JPS61293950A - カルボン酸およびそのエステルの製造方法 - Google Patents
カルボン酸およびそのエステルの製造方法Info
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- JPS61293950A JPS61293950A JP61140424A JP14042486A JPS61293950A JP S61293950 A JPS61293950 A JP S61293950A JP 61140424 A JP61140424 A JP 61140424A JP 14042486 A JP14042486 A JP 14042486A JP S61293950 A JPS61293950 A JP S61293950A
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- Japan
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- palladium
- phosphine
- haloalene
- carbon atoms
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/36—Preparation of carboxylic acid esters by reaction with carbon monoxide or formates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/76—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C69/78—Benzoic acid esters
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、水および(又は)アルコールの存在下ハロゲ
ン化芳香族化合物を一酸化炭素でヒドロキシ−若しくは
アルコキシカルボニル化させることによ多芳香族カルボ
ン酸およびそのエステルを製造する方法に関する。
ン化芳香族化合物を一酸化炭素でヒドロキシ−若しくは
アルコキシカルボニル化させることによ多芳香族カルボ
ン酸およびそのエステルを製造する方法に関する。
芳香族ハロゲン化物のカルボニル化(ヒドロキシカルボ
ニル化又はアルコキシカルボニル化)による芳香族カル
ボン酪およびそのエステルの製造は、一酸化炭素の入手
性およびその低価格ゆえに工業上有利である。そのため
、従前、ハロゲン化物のカルボニル化が、比較的穏和な
圧力および温度条件下で最高の見込み効率を示す触媒の
開発を企図した研究対象であった。この観点から、パラ
ジウムとホスフィンによシ構成される錯体が、これまで
提案された種々の触媒の中で特に有益とわかった( D
、 Valentlne等、J、 Org、 Chem
、 、46.4614〜4617(1981):M、H
ldai等、Bull。
ニル化又はアルコキシカルボニル化)による芳香族カル
ボン酪およびそのエステルの製造は、一酸化炭素の入手
性およびその低価格ゆえに工業上有利である。そのため
、従前、ハロゲン化物のカルボニル化が、比較的穏和な
圧力および温度条件下で最高の見込み効率を示す触媒の
開発を企図した研究対象であった。この観点から、パラ
ジウムとホスフィンによシ構成される錯体が、これまで
提案された種々の触媒の中で特に有益とわかった( D
、 Valentlne等、J、 Org、 Chem
、 、46.4614〜4617(1981):M、H
ldai等、Bull。
Chem、 SaC,JapanS48 (7)、20
75〜2077(1975))。
75〜2077(1975))。
しかしながら、パラジウム/ホスフィン錯体の利益は、
この錯体によって芳香族塩化物がカルボニル化し得ない
事実によシ制限されている。その結果、該錯体の使用は
成る特定の芳香族臭化物および沃化物のカルボニル化に
限られてきた。然るに、クロル芳香族化合物を、臭化物
ないし沃化物よシも安価な通常 の出発物質としてカル
ボニル化させることに工業上多大の利益がある。本発明
は、塩素と芳香族環炭素との結合を活性化させることに
よシ生ずる問題を解決して芳香族塩化物のカルボニル化
を可能にすることを企図する。また、電子供与性置換基
(例えばジアルキルアミノ)を含有する芳香族臭化物の
カルボニル化も困難とわかった。従って、本発明の別の
目的は、電子供与性置換基を含有する芳香族臭化物のカ
ルボニル化方法を提供することである。
この錯体によって芳香族塩化物がカルボニル化し得ない
事実によシ制限されている。その結果、該錯体の使用は
成る特定の芳香族臭化物および沃化物のカルボニル化に
限られてきた。然るに、クロル芳香族化合物を、臭化物
ないし沃化物よシも安価な通常 の出発物質としてカル
ボニル化させることに工業上多大の利益がある。本発明
は、塩素と芳香族環炭素との結合を活性化させることに
よシ生ずる問題を解決して芳香族塩化物のカルボニル化
を可能にすることを企図する。また、電子供与性置換基
(例えばジアルキルアミノ)を含有する芳香族臭化物の
カルボニル化も困難とわかった。従って、本発明の別の
目的は、電子供与性置換基を含有する芳香族臭化物のカ
ルボニル化方法を提供することである。
更に特定するに、本発明は、水および(又は)アルカノ
ール、酸素不含酸受容体、パラジウム/ホスフィン錯体
並びに、随意成分としてのホスフィンの存在下、クロル
−若しくはブロム芳香族化合物をカルボニル化させるこ
とによ多芳香族カルボン酸および(又は)そのエステル
ヲ製造するに際シ、クロル−若シくはブロムアレンカル
ボニルクロム化合物をカルボニル化に付すことを特徴と
する方法に関する。
ール、酸素不含酸受容体、パラジウム/ホスフィン錯体
並びに、随意成分としてのホスフィンの存在下、クロル
−若しくはブロム芳香族化合物をカルボニル化させるこ
とによ多芳香族カルボン酸および(又は)そのエステル
ヲ製造するに際シ、クロル−若シくはブロムアレンカル
ボニルクロム化合物をカルボニル化に付すことを特徴と
する方法に関する。
意外にも、電子供与性置換基を有する芳香族塩化物およ
び臭化物の芳香族環にカルボニルクロム残基−Cr(C
O)sが存在することによシこれら化合物がパラジウム
/ホスフィン錯体の存在でカルボニル化しうるとわかっ
た。
び臭化物の芳香族環にカルボニルクロム残基−Cr(C
O)sが存在することによシこれら化合物がパラジウム
/ホスフィン錯体の存在でカルボニル化しうるとわかっ
た。
アレントリカルボニルクロム化合物は、種々の合成ルー
トによシ容易に取得することのできる既知化合物である
( G、 W目kInson等s Comprehen
siveOrganometalllc Ch@m1s
try −IVOl、 3 、p、 1001〜102
1 、PerHamon Press発行)。アレント
リカルボニルクロムの好ましい取得方法は、炭化水素お
よび(又は)エーテルの如き種々の有機溶剤又は余剰の
出発芳香族化合物中芳香族化合物とヘキサカルボニルク
ロムとを反応させることよりなる。
トによシ容易に取得することのできる既知化合物である
( G、 W目kInson等s Comprehen
siveOrganometalllc Ch@m1s
try −IVOl、 3 、p、 1001〜102
1 、PerHamon Press発行)。アレント
リカルボニルクロムの好ましい取得方法は、炭化水素お
よび(又は)エーテルの如き種々の有機溶剤又は余剰の
出発芳香族化合物中芳香族化合物とヘキサカルボニルク
ロムとを反応させることよりなる。
この方法は特に、電子供与性置換基を有するアレントリ
カルボニルクロムの合成に適している。
カルボニルクロムの合成に適している。
更に特定するに、本発明は、一般式
に相当りるエステルを、一般式
のハロアレントリカルボニルクロム化合物(ここで
Rは水素原子又は、炭素原子1〜20個のアルキル、シ
クロアルキル若しくは了り−ルアルキル基を意味し、 R1は、炭素原子1〜20個のアルキル基、炭素原子1
〜20個のアルコキシ基、弗素原子、モノ−若しくはポ
リムロゲン化アルキル残基、ホルミル基、カルボニルオ
キシアルキル基、第三アミ7基、ヒドロキシル基、アシ
ル残基又はアシルアミン残基金意味し、 nは1〜3好ましくは1〜2の整数を意味し・そして Xは塩素若しくは臭素原子を意味する)をカルボニル化
させることによって製造する方法に関する。
クロアルキル若しくは了り−ルアルキル基を意味し、 R1は、炭素原子1〜20個のアルキル基、炭素原子1
〜20個のアルコキシ基、弗素原子、モノ−若しくはポ
リムロゲン化アルキル残基、ホルミル基、カルボニルオ
キシアルキル基、第三アミ7基、ヒドロキシル基、アシ
ル残基又はアシルアミン残基金意味し、 nは1〜3好ましくは1〜2の整数を意味し・そして Xは塩素若しくは臭素原子を意味する)をカルボニル化
させることによって製造する方法に関する。
R基の非制限的例としてメチル、エチル、n−プロビル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、5ee−7
’チル、n−ペンチル、篤−エチルヘキシル、ドデシル
、オクタデシル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシ
ル、ベンジルおよびX−7二二ルエチル基を挙げること
ができる。好ましくは、Rは低級アルキル、すなわち炭
素原子1〜4個のアルキル基を意味する。
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、5ee−7
’チル、n−ペンチル、篤−エチルヘキシル、ドデシル
、オクタデシル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシ
ル、ベンジルおよびX−7二二ルエチル基を挙げること
ができる。好ましくは、Rは低級アルキル、すなわち炭
素原子1〜4個のアルキル基を意味する。
R1基としては、Rに関し列挙された如きアルキル基;
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
、n−ブトキシ、2−エチルへキルオキシ、ドデシルオ
キシ又はヘキサデシルオキシ基の如きアルコキシ基ニト
リフルオルメチル、クロルオルクロルメチル又はべ/!
/フルオルエチル基の如きムロアルキル基:カルボニル
オキシメチル、カルボニルオキシエチル又はカルボニル
オキシイソプロピル基の如き、アルキル残基が炭素原は
別異にして、Rの場合に列挙した如き炭素原子1〜20
個のアルキル基、アリールアルキル基おけ、Rの場合に
列挙した如きアルキル、シクロアルキル若しくはアリー
ルアルキル基およびアリール(フェニル、トルイル、ナ
フチル)基をMKfる〕のアシルおよびアシルアミノ残
基を意味する。
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
、n−ブトキシ、2−エチルへキルオキシ、ドデシルオ
キシ又はヘキサデシルオキシ基の如きアルコキシ基ニト
リフルオルメチル、クロルオルクロルメチル又はべ/!
/フルオルエチル基の如きムロアルキル基:カルボニル
オキシメチル、カルボニルオキシエチル又はカルボニル
オキシイソプロピル基の如き、アルキル残基が炭素原は
別異にして、Rの場合に列挙した如き炭素原子1〜20
個のアルキル基、アリールアルキル基おけ、Rの場合に
列挙した如きアルキル、シクロアルキル若しくはアリー
ルアルキル基およびアリール(フェニル、トルイル、ナ
フチル)基をMKfる〕のアシルおよびアシルアミノ残
基を意味する。
アシルおよびアシルアミノ基の特定例はアセチル、グロ
ビオ二ル、ベンゾイル、メチルベンゾイル、アセチルメ
チルアミノおよびエチルベンゾイルアミノ基によって代
表される。Xが臭素原子を意味するとき、R1は好まし
くは電子供与性残基を意味する。
ビオ二ル、ベンゾイル、メチルベンゾイル、アセチルメ
チルアミノおよびエチルベンゾイルアミノ基によって代
表される。Xが臭素原子を意味するとき、R1は好まし
くは電子供与性残基を意味する。
ムロ1アレントリカルボニルクロムの例として、更に特
定するに次のものを挙げることができる:クロルベンゼ
ントリカルボニルクロム、クロルトルエントリカルボニ
ルクロム、ブロムトルエントリカルボニルクロム、フル
オルクロルベンゼントリカルボニルクロム、1−メチル
−4−フルオル−2−クロルベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−4−トリフルオルメチルベンゼントリカル
ボニルクロム、 1−クロル−4−t−ブチルベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−4−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−ブロム−4−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−クロル−2−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−クロル−4−ヒドロキシベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−2−ヒドロキシベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−ブロム−4−ジエチルアミノベンゼントリカルボニ
ルク覧ム、 1−クロル−3−メトキシカルボニルベンゼントリカル
ボニルクロム、 2−ブロム−3−メトキシカルボニルベンゼントリカル
ボニルクロムおよび 1−クロル−4−ア七チルベンゼントリカルボニルクロ
ム。
定するに次のものを挙げることができる:クロルベンゼ
ントリカルボニルクロム、クロルトルエントリカルボニ
ルクロム、ブロムトルエントリカルボニルクロム、フル
オルクロルベンゼントリカルボニルクロム、1−メチル
−4−フルオル−2−クロルベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−4−トリフルオルメチルベンゼントリカル
ボニルクロム、 1−クロル−4−t−ブチルベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−4−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−ブロム−4−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−クロル−2−メトキシベンゼントリカルボニルクロ
ム、 1−クロル−4−ヒドロキシベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−クロル−2−ヒドロキシベンゼントリカルボニルク
ロム、 1−ブロム−4−ジエチルアミノベンゼントリカルボニ
ルク覧ム、 1−クロル−3−メトキシカルボニルベンゼントリカル
ボニルクロム、 2−ブロム−3−メトキシカルボニルベンゼントリカル
ボニルクロムおよび 1−クロル−4−ア七チルベンゼントリカルボニルクロ
ム。
本発明に従った方法は、安息香酸、トルイル酸、p−メ
トキシ安息香酸、p−フルオル安息香酸、p−)リフル
オルメチル安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸およびp
−ジエチルアミノ安息香酸並びにこれらのエステルを製
造するのに特に適している。
トキシ安息香酸、p−フルオル安息香酸、p−)リフル
オルメチル安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸およびp
−ジエチルアミノ安息香酸並びにこれらのエステルを製
造するのに特に適している。
本発明をいかなる特定機構にも限定するつもシはないが
、カルボニル化反応は次式によって表わすことができる
。
、カルボニル化反応は次式によって表わすことができる
。
cr(CO)x
(ここでROMは水又はアルコールを意味し、Asは酸
素不含酸受容体を意味する)。
素不含酸受容体を意味する)。
本発明に従った方法を実施するのに、反応媒体に可溶か
或いは該媒体の成分と混和しうる酸素不含酸受容体なら
いずれも用いることができる。而して、アルカリ金属若
しくはアルカリ土類金属の水酸化物(水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、石灰)、アルカリ土類金i酸化物(
CaO)、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭
酸塩および重炭酸塩(炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナト
リウム)、アルカリ金属のアルコラード(ナトリウムメ
チラート、カリウムエチラート、ナトリウムイソプロピ
ラード、ナトリウムt−ブチ9−))、弱カルボン酸(
25℃の水中でのpKが4よシ高い)よシ誘導されるア
ルカリ金属若しくはアルカリ土類金属カルボニル化(ナ
トリウム若しくはカリウムの酢酸塩、プロピオン酸塩、
酪酸塩、イソ酪酸塩、安息香酸塩又はフェニル酢酸塩)
、第三アミン類および第三窒素含有複素環式塩基(トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、メチルトリエチルア
ミン、ピリジン、ピコリンおよび、N−メチル−若しく
はN−エチルピペリジンの如きN−アルキルピペリジン
)ヲ用いることができる。第三アミンおよび第三窒素含
有複素環式塩基は酸素不含酸受容体の好ましいカテゴリ
ーヲ構成する。
或いは該媒体の成分と混和しうる酸素不含酸受容体なら
いずれも用いることができる。而して、アルカリ金属若
しくはアルカリ土類金属の水酸化物(水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、石灰)、アルカリ土類金i酸化物(
CaO)、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の炭
酸塩および重炭酸塩(炭酸ナトリウムおよび重炭酸ナト
リウム)、アルカリ金属のアルコラード(ナトリウムメ
チラート、カリウムエチラート、ナトリウムイソプロピ
ラード、ナトリウムt−ブチ9−))、弱カルボン酸(
25℃の水中でのpKが4よシ高い)よシ誘導されるア
ルカリ金属若しくはアルカリ土類金属カルボニル化(ナ
トリウム若しくはカリウムの酢酸塩、プロピオン酸塩、
酪酸塩、イソ酪酸塩、安息香酸塩又はフェニル酢酸塩)
、第三アミン類および第三窒素含有複素環式塩基(トリ
メチルアミン、トリエチルアミン、メチルトリエチルア
ミン、ピリジン、ピコリンおよび、N−メチル−若しく
はN−エチルピペリジンの如きN−アルキルピペリジン
)ヲ用いることができる。第三アミンおよび第三窒素含
有複素環式塩基は酸素不含酸受容体の好ましいカテゴリ
ーヲ構成する。
酸素不含酸受容体の量は少くとも、反応のあいだ形成さ
れる酸素不含酸の中和に必要な化学量論的量にほぼ等し
く、ハロアレントリカルボニルクロム1モル当シ少くと
も約1モルである。好ましくは、酸素不含酸受容体はハ
ロアレントリカルボニルクロム1モル当シ少くとも11
モル量で用いられる。酸素不含酸受容体の量には臨界的
上限はなく、第三窒素含有塩基の場合反応媒体を構成し
うる。他の酸素不含酸受容体については、ムロアレント
リカルボニルクロム1モル当、6tsモルよシ多く用い
ることは通常必要でない。一般には、1〜125範囲の
量で十分である。
れる酸素不含酸の中和に必要な化学量論的量にほぼ等し
く、ハロアレントリカルボニルクロム1モル当シ少くと
も約1モルである。好ましくは、酸素不含酸受容体はハ
ロアレントリカルボニルクロム1モル当シ少くとも11
モル量で用いられる。酸素不含酸受容体の量には臨界的
上限はなく、第三窒素含有塩基の場合反応媒体を構成し
うる。他の酸素不含酸受容体については、ムロアレント
リカルボニルクロム1モル当、6tsモルよシ多く用い
ることは通常必要でない。一般には、1〜125範囲の
量で十分である。
得られる生成物の種類は共反応体の種類に依る。
この反応体が水であるとき、芳香族酸が得られ、またア
ルコールであるとき、アルコキシカルボニル化反応によ
ジエステルが形成される。後者の場合、一般式 %式%( 〔ここでRは、式(1)に関して示したと同じ意味を有
する〕 のアルコールが用いられる。かくして、メタノール、エ
タノール、1−グロバノール、インブタノール、t−ブ
タノール、インブタノール、2−エチル−1−ヘキサノ
ール、ラウリルアルコール、シクロヘキサノール又はベ
ンジルアルコールの如きアルカノールが用いられる。好
ましくは、低級アルカノール特にメタノールおよびエタ
ノールが用いられる。アルコールは無水であってもよく
、或いは水會含んでいてもよい。而して、この反応では
、酸とそのエステルが同時形成される。
ルコールであるとき、アルコキシカルボニル化反応によ
ジエステルが形成される。後者の場合、一般式 %式%( 〔ここでRは、式(1)に関して示したと同じ意味を有
する〕 のアルコールが用いられる。かくして、メタノール、エ
タノール、1−グロバノール、インブタノール、t−ブ
タノール、インブタノール、2−エチル−1−ヘキサノ
ール、ラウリルアルコール、シクロヘキサノール又はベ
ンジルアルコールの如きアルカノールが用いられる。好
ましくは、低級アルカノール特にメタノールおよびエタ
ノールが用いられる。アルコールは無水であってもよく
、或いは水會含んでいてもよい。而して、この反応では
、酸とそのエステルが同時形成される。
共反応体の量は臨界的でない。しかしながら、ハロアレ
ントリカルボニルクロムの転化tできるだけ完全にする
には、少くとも化学量論的量にほぼ近い、すなわちハロ
アレントリカルボニルクロム1モル当シ少くとも約1モ
ル量の水および(又は)アルコールを用いることが好ま
しい。臨界的上限はなく、水および(又は)アルコール
は反応媒体の全部若しくは部分を構成しうる。
ントリカルボニルクロムの転化tできるだけ完全にする
には、少くとも化学量論的量にほぼ近い、すなわちハロ
アレントリカルボニルクロム1モル当シ少くとも約1モ
ル量の水および(又は)アルコールを用いることが好ま
しい。臨界的上限はなく、水および(又は)アルコール
は反応媒体の全部若しくは部分を構成しうる。
本発明に従った方法で触媒として用いられるパラジウム
/ホスフィン錯体は、芳香族ハロゲン化物のヒドロカル
ボニル化ないしアルコキシカルボニル化反応に通常用い
られるものである( M。
/ホスフィン錯体は、芳香族ハロゲン化物のヒドロカル
ボニル化ないしアルコキシカルボニル化反応に通常用い
られるものである( M。
Hl da lの前記文献参照のこと)。かくして、原
子価0のパラジウムの錯体を用いることがでキ、マた同
様に原子価2のパラジウムの錯体を用いることもできる
。一般に、空気に対する安定性ゆえに取扱い容易な後者
の錯体が好ましい。更に特定するに、下記一般式を有す
るパラジウム錯体を用いることができる: Pd(CO)PC(Rz)s、Is 、
(rv)pds(co)s(P(Rz)a)エ
閏paCp(l<z’)s〕4CVI PdZz(P(Rz)s)z @R
2は、カルボニル化反応に対して不活性な親水性官能基
フないし2以上で随意置換される、炭素原子1〜20個
の飽和脂肪族、詣環式着しくけ芳香族炭化水素基を意味
し、 2はムロゲン原子又は式R,−COO−(ここでR3は
、Rに関して列挙した如き、炭素原子1〜20個のアル
キル、シクロアルキル若しくはアリールアルキル基、又
はアリールを意味する)のアシロキシ残基を意味し、 mは3又は4である。
子価0のパラジウムの錯体を用いることがでキ、マた同
様に原子価2のパラジウムの錯体を用いることもできる
。一般に、空気に対する安定性ゆえに取扱い容易な後者
の錯体が好ましい。更に特定するに、下記一般式を有す
るパラジウム錯体を用いることができる: Pd(CO)PC(Rz)s、Is 、
(rv)pds(co)s(P(Rz)a)エ
閏paCp(l<z’)s〕4CVI PdZz(P(Rz)s)z @R
2は、カルボニル化反応に対して不活性な親水性官能基
フないし2以上で随意置換される、炭素原子1〜20個
の飽和脂肪族、詣環式着しくけ芳香族炭化水素基を意味
し、 2はムロゲン原子又は式R,−COO−(ここでR3は
、Rに関して列挙した如き、炭素原子1〜20個のアル
キル、シクロアルキル若しくはアリールアルキル基、又
はアリールを意味する)のアシロキシ残基を意味し、 mは3又は4である。
式潤〜■において、基R2は同じか又は別異にして、特
にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、al!e−ブチル、n−オクチル、シクロヘキシル
、メチルシクロヘキシル、フェニル、トルイル、エチル
フェニル、キシリル、ナフチル、ベンジルおよび2−フ
ェニルエチル基ヲ意味する。現水性官能基の例として、
ヒドロキシスルホニル残基およびアルカリ金属若しくは
アルカリ土類金属スルホン酸塩残基を挙げることができ
る。基R2の少くとも一つは好ましくは電子供与性基金
意味し、よシ好ましくはアリール基を意味する。Zは好
ましくは、塩素若しくは臭素原子、低級飽和詣肪族アシ
ロキシ(アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ)基又は芳香族アシロキシ(ベンゾイルオキシ、ト
ルイルオキシ)残基全意味する。パラジウム/ホスフィ
ン錯体ノ例として、非制限的に次のものを挙げることが
できるニ トリス(メチルジフェニルホスフィノ)モノカルボニル
パラジウム、 トリス(トリフェニルホスフィノ)モノカルボニルパラ
ジウム、 トリス(エチルジトリルホスフィノ)モノカルボニルパ
ラジウム、 トリス(エチルジトリルホスフィノ)パラジウム、テト
ラキス(トリトリルホスフィノ)パラジウム、ジクロル
ビス(トリフェニルホスフィノ)パラジウム、 ジクロルビス(トリトリルホスフィノ)パラジウム、 ジイソプロピオニルオキシビス(トリフェニルホスフィ
ノ)パラジウム、 ジクロル−若しくはジアセトキシビス(ホスフィノ)パ
ラジウム錯体〔ホスフィンがトリス(ヒドロキシスルホ
ニルフェニル)ホスフィンで6る)又はそのナトリウム
若しくはカリウム塩。好ましくは、ジハロビス(トリア
リールホスフィノ)パラジウムおよびジアシルオキシビ
ス(トリアリールホスフィノ)パラジウムが用いられる
。
にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、al!e−ブチル、n−オクチル、シクロヘキシル
、メチルシクロヘキシル、フェニル、トルイル、エチル
フェニル、キシリル、ナフチル、ベンジルおよび2−フ
ェニルエチル基ヲ意味する。現水性官能基の例として、
ヒドロキシスルホニル残基およびアルカリ金属若しくは
アルカリ土類金属スルホン酸塩残基を挙げることができ
る。基R2の少くとも一つは好ましくは電子供与性基金
意味し、よシ好ましくはアリール基を意味する。Zは好
ましくは、塩素若しくは臭素原子、低級飽和詣肪族アシ
ロキシ(アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ)基又は芳香族アシロキシ(ベンゾイルオキシ、ト
ルイルオキシ)残基全意味する。パラジウム/ホスフィ
ン錯体ノ例として、非制限的に次のものを挙げることが
できるニ トリス(メチルジフェニルホスフィノ)モノカルボニル
パラジウム、 トリス(トリフェニルホスフィノ)モノカルボニルパラ
ジウム、 トリス(エチルジトリルホスフィノ)モノカルボニルパ
ラジウム、 トリス(エチルジトリルホスフィノ)パラジウム、テト
ラキス(トリトリルホスフィノ)パラジウム、ジクロル
ビス(トリフェニルホスフィノ)パラジウム、 ジクロルビス(トリトリルホスフィノ)パラジウム、 ジイソプロピオニルオキシビス(トリフェニルホスフィ
ノ)パラジウム、 ジクロル−若しくはジアセトキシビス(ホスフィノ)パ
ラジウム錯体〔ホスフィンがトリス(ヒドロキシスルホ
ニルフェニル)ホスフィンで6る)又はそのナトリウム
若しくはカリウム塩。好ましくは、ジハロビス(トリア
リールホスフィノ)パラジウムおよびジアシルオキシビ
ス(トリアリールホスフィノ)パラジウムが用いられる
。
本発明に従った方法は、反応に参加する各種化合物の、
反応条件下不活性な溶剤を存在させて実施される。既述
の如く、この目的に用いることのできる一つの溶剤群は
、酸素不含酸受容体とじて用いられる第三窒素含有塩基
、水および(又は)アルコールよりなる。また、飽和脂
肪族炭化水素(例えばヘキサン)、飽和脂環式炭化水素
(シクロヘキサン又はメチルシクロヘキサン)、芳香族
炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン)、ムロゲン化芳香族炭化水素(クロルベンゼン、
クロルトルエン)、m肪tsエーテル、環状エーテル(
テトラヒドロフラン)、芳香族エーテル(アニソール、
クロルアニソール、フロムアニソール)およびラクタム
(N−メチルピロリドン)の如き他の有機化合物を用い
ることができる。一般には、電子供与性のできるだけ弱
い鳴機化合物が用いられる。実際的見地から、溶剤若し
くは共溶剤として、ハロアレントリカルボニルクロムの
誘導源ムロ芳香族誘導体を用いることは、それが標準圧
力温度条件下液体であるとき特に有利とわかった。前者
ムロアレントリカルボ二ルクはムは、ヘキサカルボニル
クロムと過剰のハロ芳香族化合物と全反応させることに
よって調製される。かくして調製せる八ロアレントリカ
ルボニルクロム溶液は直接カルボニル化反応に用いられ
る。
反応条件下不活性な溶剤を存在させて実施される。既述
の如く、この目的に用いることのできる一つの溶剤群は
、酸素不含酸受容体とじて用いられる第三窒素含有塩基
、水および(又は)アルコールよりなる。また、飽和脂
肪族炭化水素(例えばヘキサン)、飽和脂環式炭化水素
(シクロヘキサン又はメチルシクロヘキサン)、芳香族
炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼン)、ムロゲン化芳香族炭化水素(クロルベンゼン、
クロルトルエン)、m肪tsエーテル、環状エーテル(
テトラヒドロフラン)、芳香族エーテル(アニソール、
クロルアニソール、フロムアニソール)およびラクタム
(N−メチルピロリドン)の如き他の有機化合物を用い
ることができる。一般には、電子供与性のできるだけ弱
い鳴機化合物が用いられる。実際的見地から、溶剤若し
くは共溶剤として、ハロアレントリカルボニルクロムの
誘導源ムロ芳香族誘導体を用いることは、それが標準圧
力温度条件下液体であるとき特に有利とわかった。前者
ムロアレントリカルボ二ルクはムは、ヘキサカルボニル
クロムと過剰のハロ芳香族化合物と全反応させることに
よって調製される。かくして調製せる八ロアレントリカ
ルボニルクロム溶液は直接カルボニル化反応に用いられ
る。
反応媒体中の反応体濃度は臨界的でなく、広い範囲で変
動しうる。
動しうる。
まり、ハロアレントリカルボニルクロム1モル当シのパ
ラジウムy原子数として表わされるパラジウム触媒の量
も広い範囲で変動しうる。通常、ソレハムロアレントリ
カルボニルクロム1モル当り4×10〜rL5/原子@
囲であシりるが、同ムロアレントリカルボニルクロム1
モル当りパラジウム1x10〜1x 1o−’g原子範
囲の量が適している。
ラジウムy原子数として表わされるパラジウム触媒の量
も広い範囲で変動しうる。通常、ソレハムロアレントリ
カルボニルクロム1モル当り4×10〜rL5/原子@
囲であシりるが、同ムロアレントリカルボニルクロム1
モル当りパラジウム1x10〜1x 1o−’g原子範
囲の量が適している。
ハロアレントリカルボニルクロムのカルボニル化は、有
利には触媒中パラジウムに結合したものと同じ遊離ホス
フィンの存在で好まし〈実施される。パラジウム11原
子当シの燐l原子で表わされるホスフィンの量は媒体中
のパラジウム濃度の関数として広い範囲内で変動しうる
。好ましくは、遊離ホスフィン/バ2ジウム比は媒体中
のパラジウム濃度に反比例する。通常、パラジウム1g
原千当シの燐y原子が15〜1000好ましくけ2〜1
00範囲であるホスフィン量が用いられる。
利には触媒中パラジウムに結合したものと同じ遊離ホス
フィンの存在で好まし〈実施される。パラジウム11原
子当シの燐l原子で表わされるホスフィンの量は媒体中
のパラジウム濃度の関数として広い範囲内で変動しうる
。好ましくは、遊離ホスフィン/バ2ジウム比は媒体中
のパラジウム濃度に反比例する。通常、パラジウム1g
原千当シの燐y原子が15〜1000好ましくけ2〜1
00範囲であるホスフィン量が用いられる。
本発明の範囲を逸脱することなく、反応媒体に、パラジ
ウム(+2)錯体又はパラジウム(+2)カルボン酸塩
(パラジウムの酢酸塩若しくはプロピオン画壇)と適当
量の遊離ホスフィンとを供給することによシ、反応が「
現場」生起するのに必要な触媒種を形成することができ
る。
ウム(+2)錯体又はパラジウム(+2)カルボン酸塩
(パラジウムの酢酸塩若しくはプロピオン画壇)と適当
量の遊離ホスフィンとを供給することによシ、反応が「
現場」生起するのに必要な触媒種を形成することができ
る。
反応は広い温度範囲で実施されうる。通常、50〜25
0°C範囲の温度が適している。好ましくは、80〜2
00℃の温度が用いられる。
0°C範囲の温度が適している。好ましくは、80〜2
00℃の温度が用いられる。
本発明に従った方法は、大気圧に等しいかそれよシ高い
一酸化炭素流力で実施することができる。
一酸化炭素流力で実施することができる。
−m化炭素の圧力は好ましくは150バ一ル未満であシ
、よシ好ましくは80バ一ル未満である。
、よシ好ましくは80バ一ル未満である。
1〜50バールの圧力が非常に適している。
実際的見地から、本方法は、ハロアレントリカルボニル
クロムと、反応が生ずるのに必要な他の化合物の水溶液
若しくは有機溶液に一酸化炭素流れを単に通すことによ
シ、或いは攪拌下の耐圧容器内の該溶液に一酸化炭素の
圧力を作用させることによって遂行される。反応が終了
したとき、反応媒体の各種成分は、通常の方法を用いて
分離される。反応のあいだに形成されるヘキサカルボニ
ルクロムは単離され、ハロアレントリカルボニルクロム
の製造に再循環されうる。
クロムと、反応が生ずるのに必要な他の化合物の水溶液
若しくは有機溶液に一酸化炭素流れを単に通すことによ
シ、或いは攪拌下の耐圧容器内の該溶液に一酸化炭素の
圧力を作用させることによって遂行される。反応が終了
したとき、反応媒体の各種成分は、通常の方法を用いて
分離される。反応のあいだに形成されるヘキサカルボニ
ルクロムは単離され、ハロアレントリカルボニルクロム
の製造に再循環されうる。
下記例は本発明を例示し、而してそれが実際上どのよう
に遂行されうるかを示す。例中使用せるムロアレントリ
カルボニルクロムハ、ハロ芳香族化合物をテトラヒドロ
7ランと酸化ブチルとの混合物中ヘキサカルボニルクロ
ムと一緒に加熱還流させることによって製造された。
に遂行されうるかを示す。例中使用せるムロアレントリ
カルボニルクロムハ、ハロ芳香族化合物をテトラヒドロ
7ランと酸化ブチルとの混合物中ヘキサカルボニルクロ
ムと一緒に加熱還流させることによって製造された。
例 1
加熱系および電磁攪拌機を備えた100ゴステンレス鋼
製オートクレーブに次のものを装入した:クロルベンゼ
ントリカルボニルクロム 2ミリモルPdC1z(P(
CsHa)a)z α04ミリ
モルトリフェニルホスフィン α3ミリモ
ルメタノール 20−トリ
エチルアミン α51!12 (116ミ
リモル)。
製オートクレーブに次のものを装入した:クロルベンゼ
ントリカルボニルクロム 2ミリモルPdC1z(P(
CsHa)a)z α04ミリ
モルトリフェニルホスフィン α3ミリモ
ルメタノール 20−トリ
エチルアミン α51!12 (116ミ
リモル)。
オートクレーブi、Co流れで掃気したのち閉じた。次
いで、一酸化炭素を25バールの圧力にまで装入したの
ち、攪拌しながら反応体混合物を180℃に加熱し、と
の状態を20FR間保持した。
いで、一酸化炭素を25バールの圧力にまで装入したの
ち、攪拌しながら反応体混合物を180℃に加熱し、と
の状態を20FR間保持した。
このあと、オートクレーブの内容物を20°Cに冷却し
、次いで脱気した。
、次いで脱気した。
反応物のアリコートを採取し、マススペクトロスコピー
おヨヒプロトンNMRスペクトロスコピーを用いて、形
成した生成物を同定するのに、上記アリコートを用いた
。安息香酸メチルをフレームイオン化気相クロマトグラ
フィーによって測定した。t 6 ミIJモルの安息香
酸メチルが形成しておシ、それは、当初装入されたクロ
ルベンゼントリカルボニルの80%(実収率)に相当り
るとわかった。
おヨヒプロトンNMRスペクトロスコピーを用いて、形
成した生成物を同定するのに、上記アリコートを用いた
。安息香酸メチルをフレームイオン化気相クロマトグラ
フィーによって測定した。t 6 ミIJモルの安息香
酸メチルが形成しておシ、それは、当初装入されたクロ
ルベンゼントリカルボニルの80%(実収率)に相当り
るとわかった。
例 2
例1と同じ方法に従ったが、2.7ミリモルのクロルベ
ンゼンカルボニルクロム、cL005ミリモルのPdC
1z (P(CsHs)s)z、[L4 sm(124
ミリモル)のトリエチルアミンおよび1035ミリモル
のトリフェニルホスフィンを装入した。反応が終了した
とき、安息香層メチルα95ミリモル(すなわち実収率
35%)およびクロルベンゼン175ミリモルが共に
測定された。後者をクロルベンゼントリカルボニルクロ
ムの合成に再循環させることができ、それによって、転
化されるクロルベンゼントリカルボニルクロム中に存在
するクロルベンゼンを基準とした収率(理論収率)が1
00%となった。
ンゼンカルボニルクロム、cL005ミリモルのPdC
1z (P(CsHs)s)z、[L4 sm(124
ミリモル)のトリエチルアミンおよび1035ミリモル
のトリフェニルホスフィンを装入した。反応が終了した
とき、安息香層メチルα95ミリモル(すなわち実収率
35%)およびクロルベンゼン175ミリモルが共に
測定された。後者をクロルベンゼントリカルボニルクロ
ムの合成に再循環させることができ、それによって、転
化されるクロルベンゼントリカルボニルクロム中に存在
するクロルベンゼンを基準とした収率(理論収率)が1
00%となった。
例 3
例1と同じ方法であったが、温度を100℃に下げた。
安息香酸メチルの実収率67%が達成された。
例 4
例1を反復したが、1バールという一酸化炭素の絶対圧
力を用いた。安息香酸メチルの実収率48%が達成され
た。
力を用いた。安息香酸メチルの実収率48%が達成され
た。
例 5
例1と同じ方法であったが、反応は、180℃、25パ
ールのCO正圧力2時間後に停止した。安息香酸メチル
の実収率80%が達成された。
ールのCO正圧力2時間後に停止した。安息香酸メチル
の実収率80%が達成された。
例 6
例1と同じ方法であったが、トリエチルアミンを酢酸す
) IJウノ、で置き換えた。実収率68%が達成され
た。
) IJウノ、で置き換えた。実収率68%が達成され
た。
例 7
例1と同じ方法であったが、クロルベンゼン5−を存在
させた。実収率26%が達成された。
させた。実収率26%が達成された。
例8〜11
Claims (20)
- (1)水および(又は)アルカノール、酸素不含酸受容
体、パラジウム/ホスフィン錯体並びに随意成分として
のホスフィンの存在下、クロル−若しくはブロム芳香族
化合物をカルボニル化させることにより芳香族カルボン
酸および(又は)そのエステルを製造するに際し、クロ
ル−若しくはブロムアレンカルボニルクロム化合物をカ
ルボニル化に付すことを特徴とする方法。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) のエステルが、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) のハロアレントリカルボニルクロム化合物 (ここで Rは水素原子又は、炭素原子1〜20個のアルキル、シ
クロアルキル若しくはアリールアルキル基を意味し、 R_1は、炭素原子1〜20個のアルキル基、炭素原子
1〜20個のアルコキシ基、弗素原子、モノ−若しくは
ポリハロゲン化アルキル残基、ホルミル基、カルボニル
オキシアルキル基、第三アミノ基、ヒドロキシル基、ア
シル残基又はアシルアミン残基を意味し、 nは1〜3好ましくは1〜2の整数を意味し、そして Xは塩素若しくは臭素原子を意味する) をカルボニル化させることによつて製造されることを特
徴とする、特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)式( I )および(II)中Rが低級アルキル基を
意味することを特徴とする、特許請求の範囲第3項記載
の方法。 - (4)共反応体として用いられるアルコールが、一般式 R−OH(II) (ここでRは、特許請求の範囲第2項に示した意味を有
する)に相当することを特徴とする、特許請求の範囲第
1〜3項のいずれか一項記載の方法。 - (5)酸素不含酸受容体が、アルカリ金属若しくはアル
カリ土類金属水酸化物、アルカリ金属若しくはアルカリ
土類金属炭酸塩ないし重炭酸塩、アルカリ金属アルコラ
ード、アルカリ金属若しくはアルカリ土類金属カルボン
酸塩、第三アミンおよび第三窒素含有複素環式塩基より
なる群から選ばれることを特徴とする、特許請求の範囲
第1〜4項のいずれか一項記載の方法。 - (6)酸素不含酸受容体の量が、ハロアレントリカルボ
ニルクロム1モル当り少くとも約1モルであることを特
徴とする、特許請求の範囲第1〜5項のいずれか一項記
載の方法。 - (7)水および(又は)アルコールの量が、ハロアレン
トリカルボニルクロム1モル当り少くとも約1モルであ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜6項のいず
れか一項記載の方法。 - (8)用いられる触媒が、式 Pd(CO)P〔(R_2)_3〕_3(IV)Pd_3
(CO)_3〔P(R_2)_3〕_m(V)Pd〔P
(R_2)_3〕_4(VI) PdZ_2〔P(R_2)_3〕_2(VII)〔ここで R_2は、炭素原子1〜20個を飽和脂肪族、脂環式若
しくは芳香族炭化水素基を意味し、 Zはハロゲン原子又は式R_3−COO−(ここでR_
3は、Rに関して列挙した如き、炭素原子1〜20個の
アルキル、シクロアルキル若しくはアリールアルキル基
、又はアリールを意味する)のアシロキシ残基を意味し
、 mは3又は4である〕 の化合物よりなる群から選ばれるパラジウム/ホスフィ
ン錯体であることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜
7項のいずれか一項記載の方法。 - (9)R_2の少くとも一つがアリール基を意味する式
(IV)〜(VII)の化合物が触媒として用いられること
を特徴とする、特許請求の範囲第8項記載の方法。 - (10)ジクロルビス(トリフェニルホスフィノ)パラ
ジウムが触媒として用いられることを特徴とする、特許
請求の範囲第9項記載の方法。 - (11)触媒の量が、ハロアレントリカルボニルクロム
1モル当り4×10^−^5〜0.5g原子範囲である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜10項のいずれ
か一項記載の方法。 - (12)パラジウム1g原子当り燐0.5〜1000g
原子量で遊離ホスフィンを存在させて実施されることを
特徴とする、特許請求の範囲第1〜11項のいずれか一
項記載の方法。 - (13)用いられるホスフィンが、ホスフィン/パラジ
ウム錯体中に存在するものと同じであることを特徴とす
る、特許請求の範囲第12項記載の方法。 - (14)反応が水又は不活性有機溶剤中で実施されるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第1〜13項のいずれ
か一項記載の方法。 - (15)用いられる有機溶剤が、酸素不含酸受容体とし
て用いられる第三窒素含有塩基であることを特徴とする
、特許請求の範囲第14項記載の方法。 - (16)用いられる有機溶剤が、反応に参加するアルコ
ールの余剰であることを特徴とする、特許請求の範囲第
14項記載の方法。 - (17)用いられる有機溶剤が、飽和脂肪族炭化水素、
飽和脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化芳香
族炭化水素、ラクタムのエーテルであることを特徴とす
る、特許請求の範囲第14項記載の方法。 - (18)用いられる有機溶剤が、ハロアレントリカルボ
ニルクロムの誘導源をなすハロ芳香族化合物であること
を特徴とする、特許請求の範囲第14項記載の方法。 - (19)反応温度が50〜250℃範囲であることを特
徴とする、特許請求の範囲第1〜18項のいずれか一項
記載の方法。 - (20)一酸化炭素の絶対圧力が1〜150バール範囲
であることを特徴とする、特許請求の範囲第1〜19項
のいずれか一項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR85/09675 | 1985-06-21 | ||
FR8509675A FR2583747B1 (fr) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | Procede de preparation d'acides carboxyliques et de leurs esters |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61293950A true JPS61293950A (ja) | 1986-12-24 |
Family
ID=9320662
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61140424A Pending JPS61293950A (ja) | 1985-06-21 | 1986-06-18 | カルボン酸およびそのエステルの製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0206958B1 (ja) |
JP (1) | JPS61293950A (ja) |
AT (1) | ATE37024T1 (ja) |
DE (1) | DE3660675D1 (ja) |
FR (1) | FR2583747B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6447A (en) * | 1987-03-14 | 1989-01-05 | Nippon Nohyaku Co Ltd | Production of carboxylic acid |
US5142057A (en) * | 1987-03-12 | 1992-08-25 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Process for producing carboxylic acid amides |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19624155A1 (de) * | 1996-06-18 | 1998-01-08 | Hoechst Ag | Substituierte Benzoesäurederivate, Verfahren zu ihrer Herstellung und die Anwendung der Verbindungen zur Behandlung von Krankheiten |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1205284B (it) * | 1982-12-14 | 1989-03-15 | Montedison Spa | Procedimento per la preparazione di esteri o di sali di acidi aromatici o eteroaromatici |
-
1985
- 1985-06-21 FR FR8509675A patent/FR2583747B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-06-18 JP JP61140424A patent/JPS61293950A/ja active Pending
- 1986-06-20 AT AT86420159T patent/ATE37024T1/de not_active IP Right Cessation
- 1986-06-20 DE DE8686420159T patent/DE3660675D1/de not_active Expired
- 1986-06-20 EP EP86420159A patent/EP0206958B1/fr not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5142057A (en) * | 1987-03-12 | 1992-08-25 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Process for producing carboxylic acid amides |
US5296601A (en) * | 1987-03-12 | 1994-03-22 | Nihon Nohyaku Co., Ltd. | Process for producing carboxylic acid esters |
JPS6447A (en) * | 1987-03-14 | 1989-01-05 | Nippon Nohyaku Co Ltd | Production of carboxylic acid |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2583747B1 (fr) | 1987-08-14 |
EP0206958A1 (fr) | 1986-12-30 |
DE3660675D1 (en) | 1988-10-13 |
EP0206958B1 (fr) | 1988-09-07 |
FR2583747A1 (fr) | 1986-12-26 |
ATE37024T1 (de) | 1988-09-15 |
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