JPS61292231A - 光ピツクアツプ装置 - Google Patents
光ピツクアツプ装置Info
- Publication number
- JPS61292231A JPS61292231A JP60131983A JP13198385A JPS61292231A JP S61292231 A JPS61292231 A JP S61292231A JP 60131983 A JP60131983 A JP 60131983A JP 13198385 A JP13198385 A JP 13198385A JP S61292231 A JPS61292231 A JP S61292231A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam splitter
- film
- laser
- transmitted
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、透過光量全増大させてS/N。
信号品質の向上を図った。光ピンクアップ装置に関する
。
。
従来の光ピックアップ装置として、第2図に示すような
ものが知らnている。すなわち、レーザー光源1からの
レーザー光束2を、ビームスプリッタ3で反射して収束
光学系4を介して光ディスク5に入射させ、光ディスク
5からの反射レーザー光束を、収束光学系4を介してビ
ームスプリッタ乙に透過させて非点収差を生じた収束光
6とし、収束光6を4分割光センサ7に入射させたもの
である。
ものが知らnている。すなわち、レーザー光源1からの
レーザー光束2を、ビームスプリッタ3で反射して収束
光学系4を介して光ディスク5に入射させ、光ディスク
5からの反射レーザー光束を、収束光学系4を介してビ
ームスプリッタ乙に透過させて非点収差を生じた収束光
6とし、収束光6を4分割光センサ7に入射させたもの
である。
この従来技術においてビームスプリッタ3は。
レーザー光源1からの発散レーザー光束中に光軸方向に
対して45vに配置さn、レーザー光源1に対向する面
にレーザー光束2を略5対5め割付で透過光と反射光に
分割する・・−フミラー膜6Aが形成さnている平行平
面板である。
対して45vに配置さn、レーザー光源1に対向する面
にレーザー光束2を略5対5め割付で透過光と反射光に
分割する・・−フミラー膜6Aが形成さnている平行平
面板である。
この従来技術においてノ・−7ミラー膜3Aとして、金
属膜、または金属膜と誘電体多層膜の併用形が用いらn
ている。こnらは、入射角度や波長の変fヒに対する特
性の変化が少ないという利点を持っているが、光の吸収
損失が大きいという欠点がある。吸収損失は、金属膜の
場合約7%、金属膜と誘電体多層膜の併用形の場合約4
係であり、これらが用いらf′Lだ場合のビームスプリ
ッタ乙の透過光量は、レーザー光源1の投影光量の21
.6%、または23%となる。
属膜、または金属膜と誘電体多層膜の併用形が用いらn
ている。こnらは、入射角度や波長の変fヒに対する特
性の変化が少ないという利点を持っているが、光の吸収
損失が大きいという欠点がある。吸収損失は、金属膜の
場合約7%、金属膜と誘電体多層膜の併用形の場合約4
係であり、これらが用いらf′Lだ場合のビームスプリ
ッタ乙の透過光量は、レーザー光源1の投影光量の21
.6%、または23%となる。
このように透過光量が少ないので、S/Nが悪fヒし、
信号の品質が低下してしまうという欠点がある。また、
金属膜の場合には、酸化によって特性が劣fヒするとい
う欠点がある。
信号の品質が低下してしまうという欠点がある。また、
金属膜の場合には、酸化によって特性が劣fヒするとい
う欠点がある。
上記問題点を解決するための手段を、実施例に対応する
第1図を用いて以下説明する。この発明は、レーザー光
源1からのレーザー光束2を、ビームスプリッタ3で反
射して光ディスク5に入射させ、光ディスク5からの反
射レーザー光束をビームスプリッタ3に透過させて非点
収差を生じた収束光6として、収束光6全4分割光セン
サ7に入射させてなる光ピックアップ装置において、ビ
ームスプリッタ3のハーフミラ−膜3Bを誘電体多層膜
で形成1−だものである。
第1図を用いて以下説明する。この発明は、レーザー光
源1からのレーザー光束2を、ビームスプリッタ3で反
射して光ディスク5に入射させ、光ディスク5からの反
射レーザー光束をビームスプリッタ3に透過させて非点
収差を生じた収束光6として、収束光6全4分割光セン
サ7に入射させてなる光ピックアップ装置において、ビ
ームスプリッタ3のハーフミラ−膜3Bを誘電体多層膜
で形成1−だものである。
この工うに構成さnたものにおいては、誘電体多層膜の
光吸収損失が少ないので、ビームスプリッタ乙の透過光
量は増大する。
光吸収損失が少ないので、ビームスプリッタ乙の透過光
量は増大する。
第1図はこの発明の一実施例を示す図である。
第1図において、1はレーザー光源、2はレーザー光源
からのレーザー光束、3はレーザー光束2全反射して偏
向するビームスプリッタ、4はレーザー光束2を収束す
る収束光学系、5は光ディスク、6は光ディスク5かも
の反射レーザー光束が収束光学系4.ビームスプリッタ
゛3全透過して非点収差を生じた収束光、7は収束光6
が入射する4分割光センサである。ビームスプリッタ3
ば、レーザー光束2中に光軸方向に対して45度に配置
さnており、レーザー光源1に対向する面にレーザー光
束2を略5対5の割合で透過光と反射光に分割するハー
フミラ−膜3Bが形成さnている平行平面板である。
からのレーザー光束、3はレーザー光束2全反射して偏
向するビームスプリッタ、4はレーザー光束2を収束す
る収束光学系、5は光ディスク、6は光ディスク5かも
の反射レーザー光束が収束光学系4.ビームスプリッタ
゛3全透過して非点収差を生じた収束光、7は収束光6
が入射する4分割光センサである。ビームスプリッタ3
ば、レーザー光束2中に光軸方向に対して45度に配置
さnており、レーザー光源1に対向する面にレーザー光
束2を略5対5の割合で透過光と反射光に分割するハー
フミラ−膜3Bが形成さnている平行平面板である。
・・−フミラー膜3Bは誘電体多層膜で形成さnている
。誘電体多層膜の光吸収損失に2チ以下と小さいので、
ビームスプリッタ乙の透過光量は、レーザー光源1の投
影光量の約24係となる。このように透過光量は、従来
技術に比べて約5〜10%増大するので、S/N、信号
品質が向上する。
。誘電体多層膜の光吸収損失に2チ以下と小さいので、
ビームスプリッタ乙の透過光量は、レーザー光源1の投
影光量の約24係となる。このように透過光量は、従来
技術に比べて約5〜10%増大するので、S/N、信号
品質が向上する。
また、誘電体多層膜の場合には酸fヒによる特性の劣化
もないので、耐候性も優nでいる。
もないので、耐候性も優nでいる。
以上説明してき7?:Lうに、この発明は、ビームスプ
リッタのハーフミラ−膜全誘電体多層膜で形成したもの
である。それ故、ビームスプリッタの光吸収損失は少な
く、透過光量は増大する。また、耐候性も同上する。し
たがって、この発明にLfl、げ、S/N、信号品質の
向上が図nるという効果が得らnる。
リッタのハーフミラ−膜全誘電体多層膜で形成したもの
である。それ故、ビームスプリッタの光吸収損失は少な
く、透過光量は増大する。また、耐候性も同上する。し
たがって、この発明にLfl、げ、S/N、信号品質の
向上が図nるという効果が得らnる。
第1図はこの発明の一実施例を示す図、第2図に従来技
術を示す図である。 1・・・L/−f−光源、3・・・ビームスプリッタ。 5・・・光ディスク、7・・・4分割光センサ特許出願
人 赤井電機株式会社 第1図 第2図
術を示す図である。 1・・・L/−f−光源、3・・・ビームスプリッタ。 5・・・光ディスク、7・・・4分割光センサ特許出願
人 赤井電機株式会社 第1図 第2図
Claims (1)
- 1、レーザー光源からのレーザー光束をビームスプリッ
タで反射して光ディスクに入射させ、該光ディスクから
の反射レーザー光束を該ビームスプリッタに透過させて
非点収差を生じた収束光とし、該収束光を4分割光セン
サに入射させてなる光ピックアップ装置において、該ビ
ームスプリッタのハーフミラー膜を誘電体多層膜で形成
したことを特徴とする光ピックアップ装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60131983A JPS61292231A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光ピツクアツプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60131983A JPS61292231A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光ピツクアツプ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61292231A true JPS61292231A (ja) | 1986-12-23 |
Family
ID=15070808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60131983A Pending JPS61292231A (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | 光ピツクアツプ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61292231A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63200327A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-18 | Olympus Optical Co Ltd | 光ピツクアツプ装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5657013A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-19 | Philips Nv | Focus error detector |
JPS58175149A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 光ピツクアツプ装置 |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP60131983A patent/JPS61292231A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5657013A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-19 | Philips Nv | Focus error detector |
JPS58175149A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 光ピツクアツプ装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63200327A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-18 | Olympus Optical Co Ltd | 光ピツクアツプ装置 |
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