JPS61290305A - 標準パタ−ン作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はパターンマツチングによシ位置認識を行なう場
合の標準パターン作成方法に関するものである。

従来の技術 近年、リードピッチの狭いＩＣが使われるようになシミ
子機器を組立てる場合にＩＣリードの位置を非接触で認
識してプリント基板等に実装されている。ＩＣリードの
様に複数類似形状位置を認識する方法としては本願発明
人による特許５８−８６９１８に詳しく開示されている
ようにパターンマツチングを行ない一致度が周囲におけ
る一致度より大きくなる極大点を検出することにより実
現することができる。

次に上述したパターンマツチングにより複数類似形状の
位置認識をする場合の従来標準パターン作成方法につい
て図面を参照しながら説明する。

例えば対象物が第４図の様に撮像されているとする。こ
の５個の類似形状のうち任意のａの様な形状パターンを
ｎｘｍ画素画素当し標準パターンとして作成していた。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記のような方法では、例えば第５図Ａの
ように平均的な形状パターンより上部が少し大田した形
状パターンをたまたま標準パターンとしたとしても多数
個の対象物を位置認識する際の対象形状パターンの多く
がＢのように上部が少し落ち込んだ形状パターンになっ
ていたとするとパターンマツチングして求めた一致の度
合いが悪くなり認識できない場合も起こる。このように
従来の方法では複数如似形状の平均的な形状を標準パタ
ーンとすることが困難でパターンマツチングを行なって
も一致度が悪くなり認識できないことがあるという問題
点を有していた。

本発明は上記問題点に鑑みパターンマツチングにより複
数類似形状パターンを認識する場合の認識率を向上させ
る標準パターン作成方法を提供するものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するだめに本発明の標準パターン作成
方法は、１ケ所のパターンを収集する手順と、収集した
パターンでパターンマツチングを行ない複数の類似形状
パターンを検出する手順と検出した複数の類似形状パタ
ーンを平均化して標準パターンとするという構成を備え
たものである。

作　　用 本発明は上記した構成によって平均化した標準パターン
が得られることになり認識率の向上が図れることとなる
。

実施例 以下本発明の一実施例の標準パターン作成方法について
、図面を参照しながら説明する０第１図は本発明の第１
の実施例における標準パターン作成方法の構成を示すも
のである。第１図において、１１は撮像装置、１２は撮
像装置１１を駆動するだめの同期信号発生回路、１３は
走査ビームの位置を得るための座標発生回路、１４は撮
像装置１１からの映像信号を２値化する回路からなる前
処理回路、１６はシフトレジスタからなる一時記憶回路
、１６は一時記憶回路１５に記憶されたパターンを２次
元的に切出すための２次元パターン切出し回路、１７は
収集パターンの座標を指定するだめの座標指定回路、１
８は収集パターンを記憶するためのパターン記憶回路、
１９は複数類似形状パターン検出回路、２０はマイクロ
コンピュータ、２１はパターンマツチングを行なうため
のマスターパターンを記憶する標準パターン記憶回路で
ある０ 以上のように構成された標準パターン作成方法について
、第１図及び第２図及び第３図を用いてその動作を説明
する。

まずＩ　Ｃ１，１−ド等の対象物は、撮像装置１１によ
り映像信号に変換される。この時の走査ビームは同期信
号発生回路１２が発生した同期信号に同期しておりその
座標は座標発生回路１３より常時得られている。次に映
像信号は前処理回路１４で２値化信号に変換されシフト
レジスタからなる一時記憶回路１５へ入力される。この
中から次の２次元パターン切出し回路１６によって映像
情報が縦横ｎｘｍ画素の大きさをもった四角形のパター
ン情報として順次読み出される。座標指定回路１７には
あらかじめマイクロコンビ、−夕２０より第２図のイの
座標が登録指定されており、常時座標発生回路１３から
の出力座標と比較していて指定された座標になった時、
２次元パターン切り出し回路１ｅより切り出されたパタ
ーンをパターン記憶回路１８に記憶する。第２図のイ′
〜ホ′は画面内のイ〜ホの位置におけるわ×ｍ画素のパ
ターンを拡大したものである。マイクロコンピュータ２
゜はパターン記憶回路１８ｉＣ記憶されたパターンを読
み出すことによシイ′のパターンを得ることができる。

次にイ′のパターンをマイクロコンピュータ２゜にから
標準パターン記憶回路に記憶させる。そして同じ画像に
ついて同様の手段で２次元パターンを順次切り出し複数
類似形状パターン検出回路１９へ入力する。複数類似形
状パターン検出回路１９では２次元パターン切出し回路
１６よシ切り出されるパターンと標準パターン記憶回路
２１に記憶されているイ′のパターンと順次比較し一致
度を算出し一致度が周囲８近傍における一致度より高く
かつその−成度がしきい値より高い場合に類似形状とし
てイ′〜ホ′のパターンを検出する。この複数類似形状
パターンを検出する方法は本願発明人による特許５８−
８６９１８に詳しく示されている。

最後にマイクロコンピュータ２ｏにおいてイ′〜ホ′の
パターンの平均値をとシ第２図に示す標準パターンを作
成する。平均値を算出する場合ｎｘｍ画素のすべての画
素について１画素ずつ濃度の平均を算出したのでは時間
がかかるので第３図に示すフローのように行なう。つま
りイ′のパターンと口′のパターンの排他的論理和をと
り不一致となる画素を示すマツプ１をつくる。同様にイ
′とハ′のパターンからマツプ２をつくる。マツプ１と
マツプ２の論理和をとシマツブ１とする。イ′のパター
ンと二′のパターンの排他的論理和をとり不一致となる
画素のマツプ３をつくる０マツプ１とマツプ３の論理和
をとりマツプ１とする。同様にイ′とホ′のパターンカ
ラマツプ４をつくシマツブ１と論理和をとりマツプ１と
する。マツプ１に示された画素についてのみ濃度の平均
値を算出しイ′のパター／を修正して標準パターンを作
成する。

以上のように本実施例によれば、１ケ所のパターンを収
集する手順と収集パターンでパターンマツチングを行な
い複数の類似形状パターンを検出する手順と検出した複
数類似形状パターン同志の不一致の画素について濃度の
平均値を算出し収集パターンを修正することばよシ標準
パターンを作成することができる。

発明の効果 以上のように本発明は、１ケ所のパターンを収集する手
順と収集したパターンでパターンマツチングを行ない複
数の類似形状パターンを検出する手順と検出した複数の
類似形状パターンを平均化する手順を有することによシ
平均的な標準パターンを作成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における標準パターン作成方
法の構成図、第２図は標準パターン作成方法を説明する
図、第３図は複数類似形状パターンを平均化するフロー
チャート図、第４図及び第５図は従来の標準パターン作
成方法を説明する図である。 １１・・・・・・撮像装置、１２・・・・・−同期信号
発生回路、１３・・・・・・座標発生回路、１４・・・
・・・前処理回路、１５・・・・・・一時記憶回路、１
６・・・・・・２次元パターン切出し回路、１７・・・
・・・座標指定回路、１８・・・・・・パターン記憶回
路、１９・・・・・・複数類似形状パターン検出回路、
２０・・・・・・マイクロコンピュータ、２１・・・・
・・標準パターン記憶回路。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名法　
　　− 第２図 砲準パターン 第３図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）パターンマッチングで複数類似形状パターンの位
   置認識を行なう際に、１ケ所のパターンを収集する手順
   と、上記収集パターンでパターンマッチングを行ない複
   数の類似形状パターンを検出する手順と、上記検出した
   複数の類似形状パターンを平均化し標準パターンとする
   手順を有することを特徴とする標準パターン作成方法。
2. （２）複数の類似形状パターンを平均化し標準パターン
   とする手順は、複数類似形状パターン相互の排他的論理
   和をとり不一致の画素についてのみ濃度の平均値を算出
   し収集したパターンを修正することにより複数の類似形
   状パターンを平均化する特許請求の範囲第１項記載の標
   準パターン作成方法。