JPS6129103A - 非晶質合金薄帯の磁性改善方法 - Google Patents
非晶質合金薄帯の磁性改善方法Info
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- JPS6129103A JPS6129103A JP14856984A JP14856984A JPS6129103A JP S6129103 A JPS6129103 A JP S6129103A JP 14856984 A JP14856984 A JP 14856984A JP 14856984 A JP14856984 A JP 14856984A JP S6129103 A JPS6129103 A JP S6129103A
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- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は主として電カドランス、高周波トランス、パル
ストランス、リナクターなどの電力変換器の鉄心として
用いられ−るＦｅ基非晶質合金薄帯の磁気物性とくに一
損と励磁特性を同時に改善する方法に関するものである
。
ストランス、リナクターなどの電力変換器の鉄心として
用いられ−るＦｅ基非晶質合金薄帯の磁気物性とくに一
損と励磁特性を同時に改善する方法に関するものである
。
（従来の技術）
溶融状態から急冷凝固することによって作製される非晶
質合金薄帯は種々のすぐれた性質を示し、応用上注目さ
れている。なかでもＦｅ基非晶質合金は磁束密度が高く
鉄損が低いため各種鉄心の材料として利用されつつある
。非晶質合金の鉄損が低い理由として、非晶質合金は原
理的に異方性がなく、結晶粒界等の欠陥がないためヒス
テリシス損が小さい上に５．板厚が薄く、電気抵抗が大
きいため渦電流損も小さいことが挙げられている。しか
し鉄損値から直流ヒステリシス損を差し引いた広義の渦
電流損は、一様磁化を仮定して計算される古典的渦電流
損に比べて数十倍から １００倍も大きい。これは磁区
幅が大きいために不均一磁化変化に起因する異常渦電流
損の割合が大きいことを示す。さらに、異常渦電流損の
絶対値および全鉄損に占める割合は材料の板厚が増すに
したがい大きくなることが本発明者らの研究によって明
らかになった。したがって、従来材の板厚（２０〜３０
μｍ）より大きな板厚（４０〜８０ ｇ ｍ）の非晶質
合金の性能を十分に引き出すためには渦電流損を低減す
る手段を講することが望ましい。
質合金薄帯は種々のすぐれた性質を示し、応用上注目さ
れている。なかでもＦｅ基非晶質合金は磁束密度が高く
鉄損が低いため各種鉄心の材料として利用されつつある
。非晶質合金の鉄損が低い理由として、非晶質合金は原
理的に異方性がなく、結晶粒界等の欠陥がないためヒス
テリシス損が小さい上に５．板厚が薄く、電気抵抗が大
きいため渦電流損も小さいことが挙げられている。しか
し鉄損値から直流ヒステリシス損を差し引いた広義の渦
電流損は、一様磁化を仮定して計算される古典的渦電流
損に比べて数十倍から １００倍も大きい。これは磁区
幅が大きいために不均一磁化変化に起因する異常渦電流
損の割合が大きいことを示す。さらに、異常渦電流損の
絶対値および全鉄損に占める割合は材料の板厚が増すに
したがい大きくなることが本発明者らの研究によって明
らかになった。したがって、従来材の板厚（２０〜３０
μｍ）より大きな板厚（４０〜８０ ｇ ｍ）の非晶質
合金の性能を十分に引き出すためには渦電流損を低減す
る手段を講することが望ましい。
異常渦電流損を低減する方法としては従来から方向性け
い素鋼板に用いられている方法の適用がまず考えられ試
みられた。例えばスクラッチ法である。これは硬い材質
の尖った先端でけい素鋼板の表面を罫書くもので、磁区
が細分化され鉄損が低減する。しかし、非晶質合金薄帯
にこれを適用しても必ずしも良好な結果を得なかった。
い素鋼板に用いられている方法の適用がまず考えられ試
みられた。例えばスクラッチ法である。これは硬い材質
の尖った先端でけい素鋼板の表面を罫書くもので、磁区
が細分化され鉄損が低減する。しかし、非晶質合金薄帯
にこれを適用しても必ずしも良好な結果を得なかった。
例えばＮａ ｒ ｉ ｔａらはＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ
ｏｆ ４ｔｈ ＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＣｏｎｆ
ｅｒｅｎｃｅ ｏｎ Ｒａｐｉｄｌｙ Ｑｕｅｎｃｈｅ
ｄ Ｍｅｔａｌｓ（＋１１８２）ｐ、１００１〜１００
４において、Ｆｅ基非晶質合金薄帯に焼鈍を施した後ダ
イヤモンド針で薄帯の表面を罫書いて導入した線状の歪
が鉄損におよぼす効果を報告している。それによれば歪
の効果は５ｋＨｚ以上の高周波数域で表われるが、電カ
スランス等で重要な１００ Ｈｚ以下の低周波数域では
鉄損はむしろ増大している。この理由としてけい素鋼板
に比べて板厚の薄い非晶質合金では低周波数域において
元来、渦電流損が小さいため磁区細分化による鉄損低減
効果はわずかであること、むしろヒステリシス損の増大
によって全鉄損が増大するためと推定される。
ｏｆ ４ｔｈ ＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＣｏｎｆ
ｅｒｅｎｃｅ ｏｎ Ｒａｐｉｄｌｙ Ｑｕｅｎｃｈｅ
ｄ Ｍｅｔａｌｓ（＋１１８２）ｐ、１００１〜１００
４において、Ｆｅ基非晶質合金薄帯に焼鈍を施した後ダ
イヤモンド針で薄帯の表面を罫書いて導入した線状の歪
が鉄損におよぼす効果を報告している。それによれば歪
の効果は５ｋＨｚ以上の高周波数域で表われるが、電カ
スランス等で重要な１００ Ｈｚ以下の低周波数域では
鉄損はむしろ増大している。この理由としてけい素鋼板
に比べて板厚の薄い非晶質合金では低周波数域において
元来、渦電流損が小さいため磁区細分化による鉄損低減
効果はわずかであること、むしろヒステリシス損の増大
によって全鉄損が増大するためと推定される。
非晶質材料に独特の鉄損低減法としては、局部結晶化の
方法が提案されている。これは特開昭５７−！１１７８
０８号公報にて開示される方法で、薄帯の幅方向に線状
あるいは点列状の結晶化領域を形成させるものである。
方法が提案されている。これは特開昭５７−！１１７８
０８号公報にて開示される方法で、薄帯の幅方向に線状
あるいは点列状の結晶化領域を形成させるものである。
ここで結晶化の手法はレーザ光や電子ビームを照射する
か、あるいは金属針、金属エツジの何れかを薄帯表面に
近接ないし接触させながら通電加熱する方法を採用して
いる。この局部結晶化領域を導入する方法は磁区の細分
化に有効な手段ではあるが、低周波数域での鉄損低減に
対して必ずしも一定の効果を示さない欠点があった。例
えば前記特開昭５７−９７８０１１号公報においては、
商用周波数で効果を表わしているのに対してＮａ’ｒｉ
ｔａらの前記論文は線状結晶化領域を付与する効果につ
いても述べているが、それによればスフランチ法に比べ
れば低周波数側まで効果のある領域は広がっているが、
２００ Ｈｚ以下では無効ないしむしろ劣化している。
か、あるいは金属針、金属エツジの何れかを薄帯表面に
近接ないし接触させながら通電加熱する方法を採用して
いる。この局部結晶化領域を導入する方法は磁区の細分
化に有効な手段ではあるが、低周波数域での鉄損低減に
対して必ずしも一定の効果を示さない欠点があった。例
えば前記特開昭５７−９７８０１１号公報においては、
商用周波数で効果を表わしているのに対してＮａ’ｒｉ
ｔａらの前記論文は線状結晶化領域を付与する効果につ
いても述べているが、それによればスフランチ法に比べ
れば低周波数側まで効果のある領域は広がっているが、
２００ Ｈｚ以下では無効ないしむしろ劣化している。
またレーザ光を照射して、結晶化させずに鉄損を低減す
る方法は特開昭５８−４４７１０号および特開昭５６−
４４７１１号公報にて開示されている方法がある。
る方法は特開昭５８−４４７１０号および特開昭５６−
４４７１１号公報にて開示されている方法がある。
この方法は鉄損低減には有効であったが、励磁特性がや
や劣化する欠点があった。
や劣化する欠点があった。
以上述べたように従来技術の適用は非晶質合金の鉄損低
減に効果がほとんどないか、効果がある場合でも励磁特
性を劣化させる欠点を有していた。励磁特性は通常、所
定の磁束密度を得るために必要な励磁電力（励磁実効Ｖ
Ａ）の大きさで表わされるが、より簡便には一定の磁界
（例えば１０ｅ）の下で誘導される磁束密度の大きさＢ
１によっても表わすことができる。通常のレーザ照射や
スクラッチ法による励磁特性の劣化の原因は局部的に導
入された歪による垂直異方性の形成によるものと考えら
れる。
減に効果がほとんどないか、効果がある場合でも励磁特
性を劣化させる欠点を有していた。励磁特性は通常、所
定の磁束密度を得るために必要な励磁電力（励磁実効Ｖ
Ａ）の大きさで表わされるが、より簡便には一定の磁界
（例えば１０ｅ）の下で誘導される磁束密度の大きさＢ
１によっても表わすことができる。通常のレーザ照射や
スクラッチ法による励磁特性の劣化の原因は局部的に導
入された歪による垂直異方性の形成によるものと考えら
れる。
一方向性けい素鋼板において採用されるレーザ照射およ
びスクラッチ処理の効果は歪取り焼鈍により全く効果を
失なうため、処理後の垂直異方性の原因である局部歪を
除去するために歪取り焼鈍をすることはできない。した
がって鉄損の改善に主眼をおき、励磁特性の劣化はやむ
を得ないものと甘受していた。非晶質材料についても、
上述したように従来の公知文献からみる限り事情は同じ
で、励磁特性の劣化はやむを得ないものと考えられてい
た。
びスクラッチ処理の効果は歪取り焼鈍により全く効果を
失なうため、処理後の垂直異方性の原因である局部歪を
除去するために歪取り焼鈍をすることはできない。した
がって鉄損の改善に主眼をおき、励磁特性の劣化はやむ
を得ないものと甘受していた。非晶質材料についても、
上述したように従来の公知文献からみる限り事情は同じ
で、励磁特性の劣化はやむを得ないものと考えられてい
た。
これに対して本発明は非晶質合金の鉄損を低減するとと
もに同時に励磁特性をも改善することを目的として新し
い方法を提案するものである。
もに同時に励磁特性をも改善することを目的として新し
い方法を提案するものである。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はＦｅ基非晶質合金の鉄損および励磁特性を同時
に改善する方法を提供することを目的としている。
に改善する方法を提供することを目的としている。
（問題点を解決するための手２段拳作用）本発明は非晶
質合金薄帯の表面を局部的かつ瞬間的に溶解し、次いで
その部分を急冷凝固させて非晶質化することにより、局
部的に熱歪を導入する工程および該熱歪付与後の焼鈍工
程の組合せによって構成される。照射は通常鋳造ままの
薄帯になされるが、絶縁や防錆を目的とする表面処理が
施されたものでもよい。
質合金薄帯の表面を局部的かつ瞬間的に溶解し、次いで
その部分を急冷凝固させて非晶質化することにより、局
部的に熱歪を導入する工程および該熱歪付与後の焼鈍工
程の組合せによって構成される。照射は通常鋳造ままの
薄帯になされるが、絶縁や防錆を目的とする表面処理が
施されたものでもよい。
局所溶解部の付与はビーム径を細く絞ったパルスレーザ
の照射による。導入される溶解部の個々の形状は第１図
のように円ないし楕円形状をしている。照射部が結晶化
しないために、ビーム径は０．５ ｍｍφ以下のパルス
レーザを用いる必要がある。結晶化すると磁性は一般に
劣化した。パルスレーザの照射によって形成された局所
溶解部は中央部がへこみ周辺部は盛り上っている。ここ
でいう溶解部とは周辺部を含めるものとする。周辺部の
盛り上りはレーザ照射による急激な熱エネルギの入射に
より溶解された合金が周辺に溢れ出して凝固した結果と
考えられる。
の照射による。導入される溶解部の個々の形状は第１図
のように円ないし楕円形状をしている。照射部が結晶化
しないために、ビーム径は０．５ ｍｍφ以下のパルス
レーザを用いる必要がある。結晶化すると磁性は一般に
劣化した。パルスレーザの照射によって形成された局所
溶解部は中央部がへこみ周辺部は盛り上っている。ここ
でいう溶解部とは周辺部を含めるものとする。周辺部の
盛り上りはレーザ照射による急激な熱エネルギの入射に
より溶解された合金が周辺に溢れ出して凝固した結果と
考えられる。
本発明の構成要件の１つである溶解部の平均径を所定の
範囲とするために、パルスレーザの照射強度、ビーム径
９周波数、掃引速度などのパラメータを制御する。具体
的にはビーム径０．５ ＋ｍｍφｍｍφ以下エネルギ密
度が溶解部の単位面積当り０．０２〜１．ＯＪ／＋ａ／
となるように、照射強度（レーザパワー）１周波数、掃
引速度を調整する。 ０．０２Ｊａｍ♂以下では焼鈍に
よって照射の効果は消失する。１．ＯＪ／ｌｉｎ？を越
えると鉄損は改善されても磁束密度が劣化する。
範囲とするために、パルスレーザの照射強度、ビーム径
９周波数、掃引速度などのパラメータを制御する。具体
的にはビーム径０．５ ＋ｍｍφｍｍφ以下エネルギ密
度が溶解部の単位面積当り０．０２〜１．ＯＪ／＋ａ／
となるように、照射強度（レーザパワー）１周波数、掃
引速度を調整する。 ０．０２Ｊａｍ♂以下では焼鈍に
よって照射の効果は消失する。１．ＯＪ／ｌｉｎ？を越
えると鉄損は改善されても磁束密度が劣化する。
また溶解部の点列の方向は薄帯の幅方向に対して３０度
以下の平均角度で隣り合う点列の平均間隔が１〜２０ｍ
ｍとなるようにライン速度（薄帯の移動速度）および照
射に掃引速度を選定する。隣り合う点列は平行である必
要はなくまた直線である必、要もない。例えば第２図に
示す正弦曲線状の点列も本発明の範囲に含まれる。
以下の平均角度で隣り合う点列の平均間隔が１〜２０ｍ
ｍとなるようにライン速度（薄帯の移動速度）および照
射に掃引速度を選定する。隣り合う点列は平行である必
要はなくまた直線である必、要もない。例えば第２図に
示す正弦曲線状の点列も本発明の範囲に含まれる。
さらに本発明において重要なことは溶解部の分布密度で
ある０分布布度を第３図に図示するように点列が構成す
る直線または曲線の長さＬに占める溶解部の径の和（見
＝見１＋見２＋・・・・・・）の比率として表わすとき
、これがｔｏ １以上でなければならない。この範囲は
１０１未満では後に行なわれる焼鈍により局部歪が完全
に除去されて照射の効果が表われなことから定められた
。
ある０分布布度を第３図に図示するように点列が構成す
る直線または曲線の長さＬに占める溶解部の径の和（見
＝見１＋見２＋・・・・・・）の比率として表わすとき
、これがｔｏ １以上でなければならない。この範囲は
１０１未満では後に行なわれる焼鈍により局部歪が完全
に除去されて照射の効果が表われなことから定められた
。
本発明の構成要件としてレーザ照射後の焼鈍に関する条
件がある。焼鈍条件（温度および時間）はレーザ照射条
件または形成される溶解部の性状および分布密度などに
応じて選定する必要がある。焼鈍条件の適正範囲は合金
の組成にも依存す□る□ため具体的数値で表示すること
が難かしいが。
件がある。焼鈍条件（温度および時間）はレーザ照射条
件または形成される溶解部の性状および分布密度などに
応じて選定する必要がある。焼鈍条件の適正範囲は合金
の組成にも依存す□る□ため具体的数値で表示すること
が難かしいが。
実験的に次の方法で定めることができる。すなわち、同
一合金組成の薄帯のレーザ処理なしの最適焼鈍条件を前
もって実験的に求めておく。も□し、この温度がＴａで
あればレーザ処理材はこれより高い温度で行なう。この
場合の焼鈍温度は通常Ｔａ−＋１０〜４０℃の範囲であ
り、レーザ照射条件が強い場合（本発明が規定する範囲
内で）高目とし、照射条件が強い場合低目とする。組成
Ｆ ｅ ＃ＯＪＳ Ｉ ｂ、ｒ Ｂａｔ Ｃ＋ （ａ
ｔ Ｘ） テ、板厚６５ｇｍ ｃ７）非晶質薄帯の場合
、レーザ照射をしない場合、鉄損に対する最適焼鈍温度
は３６０℃×６０分（Ｎ２中）であったが、約２００
ｐ−＋ｅφの溶解部を線密度７ｏｚ。
一合金組成の薄帯のレーザ処理なしの最適焼鈍条件を前
もって実験的に求めておく。も□し、この温度がＴａで
あればレーザ処理材はこれより高い温度で行なう。この
場合の焼鈍温度は通常Ｔａ−＋１０〜４０℃の範囲であ
り、レーザ照射条件が強い場合（本発明が規定する範囲
内で）高目とし、照射条件が強い場合低目とする。組成
Ｆ ｅ ＃ＯＪＳ Ｉ ｂ、ｒ Ｂａｔ Ｃ＋ （ａ
ｔ Ｘ） テ、板厚６５ｇｍ ｃ７）非晶質薄帯の場合
、レーザ照射をしない場合、鉄損に対する最適焼鈍温度
は３６０℃×６０分（Ｎ２中）であったが、約２００
ｐ−＋ｅφの溶解部を線密度７ｏｚ。
点列間隔５＋ｅｍで有するレーザ処理材は実施例１に示
すように３８０℃Ｘ８０分（Ｎ２中）の焼鈍後に鉄損だ
けでなく、励磁特性の向上が認められた。
すように３８０℃Ｘ８０分（Ｎ２中）の焼鈍後に鉄損だ
けでなく、励磁特性の向上が認められた。
照射後の焼鈍条件が不適切なものは鉄損の向上は認めら
れても、励磁特性の向上は達成できない。
れても、励磁特性の向上は達成できない。
本発明の方法において、レーザ照射後の薄帯を層間絶縁
などを目的としてコーティング処理をしてもよい。
などを目的としてコーティング処理をしてもよい。
（実施例）
次に実施例をあげて説明する。
実施例１
単ロール法で作成された組成Ｆｅ、。ｇ Ｓ ＋ ６４
Ｂ ＨｌＣｌ、板幅５ｈｍ、板厚ｅ５ｐｍの鋳造まま
の非晶質薄帯の自由面にＹＡＧレーザを照射して局所溶
解部を導入した。照射条件は周波数４００Ｈｚ、ビーム
径０．２１１１ｍφ、出力５Ｗ、ビーム掃引速度１０ｃ
ｍ／ｓｅｅ 。
Ｂ ＨｌＣｌ、板幅５ｈｍ、板厚ｅ５ｐｍの鋳造まま
の非晶質薄帯の自由面にＹＡＧレーザを照射して局所溶
解部を導入した。照射条件は周波数４００Ｈｚ、ビーム
径０．２１１１ｍφ、出力５Ｗ、ビーム掃引速度１０ｃ
ｍ／ｓｅｅ 。
点列の間隔５ｍｍであった。光学顕微鏡で観察した溶解
部はほぼ円形をしており、その面積は約０．０４ｍｍ”
、線密度は約７０χであった。したがって照射エネルギ
密度はほぼ０．３ Ｊ／ａ＋ｍ’と計算される。また溶
解部および周辺部が結晶化していないことが、Ｘ線回折
および光学顕微鏡観察により確認された。
部はほぼ円形をしており、その面積は約０．０４ｍｍ”
、線密度は約７０χであった。したがって照射エネルギ
密度はほぼ０．３ Ｊ／ａ＋ｍ’と計算される。また溶
解部および周辺部が結晶化していないことが、Ｘ線回折
および光学顕微鏡観察により確認された。
上記照射後の薄帯を３８０℃×８０分（Ｎ２中）で磁場
焼鈍した後の磁気特性は第１表の通りであった。比較と
して行なった未照射材を最適条件である ３８０°Ｃ×
６０分（Ｎ２中）で焼鈍した後の磁気特性を同じく第１
表に示しである。本発明の方法によって処理された薄帯
の磁気特性は鉄損、磁束密度ともに比較例に比べてすぐ
れていることが分る。
焼鈍した後の磁気特性は第１表の通りであった。比較と
して行なった未照射材を最適条件である ３８０°Ｃ×
６０分（Ｎ２中）で焼鈍した後の磁気特性を同じく第１
表に示しである。本発明の方法によって処理された薄帯
の磁気特性は鉄損、磁束密度ともに比較例に比べてすぐ
れていることが分る。
第 １ 表
ここでＷ＋ｇ。は周波数５０Ｈｚ 、磁束密度１．３Ｔ
で測定した鉄損、Ｂ１は磁場ｆｏｅにおける磁束密度。
で測定した鉄損、Ｂ１は磁場ｆｏｅにおける磁束密度。
測定は単板測定器を用いた。
実施例２
実施例１と同一組成、同一板幅および板厚の鋳造ままの
非晶質薄帯の自由面にＹＡＧレーザを照射して局所溶解
部を導入した。照射条件は周波数４００ Ｈｚ 、 ヒ
’ −ム径０．２１１ｍｍ、出力５ｗ、ライン速度２
ａｍ／ｓｅｅ 、ビーム掃引速度１０ｃｍ／ｓｅｃであ
った。
非晶質薄帯の自由面にＹＡＧレーザを照射して局所溶解
部を導入した。照射条件は周波数４００ Ｈｚ 、 ヒ
’ −ム径０．２１１ｍｍ、出力５ｗ、ライン速度２
ａｍ／ｓｅｅ 、ビーム掃引速度１０ｃｍ／ｓｅｃであ
った。
光学顕微鏡で観察した薄帯の照射部は実施例１とほぼ同
じ性状をしていた。この照射した薄帯１３００ｇを外径
１２０ ａｍφのステンレス髪巻き枠に巻いて、３８０
℃×１２０分磁場中で焼鈍した。ただし昇温は１５０℃
で約１２０分保持した後、平均毎分約３°Ｃで上げた。
じ性状をしていた。この照射した薄帯１３００ｇを外径
１２０ ａｍφのステンレス髪巻き枠に巻いて、３８０
℃×１２０分磁場中で焼鈍した。ただし昇温は１５０℃
で約１２０分保持した後、平均毎分約３°Ｃで上げた。
降温は炉冷で、２５０″Ｃまで平均毎分約２°Ｃであっ
た。
た。
焼鈍後の鉄心の磁気特性を第２表に示した。
レーザ処理をしない同一組成、同一形状の薄帯を同一重
量、同一形状の巻き鉄心に成形し、 ３８０″Ｃ×１２
０分の磁場焼鈍をした後の磁気特性を比較として第２表
に示した。本発明の方法で処理された鉄心の磁気特性は
鉄損、励磁特性ともに比較例に比べてすぐれていること
が分る。
量、同一形状の巻き鉄心に成形し、 ３８０″Ｃ×１２
０分の磁場焼鈍をした後の磁気特性を比較として第２表
に示した。本発明の方法で処理された鉄心の磁気特性は
鉄損、励磁特性ともに比較例に比べてすぐれていること
が分る。
第２表
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば非晶質磁性合金薄帯
の鉄損および励磁特性を同時に改善することができる。
の鉄損および励磁特性を同時に改善することができる。
第１図は本発明における溶解・急冷凝固部分の組織を示
す顕微鏡写真、第２図は本発明において溶解・急冷凝固
を行なう一実例を示す説明図、第３図は本発明における
溶解・急冷凝固部の大きさおよび間隔を示す説明図であ
る。
す顕微鏡写真、第２図は本発明において溶解・急冷凝固
を行なう一実例を示す説明図、第３図は本発明における
溶解・急冷凝固部の大きさおよび間隔を示す説明図であ
る。
Claims (6)
- （１）非晶質合金薄帯の表面を局部的かつ瞬間的に溶解
し、次いで急冷凝固させて再び非晶質化した後、該薄帯
を焼鈍することを特徴とする非晶質合金薄帯の磁性改善
方法。 - （２）非晶質合金薄帯の表面を局部的に溶解する手段と
して、ビーム径が０．５ｍｍφ以下に絞ったレーザ光を
照射することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
非晶質合金薄帯の磁性改善方法。 - （３）非晶質薄帯の表面を局部的に溶解する手段として
、ビーム径０．５ｍｍφ以下のパルスレーザ光を照射す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の非晶質
合金薄帯の磁性改善方法。 - （４）非晶質合金薄帯の表面を局部的に溶解する手段が
ビーム径０．３ｍｍφ以下、単一パルス当りのエネルギ
密度が０．０２〜１．０Ｊ／ｍｍ＾２のパルスレーザで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の非晶
質合金薄帯の磁性改善方法。 - （５）溶解部に導入されるエネルギの形状が、円あるい
は楕円状であり、かつ溶解部が薄帯の幅方向に対して３
０度以下の平均角度を有する直線または曲線上に線密度
が１０％以上の点列として導入され、隣り合う点列の平
均間隔が１〜２０ｍｍである特許請求の範囲第１項記載
の非晶質合金薄帯の磁性改善方法。 - （６）非晶質合金薄帯の表面を局部的かつ瞬間的に溶解
し、次いで急冷凝固させて再び非晶質化した後、該薄帯
を巻き鉄心に成形し、次いで歪取り焼鈍することを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の非晶質合金薄帯の磁
性改善方法。
Priority Applications (5)
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|---|---|---|---|
| JP14856984A JPS6129103A (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | 非晶質合金薄帯の磁性改善方法 |
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|---|---|---|---|
| JP14856984A JPS6129103A (ja) | 1984-07-19 | 1984-07-19 | 非晶質合金薄帯の磁性改善方法 |
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| JPH0332888B2 JPH0332888B2 (ja) | 1991-05-15 |
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