JPS6129413A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
- Publication number
- JPS6129413A JPS6129413A JP15067984A JP15067984A JPS6129413A JP S6129413 A JPS6129413 A JP S6129413A JP 15067984 A JP15067984 A JP 15067984A JP 15067984 A JP15067984 A JP 15067984A JP S6129413 A JPS6129413 A JP S6129413A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- magnetic disk
- film layer
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、磁性金属薄膜層を記録媒体とする磁気ディ
スクに係り、ヘッドの摺動に対する耐久性が良く、良好
なコンタクトスタートストップ（Ｃ８Ｓ ）特性を有
する、（うにしたものである。
スクに係り、ヘッドの摺動に対する耐久性が良く、良好
なコンタクトスタートストップ（Ｃ８Ｓ ）特性を有
する、（うにしたものである。
いわゆる薄膜タイプの磁気ディスクのヘッドの摺動に対
する耐久性やＣ８Ｓ 特性を向上させるために、従来よ
り磁性層上に保護層および潤滑層を設けている。
する耐久性やＣ８Ｓ 特性を向上させるために、従来よ
り磁性層上に保護層および潤滑層を設けている。
上記保護層としては、通常ＳｉＯ□薄膜が用いられ、ス
パッタリング法などによって磁性層上に形成されている
。
パッタリング法などによって磁性層上に形成されている
。
しかしながら、このような保護層にあっては、保護層と
しての強度が十分でなく、保護効果が不十分であり、か
つ保護効果の持続性が短かいと云う欠点があった。また
、スパッタリング法によっているので、製造設備が大が
かりとなり、製造コストが嵩む欠点もあった。
しての強度が十分でなく、保護効果が不十分であり、か
つ保護効果の持続性が短かいと云う欠点があった。また
、スパッタリング法によっているので、製造設備が大が
かりとなり、製造コストが嵩む欠点もあった。
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、保護機
能を磁性金属薄膜層に持たせて保護層を不要とするとと
もに、保護効果が高く、かつ保護効果の持続性の良好な
磁気ディスクを提供することを目的とするものである。
能を磁性金属薄膜層に持たせて保護層を不要とするとと
もに、保護効果が高く、かつ保護効果の持続性の良好な
磁気ディスクを提供することを目的とするものである。
この発明の磁気ディスクは、磁性金属薄膜層に補強、潤
滑用の微粒子を分散せしめた嘱のである。
滑用の微粒子を分散せしめた嘱のである。
図面は、この発明の磁気ディスクを示すもので、図中符
号１は基板である。この基板１は、アルミニウム合金板
やセラミックス板などからなり、表面のうねシが少ない
ように加工されてなるものである。この基板１上には下
地メッキ層２が形成されている。この下地メッキ層２は
、基板１表面の微細な凹凸を平滑化するもので、例えば
無電解メッキ法によってＮｉ −Ｐメッキなどが厚み１
０〜３０μｍ程度に設けられてなるものである。この下
地メッキ層２の表面は、スーパーポリッシュなどによっ
て、表面粗さく Ｒｍａｘ ）０．１μｍ程度にまで研
磨仕上げられている。この下地メッキ層２上には磁性金
属薄膜層３が設けられている。磁性金属薄膜層３は、磁
気記録媒体となるもので、例えば無電解メッキ法によっ
て、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐメッキ、Ｃｏ−Ｐメッキなどが厚み
０．０５〜０．５μｍ程度に形成されてなるものである
。そして、この磁性金属薄膜層３中には、補強効果また
は潤滑効果を有する微粒子４・・・が分散されている。
号１は基板である。この基板１は、アルミニウム合金板
やセラミックス板などからなり、表面のうねシが少ない
ように加工されてなるものである。この基板１上には下
地メッキ層２が形成されている。この下地メッキ層２は
、基板１表面の微細な凹凸を平滑化するもので、例えば
無電解メッキ法によってＮｉ −Ｐメッキなどが厚み１
０〜３０μｍ程度に設けられてなるものである。この下
地メッキ層２の表面は、スーパーポリッシュなどによっ
て、表面粗さく Ｒｍａｘ ）０．１μｍ程度にまで研
磨仕上げられている。この下地メッキ層２上には磁性金
属薄膜層３が設けられている。磁性金属薄膜層３は、磁
気記録媒体となるもので、例えば無電解メッキ法によっ
て、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐメッキ、Ｃｏ−Ｐメッキなどが厚み
０．０５〜０．５μｍ程度に形成されてなるものである
。そして、この磁性金属薄膜層３中には、補強効果また
は潤滑効果を有する微粒子４・・・が分散されている。
この微粒子４は、その粒径が０．１μｍ以下のものであ
って、補強効果を有するものとしては、アルミナ（Ａｔ
２０３）、炭化ケイ素（ｓｉｃ）、窒化ケイ素（Ｓ１３
Ｎ４）、シリカ（Ｓ１０□）、ダイヤモンド（Ｃ）、カ
ーボン、’ｒｉｃｈｗｃ％ＳｉＣ％Ｂ Ｃ、ＭＯ２Ｃ％
Ｃｒ３Ｃ２、ＴｉＮ％ＢＮ％ＷＳ１゜、Ｔ１Ｂ２、Ｃｒ
Ｂ２、ＭＯ＆Ａ７．２０３、ｚｒＯ２などの高強度材料
の微粒子が、また潤滑効果を有するものとしてはボロン
ナイトライド（ＢＮ）、二硫化モリブデン（ＭｏＳ２）
、炭素微粒子（グラファイト）などの摩擦係数の小さい
材料の微粒子が用いられる。これら微粒子４は単独でも
よく、２種以上任意の割合で混合してもよく、さらには
補強効果のあるものと潤滑効果のあるものとを混合して
メッキ層中に分散混入せしめてもよい。これらの微粒子
４・・・は、図面に示したように、その一部が磁性金属
薄膜層３の表面から部分的に突出した状態で分散せしめ
られており、一部の微粒子４・・・は、さらに後述の潤
滑層５を貫通して磁気ディスクの表面に露出しているも
のもある。また、微粒子４・・・の磁性金属薄膜層３中
の分散量（混入量）は表面１′ｍｍ２当９１０２〜１０
４個程度とされる。表面（ｔｕｇ２当シ１０２個未満で
は十分な補強効果を得ることができず、また１０４個を
越えると、磁性金属薄膜層３としての媒体欠陥として信
号の質や記録の信頼性が低下するため不都合となる。
って、補強効果を有するものとしては、アルミナ（Ａｔ
２０３）、炭化ケイ素（ｓｉｃ）、窒化ケイ素（Ｓ１３
Ｎ４）、シリカ（Ｓ１０□）、ダイヤモンド（Ｃ）、カ
ーボン、’ｒｉｃｈｗｃ％ＳｉＣ％Ｂ Ｃ、ＭＯ２Ｃ％
Ｃｒ３Ｃ２、ＴｉＮ％ＢＮ％ＷＳ１゜、Ｔ１Ｂ２、Ｃｒ
Ｂ２、ＭＯ＆Ａ７．２０３、ｚｒＯ２などの高強度材料
の微粒子が、また潤滑効果を有するものとしてはボロン
ナイトライド（ＢＮ）、二硫化モリブデン（ＭｏＳ２）
、炭素微粒子（グラファイト）などの摩擦係数の小さい
材料の微粒子が用いられる。これら微粒子４は単独でも
よく、２種以上任意の割合で混合してもよく、さらには
補強効果のあるものと潤滑効果のあるものとを混合して
メッキ層中に分散混入せしめてもよい。これらの微粒子
４・・・は、図面に示したように、その一部が磁性金属
薄膜層３の表面から部分的に突出した状態で分散せしめ
られており、一部の微粒子４・・・は、さらに後述の潤
滑層５を貫通して磁気ディスクの表面に露出しているも
のもある。また、微粒子４・・・の磁性金属薄膜層３中
の分散量（混入量）は表面１′ｍｍ２当９１０２〜１０
４個程度とされる。表面（ｔｕｇ２当シ１０２個未満で
は十分な補強効果を得ることができず、また１０４個を
越えると、磁性金属薄膜層３としての媒体欠陥として信
号の質や記録の信頼性が低下するため不都合となる。
磁性金属薄膜層３上には、必要に応じて潤滑層５が設け
られる。潤滑層５には、例えばポリフッ化エーテルなど
の潤滑剤を０．０１μｍ程度の厚さに塗布することによ
って形成される。
られる。潤滑層５には、例えばポリフッ化エーテルなど
の潤滑剤を０．０１μｍ程度の厚さに塗布することによ
って形成される。
このような構造の磁気ディスクにあっては、磁性金属薄
膜層３が例えば金属メッキ層をマトリックスとし、これ
に微粒子４・・・が分散されてなるものであるので、微
粒子４・・・の混入によって磁性金属薄膜層３自体の機
械的強度が高くなり、表面の見掛けの摩擦係数が小さく
なる。よって、磁気ヘッドによる磁性金属薄膜層３表面
の摩擦や機械的衝撃を微粒子が受けとめ、磁性金属薄膜
層３の摩耗が低減し、磁気ヘッドに対する耐久力、耐久
性が大きく向上し、ＣＳＳ 特性も向上する。よって
、従来のもののように保護層をわざわざ設ける必要がな
く１製造コストも安価ですむ。また磁性金属薄膜層３表
面に部分的に露出している微粒子４・・・の周辺には微
少な凹部が生じ、この凹部に潤滑層５をなす潤滑剤が溜
り、このため潤滑剤の保持性が向上する。
膜層３が例えば金属メッキ層をマトリックスとし、これ
に微粒子４・・・が分散されてなるものであるので、微
粒子４・・・の混入によって磁性金属薄膜層３自体の機
械的強度が高くなり、表面の見掛けの摩擦係数が小さく
なる。よって、磁気ヘッドによる磁性金属薄膜層３表面
の摩擦や機械的衝撃を微粒子が受けとめ、磁性金属薄膜
層３の摩耗が低減し、磁気ヘッドに対する耐久力、耐久
性が大きく向上し、ＣＳＳ 特性も向上する。よって
、従来のもののように保護層をわざわざ設ける必要がな
く１製造コストも安価ですむ。また磁性金属薄膜層３表
面に部分的に露出している微粒子４・・・の周辺には微
少な凹部が生じ、この凹部に潤滑層５をなす潤滑剤が溜
り、このため潤滑剤の保持性が向上する。
次の仕様の磁気ディスクを試作し、そのＣ８Ｓ性を検討
した。
した。
基板１；アルミニウム合金厚み１．９朋下地メッキ禰２
；無電解Ｎｉ −Ｐメッキ厚み２０μｍ表面粗さく Ｒ
ｍａｘ ） ０．１μｍ以下に研磨仕上げ 磁性金属薄膜層３ ； Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐメッキ厚み
０．１μｍ中にアルミナ微粒 子（粒径０．０３μｍ）を表 面、ＩＢ２当９１０３個混合 分散した。
；無電解Ｎｉ −Ｐメッキ厚み２０μｍ表面粗さく Ｒ
ｍａｘ ） ０．１μｍ以下に研磨仕上げ 磁性金属薄膜層３ ； Ｃｏ −Ｎｉ −Ｐメッキ厚み
０．１μｍ中にアルミナ微粒 子（粒径０．０３μｍ）を表 面、ＩＢ２当９１０３個混合 分散した。
潤滑層５；パーフロロポリエーテルヲ０．０１μｍに塗
布した。
布した。
この磁気ディスクのＣ８Ｓ 性を測定したところ、１０
回であった。
回であった。
比較のため、保護層としてスパッタリング法によってＳ
ｉＯ２を０．０５μｍの厚さに堆積せしめた磁気ディス
クについて、同様にＣ８Ｓ 性を測定したところ１０４
回であった。また、アルミナ微粒子を分散しない磁性金
属薄膜層３上に潤滑層５を形成した磁気ディスクについ
ても同様にＣ８Ｓ 性を測定したところ５×１０３回で
あった。
ｉＯ２を０．０５μｍの厚さに堆積せしめた磁気ディス
クについて、同様にＣ８Ｓ 性を測定したところ１０４
回であった。また、アルミナ微粒子を分散しない磁性金
属薄膜層３上に潤滑層５を形成した磁気ディスクについ
ても同様にＣ８Ｓ 性を測定したところ５×１０３回で
あった。
この発明の磁気ディスクは、補強、潤滑用の微粒子を磁
性金属薄膜層中に分散せしめたものであるので、磁性金
属薄膜層自体の強度が向上するとともに表面の摩擦係数
が低下し、磁気ヘッドの摺動に対して、磁性金属薄膜層
が損耗することがなく、高い保護効果が長期にわたって
持続し％Ｃ８Ｓ特性も大幅に向上する。また、保護層が
不要になるので、高価なスパッタリング設備等が必要で
なく、安価に製造することができる。
性金属薄膜層中に分散せしめたものであるので、磁性金
属薄膜層自体の強度が向上するとともに表面の摩擦係数
が低下し、磁気ヘッドの摺動に対して、磁性金属薄膜層
が損耗することがなく、高い保護効果が長期にわたって
持続し％Ｃ８Ｓ特性も大幅に向上する。また、保護層が
不要になるので、高価なスパッタリング設備等が必要で
なく、安価に製造することができる。
図面はこの発明の磁気ディスクの一例を示す概略断面図
である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・下地メッキ層、３
・・・・・・磁性金属薄膜層、４・・・・・・微粒子、
５・・・・・・潤滑層。
である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・下地メッキ層、３
・・・・・・磁性金属薄膜層、４・・・・・・微粒子、
５・・・・・・潤滑層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に磁性金属薄膜層を設けてなる磁気ディスクにお
いて、 上記磁性金属薄膜層に、補強、潤滑用の微粒子を分散せ
しめたことを特徴とする磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15067984A JPS6129413A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15067984A JPS6129413A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6129413A true JPS6129413A (ja) | 1986-02-10 |
Family
ID=15502098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15067984A Pending JPS6129413A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6129413A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6459615A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5099702A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-07 | ||
| JPS5410430A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-26 | Caterpillar Mitsubishi Ltd | Compound safety valve having functions of relief valve and make up valve |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15067984A patent/JPS6129413A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5099702A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-07 | ||
| JPS5410430A (en) * | 1977-06-24 | 1979-01-26 | Caterpillar Mitsubishi Ltd | Compound safety valve having functions of relief valve and make up valve |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6459615A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JP2506813B2 (ja) * | 1987-08-31 | 1996-06-12 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体 |
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