25 半導体メモリ装置 Expired - Lifetime JPH0715794B2 (ja)

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JP13882485A JPH0715794B2 (ja) 1985-06-25 1985-06-25 半導体メモリ装置

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JPS61296592A true JPS61296592A (ja) 1986-12-27
JPH0715794B2 JPH0715794B2 (ja) 1995-02-22

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05210577A (ja) * 1991-09-07 1993-08-20 Korea Electron Telecommun チップ選択端子対を備える半導体装置
JP2006172700A (ja) * 2004-12-10 2006-06-29 Samsung Electronics Co Ltd 低電力マルチチップ半導体メモリ装置及びそれのチップイネーブル方法
JP2008511927A (ja) * 2004-09-01 2008-04-17 マイクロン テクノロジー,インコーポレイテッド メモリ・スタック・システム及び方法

Cited By (4)

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US7864622B2 (en) 2004-12-10 2011-01-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Low power multi-chip semiconductor memory device and chip enable method thereof

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