JPH0253935B2 - - Google Patents
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- JPH0253935B2 JPH0253935B2 JP55173148A JP17314880A JPH0253935B2 JP H0253935 B2 JPH0253935 B2 JP H0253935B2 JP 55173148 A JP55173148 A JP 55173148A JP 17314880 A JP17314880 A JP 17314880A JP H0253935 B2 JPH0253935 B2 JP H0253935B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1294—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a localized treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
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Description
本発明は、極めて鉄損の低い非晶質合金薄帯の
製造方法に関するものであり、特に本発明は、電
気機器のコアー材料として改良された極めて鉄損
の低い非晶質合金薄帯の製造方法に関するもので
ある。 近年合金溶湯をローラークエンチ等の超急冷法
によつて急冷凝固させて非晶質合金薄帯を工業的
に製造する技術が開発されている。特にFeを約
70%以上含有する鉄系の非晶質合金薄帯は飽和磁
束密度が比較的高く軟磁気特性が優れているの
で、トランスの鉄芯材料としても応用が可能であ
ると考えられている。 ところでトランスの鉄芯材料として用いる場合
飽和磁束密度が高いことと共に商用周波数レベル
での鉄損の低いことが要求される。しかしながら
従来の溶体超急冷法によつて製造された非晶質合
金薄帯にあつては飽和磁束密度が高く、かつ鉄損
が低いという2つの条件を充分に兼ね具えた非晶
質合金薄帯は知られていなかつた。 本発明は、上記2つの条件を兼ね具えたFe70
%以上を含有する鉄系非晶質合金薄帯の製造方法
を提供することを目的とするものであり、特許請
求の範囲記載の方法によつて前記目的を達成する
ことができる。 次に本発明を詳細に説明する。 本発明者等は、上記2つの条件を満すことに留
意して種々実験を行なつた結果、通常特性的には
好ましくないと考えられていた結晶化を局部的に
行なわせると、意外にも鉄損が減少することを新
規に知見して本発明を完成した。 次に本発明を工程順に説明する。 本発明は磁束密度の高い材料を提供することを
1つの目的としていることからFe含有量を70原
子%以上とする必要があり、また非晶質組織を形
成させるためには、B,Si,C,P等のメタロイ
ド元素を30〜15原子%含有させるか、あるいは
Zr,Tiなどの元素を約20原子%含有させること
は有利である。さらにコスト的には高価となるが
Coを含有させて磁束密度を上昇させることもで
き、さらにCr等を少量含有させて耐食性を向上
させることが好ましい。 上記のように使用目的に応じた成分組成に調整
した溶鋼を、冷却体の連続的に移動する冷却面上
に、ノズルから噴出,急冷,凝固させて通常
100μm厚さ以下の薄帯を連続的に作成する。前
記急冷する方法として単ロール,双ロール等を冷
却体として用いるローラークエンチ法、連続した
金属製ベルトを冷却体として用いる連続ベルト
法、ドラム内面を冷却面として用いるドラム内面
吹き法等公知の任意の方法を用いて非晶質合金薄
帯を製造することができる。 このように急冷して製造された非晶質合金薄帯
は内部歪等を内包しており、磁気特性が劣つてい
るため、磁区構造を整えるために、キユリー点以
上乃至結晶化温度以下の温度範囲内で焼鈍冷却す
るが、このような熱処理によつて通常磁気特性が
向上することは従来知られている。上記焼鈍の際
焼鈍温度が結晶化温度を超えると部分的あるいは
全面的に組織の結晶化が生起して磁気特性が急激
に劣化するに至ることも従来知られている。 本発明者等は、通常磁気的に好ましくないと考
えられている結晶化を局部的に生起させると、む
しろ鉄損特性が向上することを新規に知見したの
である。例えば非晶質合金薄帯の表面にレーザー
あるいは電子ビームを絞つて掃引照射すると局部
的に加熱されて第1図aの斜視的説明図に示すよ
うに条状の結晶化した領域が形成されていること
が、光学顕微鏡もしくは電子顕微鏡観察によつて
明白に認められた。第1図bはレーザー光線ある
いは電子ビームを薄帯表面に照射して形成させた
結晶化領域を有する薄帯縦断面説明図である。第
1図a,bによれば薄帯の厚さDに対し結晶化領
域の深さがdであることが示されている。また第
1図cに示すように導電性を有する高融点金属も
しくは合金からなる針状あるいはエツヂ状接触子
を薄帯に近接あるいは接触させてこの間に電圧を
かけると枚電あるいは直接通電によつて薄帯組織
は局部的に結晶化する。この金属接触子を同様に
掃引すると同様に条状の結晶化が形成される。上
記レーザー,電子ビーム,金属接触子電流等の強
度,絞り径,また接触子形状,さらに加熱時間を
制御することにより、結晶化領域の大きさを自在
に制御することができる。この場合第1図に示す
ように薄帯厚Dに対する結晶化領域の薄帯表面か
らの深さdの比d/Dをもつて結晶化程度の1つ
の尺度とすることができる。第1図dに示すよう
に同一場所を表裏から局所加熱したときには表裏
それぞれからの深さa,bとの和をdとして結晶
化程度を判断すればよく、薄帯の厚み全体にわた
つて結晶化したときはd/D=1となる。 第2図a〜dはそれぞれ平面図であり、同図
a,c,dは結晶化領域を薄帯の巾方向に平行に
形成させた模様、同図bは薄帯の巾方向にある角
度をもたせて結晶化領域を形成させた模様を示す
平面図である。同図bに示すようにθは条と巾方
向とのなす角度を、またLは薄帯の長手方向に測
つた各条間の間隔を示す。 以上のような条状の結晶化領域を単ロールで作
成したFe81B13S14C2薄帯上を0.1mmに絞つたレ
ーザー光線束を掃引することによつて形成させ
た。この薄帯の厚さは25μmであり、条を巾方向
につけ、すなわちθ=0゜とし、条間隔を5mmと
し、レーザーの強度あるいは掃引速度を種々変え
て結晶化領域の深さdと結晶化領域の割合を制御
した。このような薄帯をさらに350℃で磁場中焼
鈍冷却して長手方向の鉄損値W13/50(1.3T励磁
50Hzでの鉄損)を測定し、その結果を第3図に示
す。条状結晶化処理を施さない薄帯の鉄損値W1
3/50は0.7W/Kgであるのに比し、結晶化領域の
体積割合が8%以下で、かつ薄帯厚さに対する結
晶化領域厚さの比d/Dが0.1以上の場合には鉄
損値が大巾に減少している。結晶化領域が8%を
超えると従来考えられているように鉄損は増加し
磁化特性も大巾に劣化するに至る。同じ薄帯を用
いて深し比d/Dが約0.5でθ=0゜の条状結晶化
領域を種々の間隔で形成させた後、上述の磁場焼
鈍を施した結果を第4図に示す。条間隔Lは2〜
100mm,好ましくは3〜20mmとすることが有利で
あることが判る。次に間隔Lを5mmとして、条と
巾方向のなす角度θを変化させたときの鉄損を第
5図に示す。仝図よりも角度θが30゜を超すと条
状結晶化領域を形成させても鉄損を低下させる効
果がないことが判る。 以上の結果から特定の形状,大きさの条状結晶
化領域を形成させると鉄損値が改善されることが
判つた。 本発明によれば、結晶化させる領域の体積が薄
帯の体積の8%より多いと鉄損値を低下させるこ
とができないので、前記結晶化させる領域の体積
%を8%以下にする必要があり、また条状に結晶
化領域を形成させる場合には、条と薄帯の巾方向
となす角度を30゜以下とする必要がある。さらに
また板厚方向の結晶化領域dと板厚Dとの比d/
Dは0.1より少ないと鉄損値が低下しないので前
記比d/Dは0.1以上とする必要があり、また互
いに隣接する条の間隔は2mmより狭いか、あるい
は100mmより広いと鉄損値が低下しないので、前
記間隙は2〜100mmの範囲内にする必要がある。 以上のように局所的に結晶化領域を形成させる
ことが鉄損の低下に及ぼす原因は明白ではない
が、前記結晶化領域の形成によつて磁区構造が細
分化されるためによるものではないと本発明者等
は考えている。 本発明によれば、結晶化領域の形状は、結晶化
領域の薄帯全体に対する体積比率が8vol%以下で
あれば、条状であることに限定されない。後述の
実施例ならびに第2図c,dに示すように小さな
点状結晶化領域を巾方向に並列形成させても鉄損
値を低下させるという効果を発揮させることがで
きる。この場合も個々の点状結晶化領域の板厚方
向の深さdと薄帯の厚さDとの比d/Dは0.1以
上とする必要がある。また第2図dに示すように
1列に整列した個々の点状結晶化領域のほゞ中心
を通過する直線を想定し、この直線が薄帯の両側
端によつて劃成される線分の長さに対し、前記直
線上に並んだ点状結晶化領域が前記線分上で占め
る個々の長さの和が前記線分長さに対し80%を超
えるよう点状結晶化領域を形成させる必要があ
る。上記例えば80%で示す比率を点列線上の結晶
化率とも記す。またこのような点列は前記連続し
た条状列と同様に薄帯の巾方向に対する角度θは
30゜以下であり、かつそれぞれの点列の間隔は2
〜100mmの範囲内にする必要がある。 本発明によれば、非晶質薄帯の種類,組成,厚
さの如何を問わず、局所的加熱により結晶化領域
を形成させることにより鉄損の低減化を達成する
ことができる。前記局所加熱は局所的に加熱する
ことができれば何れの手段を用いてもよいが、先
述のようにレーザー,電子ビーム,接触子通電の
何れかを好適に使用することができる。 上記局所加熱は非晶質薄帯作成後鉄芯などへの
組込みまでの任意の時点で施すことができる。特
に本発明によれば、キユリー点以上の焼鈍を施す
必要があるので、この焼鈍と局所加熱処理を同一
工程において施すことが工業的には好ましい。 次に本発明を実施例について説明する。 実施例 双ロール法で作成した50μm厚さのFe80B20非
晶質薄帯の表面に20μm径に絞つた電子ビームを
照射して第2図dに示すような点列状の結晶化領
域を作成した。点列線上結晶化率,間隔,点列と
巾方向とのなす角度θを種々変化させた後、それ
ぞれ380℃で0.5Kg/mm2のテンシヨンを長手方向に
かけて焼鈍した。その後薄帯長手方向に測定した
鉄損値W13/50は下記の表の如くであつた。
製造方法に関するものであり、特に本発明は、電
気機器のコアー材料として改良された極めて鉄損
の低い非晶質合金薄帯の製造方法に関するもので
ある。 近年合金溶湯をローラークエンチ等の超急冷法
によつて急冷凝固させて非晶質合金薄帯を工業的
に製造する技術が開発されている。特にFeを約
70%以上含有する鉄系の非晶質合金薄帯は飽和磁
束密度が比較的高く軟磁気特性が優れているの
で、トランスの鉄芯材料としても応用が可能であ
ると考えられている。 ところでトランスの鉄芯材料として用いる場合
飽和磁束密度が高いことと共に商用周波数レベル
での鉄損の低いことが要求される。しかしながら
従来の溶体超急冷法によつて製造された非晶質合
金薄帯にあつては飽和磁束密度が高く、かつ鉄損
が低いという2つの条件を充分に兼ね具えた非晶
質合金薄帯は知られていなかつた。 本発明は、上記2つの条件を兼ね具えたFe70
%以上を含有する鉄系非晶質合金薄帯の製造方法
を提供することを目的とするものであり、特許請
求の範囲記載の方法によつて前記目的を達成する
ことができる。 次に本発明を詳細に説明する。 本発明者等は、上記2つの条件を満すことに留
意して種々実験を行なつた結果、通常特性的には
好ましくないと考えられていた結晶化を局部的に
行なわせると、意外にも鉄損が減少することを新
規に知見して本発明を完成した。 次に本発明を工程順に説明する。 本発明は磁束密度の高い材料を提供することを
1つの目的としていることからFe含有量を70原
子%以上とする必要があり、また非晶質組織を形
成させるためには、B,Si,C,P等のメタロイ
ド元素を30〜15原子%含有させるか、あるいは
Zr,Tiなどの元素を約20原子%含有させること
は有利である。さらにコスト的には高価となるが
Coを含有させて磁束密度を上昇させることもで
き、さらにCr等を少量含有させて耐食性を向上
させることが好ましい。 上記のように使用目的に応じた成分組成に調整
した溶鋼を、冷却体の連続的に移動する冷却面上
に、ノズルから噴出,急冷,凝固させて通常
100μm厚さ以下の薄帯を連続的に作成する。前
記急冷する方法として単ロール,双ロール等を冷
却体として用いるローラークエンチ法、連続した
金属製ベルトを冷却体として用いる連続ベルト
法、ドラム内面を冷却面として用いるドラム内面
吹き法等公知の任意の方法を用いて非晶質合金薄
帯を製造することができる。 このように急冷して製造された非晶質合金薄帯
は内部歪等を内包しており、磁気特性が劣つてい
るため、磁区構造を整えるために、キユリー点以
上乃至結晶化温度以下の温度範囲内で焼鈍冷却す
るが、このような熱処理によつて通常磁気特性が
向上することは従来知られている。上記焼鈍の際
焼鈍温度が結晶化温度を超えると部分的あるいは
全面的に組織の結晶化が生起して磁気特性が急激
に劣化するに至ることも従来知られている。 本発明者等は、通常磁気的に好ましくないと考
えられている結晶化を局部的に生起させると、む
しろ鉄損特性が向上することを新規に知見したの
である。例えば非晶質合金薄帯の表面にレーザー
あるいは電子ビームを絞つて掃引照射すると局部
的に加熱されて第1図aの斜視的説明図に示すよ
うに条状の結晶化した領域が形成されていること
が、光学顕微鏡もしくは電子顕微鏡観察によつて
明白に認められた。第1図bはレーザー光線ある
いは電子ビームを薄帯表面に照射して形成させた
結晶化領域を有する薄帯縦断面説明図である。第
1図a,bによれば薄帯の厚さDに対し結晶化領
域の深さがdであることが示されている。また第
1図cに示すように導電性を有する高融点金属も
しくは合金からなる針状あるいはエツヂ状接触子
を薄帯に近接あるいは接触させてこの間に電圧を
かけると枚電あるいは直接通電によつて薄帯組織
は局部的に結晶化する。この金属接触子を同様に
掃引すると同様に条状の結晶化が形成される。上
記レーザー,電子ビーム,金属接触子電流等の強
度,絞り径,また接触子形状,さらに加熱時間を
制御することにより、結晶化領域の大きさを自在
に制御することができる。この場合第1図に示す
ように薄帯厚Dに対する結晶化領域の薄帯表面か
らの深さdの比d/Dをもつて結晶化程度の1つ
の尺度とすることができる。第1図dに示すよう
に同一場所を表裏から局所加熱したときには表裏
それぞれからの深さa,bとの和をdとして結晶
化程度を判断すればよく、薄帯の厚み全体にわた
つて結晶化したときはd/D=1となる。 第2図a〜dはそれぞれ平面図であり、同図
a,c,dは結晶化領域を薄帯の巾方向に平行に
形成させた模様、同図bは薄帯の巾方向にある角
度をもたせて結晶化領域を形成させた模様を示す
平面図である。同図bに示すようにθは条と巾方
向とのなす角度を、またLは薄帯の長手方向に測
つた各条間の間隔を示す。 以上のような条状の結晶化領域を単ロールで作
成したFe81B13S14C2薄帯上を0.1mmに絞つたレ
ーザー光線束を掃引することによつて形成させ
た。この薄帯の厚さは25μmであり、条を巾方向
につけ、すなわちθ=0゜とし、条間隔を5mmと
し、レーザーの強度あるいは掃引速度を種々変え
て結晶化領域の深さdと結晶化領域の割合を制御
した。このような薄帯をさらに350℃で磁場中焼
鈍冷却して長手方向の鉄損値W13/50(1.3T励磁
50Hzでの鉄損)を測定し、その結果を第3図に示
す。条状結晶化処理を施さない薄帯の鉄損値W1
3/50は0.7W/Kgであるのに比し、結晶化領域の
体積割合が8%以下で、かつ薄帯厚さに対する結
晶化領域厚さの比d/Dが0.1以上の場合には鉄
損値が大巾に減少している。結晶化領域が8%を
超えると従来考えられているように鉄損は増加し
磁化特性も大巾に劣化するに至る。同じ薄帯を用
いて深し比d/Dが約0.5でθ=0゜の条状結晶化
領域を種々の間隔で形成させた後、上述の磁場焼
鈍を施した結果を第4図に示す。条間隔Lは2〜
100mm,好ましくは3〜20mmとすることが有利で
あることが判る。次に間隔Lを5mmとして、条と
巾方向のなす角度θを変化させたときの鉄損を第
5図に示す。仝図よりも角度θが30゜を超すと条
状結晶化領域を形成させても鉄損を低下させる効
果がないことが判る。 以上の結果から特定の形状,大きさの条状結晶
化領域を形成させると鉄損値が改善されることが
判つた。 本発明によれば、結晶化させる領域の体積が薄
帯の体積の8%より多いと鉄損値を低下させるこ
とができないので、前記結晶化させる領域の体積
%を8%以下にする必要があり、また条状に結晶
化領域を形成させる場合には、条と薄帯の巾方向
となす角度を30゜以下とする必要がある。さらに
また板厚方向の結晶化領域dと板厚Dとの比d/
Dは0.1より少ないと鉄損値が低下しないので前
記比d/Dは0.1以上とする必要があり、また互
いに隣接する条の間隔は2mmより狭いか、あるい
は100mmより広いと鉄損値が低下しないので、前
記間隙は2〜100mmの範囲内にする必要がある。 以上のように局所的に結晶化領域を形成させる
ことが鉄損の低下に及ぼす原因は明白ではない
が、前記結晶化領域の形成によつて磁区構造が細
分化されるためによるものではないと本発明者等
は考えている。 本発明によれば、結晶化領域の形状は、結晶化
領域の薄帯全体に対する体積比率が8vol%以下で
あれば、条状であることに限定されない。後述の
実施例ならびに第2図c,dに示すように小さな
点状結晶化領域を巾方向に並列形成させても鉄損
値を低下させるという効果を発揮させることがで
きる。この場合も個々の点状結晶化領域の板厚方
向の深さdと薄帯の厚さDとの比d/Dは0.1以
上とする必要がある。また第2図dに示すように
1列に整列した個々の点状結晶化領域のほゞ中心
を通過する直線を想定し、この直線が薄帯の両側
端によつて劃成される線分の長さに対し、前記直
線上に並んだ点状結晶化領域が前記線分上で占め
る個々の長さの和が前記線分長さに対し80%を超
えるよう点状結晶化領域を形成させる必要があ
る。上記例えば80%で示す比率を点列線上の結晶
化率とも記す。またこのような点列は前記連続し
た条状列と同様に薄帯の巾方向に対する角度θは
30゜以下であり、かつそれぞれの点列の間隔は2
〜100mmの範囲内にする必要がある。 本発明によれば、非晶質薄帯の種類,組成,厚
さの如何を問わず、局所的加熱により結晶化領域
を形成させることにより鉄損の低減化を達成する
ことができる。前記局所加熱は局所的に加熱する
ことができれば何れの手段を用いてもよいが、先
述のようにレーザー,電子ビーム,接触子通電の
何れかを好適に使用することができる。 上記局所加熱は非晶質薄帯作成後鉄芯などへの
組込みまでの任意の時点で施すことができる。特
に本発明によれば、キユリー点以上の焼鈍を施す
必要があるので、この焼鈍と局所加熱処理を同一
工程において施すことが工業的には好ましい。 次に本発明を実施例について説明する。 実施例 双ロール法で作成した50μm厚さのFe80B20非
晶質薄帯の表面に20μm径に絞つた電子ビームを
照射して第2図dに示すような点列状の結晶化領
域を作成した。点列線上結晶化率,間隔,点列と
巾方向とのなす角度θを種々変化させた後、それ
ぞれ380℃で0.5Kg/mm2のテンシヨンを長手方向に
かけて焼鈍した。その後薄帯長手方向に測定した
鉄損値W13/50は下記の表の如くであつた。
【表】
以上本発明によれば、従来のものより極めて鉄
損の低い電磁材料用非晶質合金薄帯を製造するこ
とができる。
損の低い電磁材料用非晶質合金薄帯を製造するこ
とができる。
第1図aは条状結晶化領域を示す模式斜視図、
同図bは薄帯の上面よりレーザー光線あるいは電
子ビームをかけて形成される結晶化領域を示す縦
断面説明図、同図cは薄帯の上表面に金属接触子
を接触させて形成される結晶化領域を示す縦断面
説明図、同図dは薄帯の両面より結晶化領域を形
成させた縦断面説明図、第2図aは薄帯巾方向に
平行に条状の、同図bは薄帯巾方向にθの角をな
す条状の、同図cおよびdは薄帯巾方向に平行に
点状の、結晶化領域をそれぞれ形成させた模式平
面図、第3図は結晶化領域の割合(vol%)と条
状結晶化領域の深さと薄帯厚さの比d/Dとの関
係が鉄損値W13/50に及ぼす影響を示す図、第4
図は条状結晶化領域の間隔(mm)Lと鉄損W13/5
0(W/Kg)との関係を示す図、第5図は条状結
晶化領域方向と巾方向のなす角度θと鉄損W13/5
0(W/Kg)との関係を示す図である。
同図bは薄帯の上面よりレーザー光線あるいは電
子ビームをかけて形成される結晶化領域を示す縦
断面説明図、同図cは薄帯の上表面に金属接触子
を接触させて形成される結晶化領域を示す縦断面
説明図、同図dは薄帯の両面より結晶化領域を形
成させた縦断面説明図、第2図aは薄帯巾方向に
平行に条状の、同図bは薄帯巾方向にθの角をな
す条状の、同図cおよびdは薄帯巾方向に平行に
点状の、結晶化領域をそれぞれ形成させた模式平
面図、第3図は結晶化領域の割合(vol%)と条
状結晶化領域の深さと薄帯厚さの比d/Dとの関
係が鉄損値W13/50に及ぼす影響を示す図、第4
図は条状結晶化領域の間隔(mm)Lと鉄損W13/5
0(W/Kg)との関係を示す図、第5図は条状結
晶化領域方向と巾方向のなす角度θと鉄損W13/5
0(W/Kg)との関係を示す図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 Feを70原子%以上含有する溶鋼を、冷却体
の連続的に移動する冷却面上に、ノズルから噴出
して急冷,凝固させることにより、100μm厚以
下の非晶質合金薄帯を作成し、次に前記薄帯を結
晶化温度以下乃至キユリー点以上の温度範囲内で
熱処理を施して軟磁性電磁材料用非晶質合金薄帯
を製造する方法において、 前記熱処理工程の前,途中もしくは後のいずれ
か少なくとも1つの時期に、前記薄帯を局部的に
加熱することにより、この薄帯の長手方向に、2
〜100mmの間隔で、しかも該薄帯幅方向となす角
度θが30゜以下で列状に並ぶ条状の結晶化領域を
形成すると同時に、前記各領域の板厚方向の平均
深さdと薄帯の厚さDとの比d/Dが0.1以上と
なるようにすると共に、それらの領域が占める薄
帯中での割合が8体積%以下となるようにしたこ
とを特徴とする極めて鉄損の低い非晶質合金薄帯
の製造方法。 2 薄帯を局部的に加熱することに伴う局所的結
晶化手段として、レーザーあるいは電子ビームを
薄帯表面に照射するか、もしくは金属針,金属エ
ツジのいずれかを薄帯表面に近接あるいは接触さ
せて金属針あるいは金属エツジを経て薄帯に通電
することを特徴とする特許請求の範囲第1項に記
載の方法。 3 Feを70原子%以上含有する溶鋼を冷却体の
連続的に移動する冷却面上にノズルから噴出して
急冷、凝固させることにより100μm厚以下の非
晶質合金薄帯を作成し、次に前記薄帯を結晶化温
度以下乃至キユリー点以上の温度範囲内で熱処理
を施して軟磁性電磁材料用非晶質合金薄帯を製造
する方法において、 前記熱処理工程の前,途中もしくは後のいずれ
か少なくとも1つの時期に、前記薄帯を局部的に
加熱することにより、この薄帯の長手方向に、2
〜100mmの間隔で、しかも前記各領域を形成する
と同時に、直線的に並んだ多数の点で構成される
条状の結晶化領域を、該薄帯幅方向とのなす角度
θが30゜以下の角度をもつて列状に形成すると同
時に、前記各領域の板厚方向の平均厚さdと薄帯
の厚さDとの比d/Dが0.1以上となるようにす
ると共に、点列で構成される条状の前記結晶化領
域は、薄帯の両側端によつて画成される線分の長
さに対する割合にして、線分上で占める個々の点
の和の比率が80%超となるようにし、さらにこれ
らの結晶化領域が占める薄帯中での割合が8体積
%以下となるようにしたことを特徴とする極めて
鉄損の低い非晶質合金薄帯の製造方法。 4 薄帯を局部的に加熱することに伴う局所的結
晶化手段として、レーザーあるいは電子ビームを
薄帯表面に照射するか、もしくは金属針,金属エ
ツジのいずれかを薄帯表面に近接あるいは接触さ
せて金属針あるいは金属エツジを経て薄帯に通電
することを特徴とする特許請求の範囲第3項に記
載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55173148A JPS5797606A (en) | 1980-12-10 | 1980-12-10 | Manufacture of amorphous alloy thin belt having extremely low iron loss |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55173148A JPS5797606A (en) | 1980-12-10 | 1980-12-10 | Manufacture of amorphous alloy thin belt having extremely low iron loss |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5797606A JPS5797606A (en) | 1982-06-17 |
JPH0253935B2 true JPH0253935B2 (ja) | 1990-11-20 |
Family
ID=15954987
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55173148A Granted JPS5797606A (en) | 1980-12-10 | 1980-12-10 | Manufacture of amorphous alloy thin belt having extremely low iron loss |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5797606A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011030907A1 (ja) | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 日立金属株式会社 | 軟磁性アモルファス合金薄帯及びその製造方法、並びにそれを用いた磁心 |
WO2020262494A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 日立金属株式会社 | Fe基アモルファス合金薄帯及びその製造方法、鉄心、並びに変圧器 |
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CN111801748A (zh) * | 2018-03-30 | 2020-10-20 | 日立金属株式会社 | Fe基非晶合金薄带及其制造方法、铁芯和变压器 |
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-
1980
- 1980-12-10 JP JP55173148A patent/JPS5797606A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2020262494A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 日立金属株式会社 | Fe基アモルファス合金薄帯及びその製造方法、鉄心、並びに変圧器 |
WO2020262493A1 (ja) | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 日立金属株式会社 | Fe基アモルファス合金薄帯、鉄心、及び変圧器 |
EP4258302A2 (en) | 2019-06-28 | 2023-10-11 | Proterial, Ltd. | Fe-based amorphous alloy ribbon, iron core, and transformer |
US11802328B2 (en) | 2019-06-28 | 2023-10-31 | Proterial, Ltd. | Fe-based amorphous alloy ribbon, iron core, and transformer |
US11952651B2 (en) | 2019-06-28 | 2024-04-09 | Proterial, Ltd. | Fe-based amorphous alloy ribbon, production method thereof, iron core, and transformer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5797606A (en) | 1982-06-17 |
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