JPS61291575A - ベンゾオキサジン類の製造法 - Google Patents

ベンゾオキサジン類の製造法

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JPS61291575A
JPS61291575A JP13489985A JP13489985A JPS61291575A JP S61291575 A JPS61291575 A JP S61291575A JP 13489985 A JP13489985 A JP 13489985A JP 13489985 A JP13489985 A JP 13489985A JP S61291575 A JPS61291575 A JP S61291575A
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JP
Japan
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dehydration
solvent
purity
reaction
yield
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JP13489985A
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English (en)
Inventor
Manabu Ito
井藤 学
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Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
Original Assignee
Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、殺菌剤、殺虫剤、除草剤或は紫外線吸収剤等
としての優れた効果が確認され、更には各種医薬化合物
の中間体等としての用途が期待されている2、2’−p
−フェニレンビス(3,l−ベンズオキサジン−4−オ
ン)を、高純度で安価に製造する技術に関するものであ
る。
[従来技術] 2.2’−p−フェニレンビス(3,1−ベンズオキサ
ジン−4−オン)とは下記の様な構造式を有する比較的
新しい化合物であり、例えば特開昭51−100086
号公報にも見られる如く殺菌剤や殺虫剤、除草剤等とし
ての効果が確認され、更には各種医薬化合物の中間体等
としての用途も期待され、極〈最近では農業用合成樹脂
フィルム等の劣化防止用紫外線吸収剤等としての機能も
確かめられる等、注目を集めている。
この化合物は前記公開公報にも記載されている如く、イ
サト酸無水物とテレフタル酸ジクロリドをピリジン溶媒
下に反応させることによって製造している。
[発明が解決しようとする問題点] ところが上記の製造法では、出発原料であるイサト酸無
水物が高価である為、目的物も高価なものとならざるを
得ない、しかも上記の製法で得ることのできる目的物の
純度はせいぜい85%程度であり、高純度品を得る為に
は再結晶等の調製が必須となるが、この目的物は高価な
特殊溶媒(例えばアセトフェノン、O−ジクロルベンゼ
ン、N−メチルピロリドン、N、N−ジメチルホルムア
ミド等)にしか溶解しない為精製費用も高くつき、価格
は更に高騰する。その為前述の様に多くの優れた機能が
確認されているにもかかわらず、工業的規模で実用化さ
れている例は極めて少ない。
本発明はこうした状況のもとで、2.2’−p−フェニ
レンビス(3、1−ベンズオキサジン−4−オン)を安
価に製造することのできる技術を提供しようとするもの
である。
[問題を解決する為の手段] 本発明は、アンスラニル酸とテレフタル酸ジクロリドと
を脱塩化水素反応に付してN、N’−ビス(O−カルボ
キシフェニル)テレフタルアミドを製造し、これを5酸
化燐の存在下で分子内脱水して2.2”−P−フェニレ
ンビス(3,l−ベンズオキサジン−4−オン)を製造
するところに要旨が存在する。
[作用] 本発明では、まず、イサト酸に比べて極めて安価に入手
することのできるアンスラニル酸を出発原料とし、これ
にテレフタル酸ジクロリドを作用させて脱塩化水素反応
を行ない中間体としてN。
N′−ビス(O−カルボキシフェニル)テレフタルアミ
ドを製造する。この反応は例えば炭酸ナトリウムの様な
脱塩化水素剤の存在下にアセトン等の溶媒中、常温付近
の温度で行なわれるが、反応収率は極めて高く95%以
上の収率でしかも純度98%以上の中間体を得ることが
できる。
次にこの中間体を脱水剤の存在下で処理し、下記の反応
により2分子の分子内脱水を行なうことによlll的物
[2、2”−p−7エニレンビス(3,1−ベンズオキ
サジン−4−オン)]を得る。
本発明者等は上記の分子内脱水反応を効率良く進行させ
るべく種々の脱水剤を用いて実験を行なった。その結果
、硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタスルホン酸、ポ
リ燐酸等では脱水反応が殆んど進行しないことが確認さ
れた。これらに対し脱水剤として無水酢酸を使用すると
、上記の分子内脱水が効率良く進行し、9096程度以
上の純度の目的物をかなり高い収率で得ることができる
。tかしながらこの様な高い純度と収率を得る為には、
中間体に対して20倍モル以上(理論値の10倍以上)
の無水酢酸を使用しなければならず、生産効率が低い為
に低コスト化の目的を十分に達成することができず、更
には目的物の純度がやや低い為用途によっては精製処理
が不可欠となる。一方無水酢酸の使用量を中間体の10
倍量(理論値の5倍)程度に抑えて脱水反応を行なうと
、反応時間を十分に長くした場合でも脱水反応が十分に
進まず、未反応物(未脱水物又は1分子脱水物)が大量
に残り、目的物の純度及び収率共に著しく低下する。
ところが脱水剤として5酸化燐を使用すると、中間体に
対して理論量程度の使用で2分子の分子内脱水が極めて
効率良く進行し、極めて高純度の目的物を高収率で採取
し得ることが分かった。この様に脱水剤の中でも特に5
酸化燐のみが卓越した分子内脱水反応促進効果を発揮す
る理由は解明できていないが、前記式からも分かる様に
上記分子内脱水反応は単純な脱水反応ではなく、転移反
応等を経て起こる脱水反応であると考えられる為、この
間の反応に五酸化燐が何らかの触媒的作用を発揮する為
と推測される。何れにしても五酸化燐を脱水剤として使
用すると、後記実施例でも明らかにする如く純度が98
%以上の目的物を98%以上の収率で得ることができ、
殆んどの場合格別の精製を施すことなく商品化すること
ができる。
尚五酸化溝を用いた脱水反応は適当な溶媒の存在下で行
なわれ、溶媒については脱水反応を阻害せず且つ中間体
を例示或は加温時に若干でも溶解せしめ得るものであれ
ば種類の如何を間うものではなく1例えばジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル
ピロリドン等の単独若しくは混合溶媒、或はこれらとト
ルエン、キシレン、クロルベンゼン類等の混合溶媒等が
挙げられる。脱水反応温度は室温ないし溶媒の沸点の範
囲で任意に選択することができ、室温でも反応完結にや
や長時間を要するだけで問題はないが、より好ましいの
は50℃〜溶媒沸溶媒箱囲である。また五酸化溝は2分
子の脱水に要する理論当量で十分であるが、若干多めに
使用しても格別の障害は起こらない。
[実施例] 実施例1 温度計、攪拌機、還流冷却器及び滴下ロートを備えた1
1の4つロフラスコに、アンスラニル酸13.7g (
0,1モル)、無水炭酸ナトリウム11.7g(0,1
1モル)及び水250mMを入れ、透明になるまで攪拌
した。この溶液を30℃以下に保持しつつ、テレフタン
酸ジノロリl’IO,1g (0,05モル)のアセト
ン(60mJL)溶液を滴下ロートより30分を要して
滴下し、室温で2時間攪拌した0次いで濃塩酸18.[
1g (d : 1.1B 、 0.22モル)を加え
て中和し、析出した結晶を濾過、水洗後乾燥して、N、
N′−ビス(0−カルボキシフェニルテレフタルアミド
(中間体) 19.8g (収率98%)を得た。高速
液体クロマトグラフィーにより測定した該中間体の純度
は39.2%であった。
温度計、攪拌機及び還流冷却器を備えたフラスコに上記
で得た中間体19.8g (0,049モル)とN、N
−ジメチルホルムアミド198mJ1及び五酸化溝14
.0g (0,099モル)を入れ、120℃で1.5
時間攪拌した0反応終了後冷却し、析出した結晶を濾過
、水洗後乾燥すると、微黄色の2゜2′−p−フェニレ
ンビス(3,1−ベンズオキサジン−4−オン)(目的
物) 15.8g (収率87.8%)が得られた。#
目的物の純度を高速液体クロマトグラフィーにより測定
したところ99.7%であった。
実施例2 温度計、攪拌機、還流冷却器及び保温型滴下ロートを備
えた11の4つロフラスコに、アンスラニル酸27.4
g (0,2モル)、無水炭酸ナトリウム23.3g 
(0,22モル)及び水250mJjを入れ、85℃に
保って攪拌しつつ粉末状のテレフタル酸ジクロリド20
.3g (0,1モル)を30分間かけて少量ずつ加え
た。その後同温度で更に30分攪拌した後、!塩酸37
.3g (0,44モル)を少しずつ加えて中和し冷却
した。析出した結晶を濾過、水洗後乾燥し、中間体40
.0g (収率83.0%、融点317℃)を得た。高
速液体クロマトグラフィーにより測定した該中間体の純
度は98.9%であった。
温度計、攪拌機及び還流冷却器を備えた200文のフラ
スコに、上記で得た中間体20.2g (0,05モル
)とN、N−ジメチルホルムアミド100m旦、トルエ
ン80m文及び五酸化溝14.2g (0601モル)
を入れ、120℃で2.5時間攪拌した。冷却後析出し
た結晶を濾取し水洗、乾燥すると目的物34.2g (
収率93%、融点317.5℃)が得られた。高速液体
クロマトグラフィーで測定した該目的物の純度は99.
2%であった。
比較例1 実施例2と同様にして得た中間体15g(0,037モ
ル)を無水酢酸75 g (0,74モル)及びトルエ
ン75mJLと共に300mMのフラスコに入れ、還流
下に6時間攪拌した。冷却後生じた結晶を濾取し水洗、
乾燥すると目的物11.0g (収率80.5%)が得
られた。高速液体クロマトグラフィーで測定した該目的
物の純度は99.1%であった。
この例からも分かる様に脱水剤として大量の無水酢酸を
使用するとかなり高純度の目的物を得ることができるが
、収率はやや低い、尚中間体に対し20倍もの無水酢酸
を使用することが生産効率向上の大きな障害となること
は言うまでもない。
比較例2 無水酢酸の使用量を37.5g (0,37モル・・・
比較例1の半量)とし反応時間を12時間とした他は比
較例1と同様にして、目的物11.4g (収率83.
5%、融点310℃)を得た。高速液体クロマトグラフ
ィーにより測定した目的物の純度は88.7%であった
。即ち無水酢酸の使用量を減少すると(それでも理論量
の5倍であるが)、収率及び純度共に不十分となる。
比較例3 攪拌機、還流冷却器、乾燥管及び温度計を付した2文の
フラスコにイサト酸無水物97.8g (0,80モル
)とピリジン1000m lを入れ、60℃に加温して
イサト酸無水物を溶解した後、テレフタン酸ジクロリド
81.Og (0,30モル)を15分間かけて添加し
た0次いで還流下に4時間反応した後冷却し、生じた結
晶を濾過、水洗し、更にメタノール及びアセトンで洗浄
した後乾燥して、2.2’−p−フェニレンビス(3,
1−ベンズオキサジン−4−オン) se、1g (収
率78%)を得た。このものは灰色の結晶で、高速液体
クロマトグラフィーにより測定した純度は84.2%と
低かった為、〇−ジノロルベンゼン1400m4を用い
て再結晶による精製を行なった。その結果、純度98.
4%の目的物74.1g (収率67.1%)が得られ
た。この結果からも明らかな様に、高価なイサト酸無水
物を出発原料として使用した場合でも目的物の収率は低
く、且つ低純度である為商品化する為には精製処理が不
可欠である。
[発明の効果] 本発明は以上の様に構成されており、イサト酸無水物に
比べて極めて安価なアンスラニル酸を使用し且つ中間体
の脱水反応促進剤として五酸化燐を使用することにより
、高純度の2.2′−P−フェニレンビス(3,1−ベ
ンズオキサジン−4−オン)を極めて高い収率で製造し
得ることになった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アンスラニル酸とテレフタル酸ジクロリドとを脱塩化水
    素反応に付してN,N′−ビス(O−カルボキシフェニ
    ル)テレフタルアミドを製造し、これを5酸化燐の存在
    下で分子内脱水することを特徴とする2,2′−p−フ
    ェニレンビス(3,1−ベンズオキサジン−4−オン)
    の製造法。
JP13489985A 1985-06-20 1985-06-20 ベンゾオキサジン類の製造法 Pending JPS61291575A (ja)

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