JPS6128932B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6128932B2
JPS6128932B2 JP3876181A JP3876181A JPS6128932B2 JP S6128932 B2 JPS6128932 B2 JP S6128932B2 JP 3876181 A JP3876181 A JP 3876181A JP 3876181 A JP3876181 A JP 3876181A JP S6128932 B2 JPS6128932 B2 JP S6128932B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vanadium
gas
catalyst layer
supported
sio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP3876181A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS57154040A (en
Inventor
Masayuki Shiratori
Masaki Katsura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP3876181A priority Critical patent/JPS57154040A/en
Publication of JPS57154040A publication Critical patent/JPS57154040A/en
Publication of JPS6128932B2 publication Critical patent/JPS6128932B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明はガス検知素子に係り、特に低濃度の還
元性ガス及びフレオンガスの検出に適したガス検
知素子に関する。 従来から金属酸化物半導体表面にガスが接触す
ると、金属酸化物半導体の表面の比抵抗が変化す
ることを利用したガス検知素子が知られている。
例えばN型半導体性を示すZnO,SnO2,Fe2O3
に還元性ガスが接触すると抵抗値は減少し、また
酸化性ガスが接触すると、抵抗値は増加する。ま
たP型半導体性を示す金属酸化物半導体において
は抵抗値の増減が逆の関係を示す。 前記のごとき金属酸化物半導体において、各種
ガスとの反応性すなわち選択性は、半導体表面温
度、表面電子レベルの構造、気孔率および気孔の
大きさ等により決まるが、一般には金属酸化物半
導体のみでは感ガス素子として感度が小さく、還
元性も充分とは言えない。そこでPt,Pd等の貴
金属を触媒として用いることによりガス検出感度
を向上させる試みがなされている。すなわち、貴
金属を直接金属酸化物半導体に添加したり、ある
いは、金属酸化物半導体上に貴金属担持触媒層を
設けるといつた方法がとられている。これら貴金
属を触媒として用いた場合、無触媒の場合と比較
してCO,iso―C4H0等の還元性ガスに対するガ
ス検出感度は向上するものの低濃度ガスに対して
は必ずしも充分な感度が得られなかつた。また所
謂フレオンガスに対する検出感度は極めて低くか
つた。 本発明は上記の点に鑑み一酸化炭素、水素、炭
火水素等の還元性ガス及び一般に冷媒として使用
されるフレオンガスに対し優れた感度を有し、特
に低濃度ガスの検出に適したガス検知素子を提供
する事を目的とする。 即ち、本発明のガス検知素子は、 1対の電極を備えたガス感応体を具備するガス
検知素子において、 前記ガス感応体が金属酸化物半導体から成り、
該ガス感応体の表面にAl2O3,SiO2又はSiO2
Al2O3からなる担体にバナジウム又はバナジウム
―モリブデンを担持させてなる第1の触媒層が設
けられ、更に前記第1の触媒層の上にAl2O3
SiO2又はSiO2―Al2O3からなる担体にタングステ
ンを担持させてなる第2の触媒の層が設けられて
いることを特徴とするものである。 第1触媒層として用いられるバナジウム―担体
触媒の場合、バナジウム担持量は担体に対して
0.1〜20重量%更には0.5〜15重量%の範囲が好ま
しく、またバナジウム―モリブデンを担持せしめ
た触媒の場合にはバナジウム担持量が担体に対し
て0.1〜20重量%(より好ましくは0.5〜15重量
%)であつて、モリブデンの担持量はバナジウム
に対するg原子比で表して0.05〜0.5(より好ま
しくは0.1〜0.2)であることが好ましいまた、第
2触媒層として用いられるタングステン―担体触
媒の場合は、タングステンの担持量は担体に対し
て0.1〜20重量%更には0.5〜15重量%の範囲が好
ましい。使用する各触媒層の組成が上記の範囲に
あると、顕著な触媒作用が得られ、高感度のガス
検知素子となる。 本発明において触媒の担体成分として使用する
ものは、Al2O3,SiO2,又はSiO2―Al2O3である
が、SiO2あるいはAl2O3を主成分とするケイソウ
土、シリカゲル、活性アルミナなども包含される
ものである。 本発明において金属酸化物半導体からなるガス
感応体としては、還元性ガスとの接触により抵抗
値の変化するものであれば使用でき、例えばN型
半導体性を示すZnO,SnO2,Fe2O3等、さらにこ
れにSb2O3,Cr2O3等を微量添加した組成物系等
が挙げられる。 第1図及び第2図は、本発明の一実施例を表し
たもので、第1図は円筒状素子の断面図であり、
第2図は該素子をピン足上に取付けた状態の斜視
図である。以下、図面に即して詳細に説明する。 このガス検知素子は、筒状絶縁基体1の外周面
上に1対の電極2が設けられ、該絶縁体1及び電
極2を被覆するように金属酸化物半導体から成る
層3が設けられ、該層がガス感応体として機能す
る。更に、該金属酸化物半導体層3の表面に第1
触媒層4が設けられ、更にその上に第2触媒層5
が設けられている。これら、金属酸化物半導体層
3及び触媒層4,5は多孔質の状態にある。 前記のように構成されたガス検知素子は、例え
ば第2図に斜視的に示す如くピン足上に他と接触
しない状態に保持される。なお図中6は電極用リ
ード線を、7は絶縁板を8はヒーターを示す。ヒ
ーターはガス感応体を約450℃前後に加熱できる
ようになつており、素子の感度を向上させるため
に設けられたものである。 本発明に係るガス検知素子は例えば以下の如く
製造される。 使用する触媒を調製するために、まず、バナジ
ウム、モリブデン、タングステンの各標準溶液を
作成する。例えば、バナジウムの標準溶液は、メ
タバナジウム酸アンモニウムに水を加え、加熱状
態でシユウ酸を加えることにより、所定温度の標
準溶液とする。モリブデン標準溶液は、所定濃度
のモリブデン酸アンモニウム水溶液を作成し標準
溶液とする。タングステン標準溶液は、タングス
テン酸アンモニウム水を加え、バナジウム標準溶
液の場合と同様にシユウ酸を加えて所定濃度の標
準溶液とする。バナジウム―モリブデンを担体に
担持させる場合には、前記調製したバナジウム標
準溶液とモリブデン標準溶液を所要の割合で混合
してバナジウム―モリブデン混合溶液を調製す
る。 使用する担体を、Al2O3,SiO2,及びSiO2
Al2O3から選び、これにバナジウムを担持させる
場合には該担体の所定量をバナジウム標準溶液に
浸漬し一昼夜放置する。次いで蒸発乾固の後に粉
砕して粉体となし、電気炉で30〜600℃で焼成す
ると目的とするバナジウム―担体触媒が得られ
る。バナジウム―モリブデン又はタングステンを
担体に担持させる場合には、浸漬用溶液として、
バナジウム―モリブデン混合溶液又はタングステ
ン溶液をそれぞれ使用し、同様の処理を行う。但
し、タングステン―担体触媒の場合の焼成温度は
300〜800℃がよい。 ガス感応体の形成は次のように行う。第1触媒
層に使用する金属酸化物半導体にメチルセルロー
ス等のバインダーを適当量加えてボールミル等で
一定時間混合し、ペーストとする。これを第1図
に示す如く、例えば金ペーストを塗布、焼成して
一対の電極2を予め設けた絶縁基体1の表面に塗
布し乾燥後600〜1000℃で焼成する。しかる後、
先に調製した、バナジウムもしくはバナジウム―
モリブデンを担持した触媒を適当な溶媒を用いて
泥漿とし、ガス感応体3表面に塗布乾燥し、さら
に300〜600℃で焼成して第1触媒層を形成する。 次に、タングステンを担持した触媒を同様に泥
漿として、前記第1触媒層上に塗布乾燥し、更に
300〜800℃で焼成して第2触媒層を形成する。 上記の如く製造した第1図の如き構造のガス検
知素子は第2図の如く取り付けて使用される。 なお、触媒の泥漿を調製する際に、水やアルコ
ールなどの溶媒のほかに、メチルセルロース、エ
チルセルロース、酢酸セルロース、などの有機バ
インダーを添加すると、形成される触媒層の機械
的強度が高まり、耐衝撃性なども向上する。 以下、本発明の実施例をあげて具体的に説明す
る。 第1図及び第2図に示したごときガス検知素子
を製造し、濃度500ppmの各種ガスに対する感度
(約450℃)をRO/Rgとして測定した。ここで、
ROは被測定ガスを含まない空気中において素子
が示した抵抗値であり、Rgは各種ガスを500ppm
含む空気中において素子が示した抵抗値である。
使用した検知素子は、金属酸化物半導体として
98ZnO―2Sb2O3組成系(重量比)のものを用
い、第1触媒層としてAl2O3,SiO2又はSiO2
Al2O3にバナジウム又はバナジウム―モリブデン
を担持させたものを用い、更に第2触媒層として
Al2O3,SiO2又はSiO2―Al2O3にタングステンを
担持させたものである。各触媒における、担体に
対するバナジウム、モリブデンもしくはタングス
テンの担持量は、各実施例ごとに表1に示した。
また、測定結果(RO/Rg)も同様に併せ示し
た。 比較のために、98ZnO―2Sb2O3組成系からな
る金属酸化物半導体表面に、Al2O3,SiO2又は
SiO2―Al2O3に貴金属を担持させた触媒層を設け
た従来のガ検知素子について、各種ガスを
2000ppm含む空気に対する感度を測定し、その
結果を表2に示した。
The present invention relates to a gas detection element, and particularly to a gas detection element suitable for detecting low concentration reducing gas and Freon gas. BACKGROUND ART Gas sensing elements have been known that utilize the fact that the specific resistance of the surface of a metal oxide semiconductor changes when a gas comes into contact with the surface of the metal oxide semiconductor.
For example, when a reducing gas comes into contact with ZnO, SnO 2 , Fe 2 O 3, etc., which exhibit N-type semiconductor properties, the resistance value decreases, and when an oxidizing gas comes into contact with it, the resistance value increases. Furthermore, in metal oxide semiconductors exhibiting P-type semiconductor properties, the increase and decrease in resistance value exhibits an inverse relationship. In metal oxide semiconductors such as those mentioned above, the reactivity or selectivity with various gases is determined by the semiconductor surface temperature, surface electron level structure, porosity, pore size, etc., but in general, metal oxide semiconductors alone As a gas-sensitive element, the sensitivity is low and the reducing property is not sufficient. Therefore, attempts have been made to improve gas detection sensitivity by using noble metals such as Pt and Pd as catalysts. That is, methods have been used such as directly adding a noble metal to a metal oxide semiconductor or providing a noble metal supported catalyst layer on a metal oxide semiconductor. When these precious metals are used as catalysts, the gas detection sensitivity for reducing gases such as CO and iso-C 4 H 0 is improved compared to the case without catalysts, but the sensitivity is not necessarily sufficient for low concentration gases. I couldn't get it. Furthermore, the detection sensitivity for so-called Freon gas was extremely low. In view of the above points, the present invention provides a gas detection element that has excellent sensitivity to reducing gases such as carbon monoxide, hydrogen, and hydrocarbons, and Freon gas, which is generally used as a refrigerant, and is particularly suitable for detecting low concentration gases. The purpose is to provide. That is, the gas sensing element of the present invention includes a gas sensing element having a pair of electrodes, wherein the gas sensing element is made of a metal oxide semiconductor,
Al 2 O 3 , SiO 2 or SiO 2 - on the surface of the gas sensitive body
A first catalyst layer made of vanadium or vanadium-molybdenum supported on a carrier made of Al 2 O 3 is provided, and further on the first catalyst layer, Al 2 O 3 ,
It is characterized in that it is provided with a second catalyst layer made of tungsten supported on a carrier made of SiO 2 or SiO 2 -Al 2 O 3 . In the case of a vanadium-supported catalyst used as the first catalyst layer, the amount of vanadium supported is
The range is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight, and in the case of a vanadium-molybdenum supported catalyst, the amount of vanadium supported is 0.1 to 20% by weight (more preferably 0.5 to 15% by weight) based on the carrier. % by weight), and the supported amount of molybdenum is preferably 0.05 to 0.5 (more preferably 0.1 to 0.2) expressed as g atomic ratio to vanadium. In this case, the amount of tungsten supported is preferably in the range of 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight, based on the carrier. When the composition of each catalyst layer used is within the above range, a remarkable catalytic effect can be obtained, resulting in a highly sensitive gas sensing element. In the present invention, Al 2 O 3 , SiO 2 , or SiO 2 -Al 2 O 3 is used as a carrier component for the catalyst, and diatomaceous earth, silica gel, etc. whose main component is SiO 2 or Al 2 O 3 , Activated alumina and the like are also included. In the present invention, as the gas sensitive material made of a metal oxide semiconductor, any material whose resistance value changes upon contact with a reducing gas can be used. For example, ZnO, SnO 2 , Fe 2 O 3 exhibiting N-type semiconductor properties can be used. etc., and compositions in which small amounts of Sb 2 O 3 , Cr 2 O 3 , etc. are added thereto. 1 and 2 show one embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a cross-sectional view of a cylindrical element,
FIG. 2 is a perspective view of the element mounted on the pin foot. A detailed description will be given below with reference to the drawings. This gas detection element includes a pair of electrodes 2 provided on the outer peripheral surface of a cylindrical insulating substrate 1, a layer 3 made of a metal oxide semiconductor so as to cover the insulator 1 and the electrodes 2, and a layer 3 made of a metal oxide semiconductor. The layer functions as a gas sensitizer. Furthermore, a first layer is formed on the surface of the metal oxide semiconductor layer 3.
A catalyst layer 4 is provided, and a second catalyst layer 5 is further provided thereon.
is provided. These metal oxide semiconductor layer 3 and catalyst layers 4 and 5 are in a porous state. The gas detection element configured as described above is held on the pin foot in a state where it does not come into contact with anything else, for example, as shown perspectively in FIG. In the figure, 6 represents an electrode lead wire, 7 represents an insulating plate, and 8 represents a heater. The heater is designed to heat the gas sensitive body to around 450°C, and was installed to improve the sensitivity of the element. The gas detection element according to the present invention is manufactured, for example, as follows. To prepare the catalyst to be used, first, standard solutions of vanadium, molybdenum, and tungsten are prepared. For example, a standard solution of vanadium is prepared at a predetermined temperature by adding water to ammonium metavanadate and adding oxalic acid under heating. For the molybdenum standard solution, an ammonium molybdate aqueous solution with a predetermined concentration is prepared and used as a standard solution. The tungsten standard solution is prepared by adding ammonium tungstate water and adding oxalic acid as in the case of the vanadium standard solution to obtain a standard solution of a predetermined concentration. When vanadium-molybdenum is supported on a carrier, the vanadium standard solution and molybdenum standard solution prepared above are mixed at a required ratio to prepare a vanadium-molybdenum mixed solution. The carriers used were Al 2 O 3 , SiO 2 , and SiO 2 -
When a carrier selected from Al 2 O 3 is to support vanadium, a predetermined amount of the carrier is immersed in a vanadium standard solution and left overnight. Then, after evaporation to dryness, it is ground into powder and calcined in an electric furnace at 30 to 600°C to obtain the desired vanadium-supported catalyst. When supporting vanadium-molybdenum or tungsten on a carrier, as an immersion solution,
Similar treatment is performed using a vanadium-molybdenum mixed solution or a tungsten solution, respectively. However, in the case of tungsten-supported catalyst, the calcination temperature is
300-800℃ is good. The gas sensitive body is formed as follows. An appropriate amount of a binder such as methyl cellulose is added to the metal oxide semiconductor used for the first catalyst layer and mixed for a certain period of time using a ball mill or the like to form a paste. As shown in FIG. 1, for example, a gold paste is applied and fired to the surface of an insulating substrate 1 on which a pair of electrodes 2 have been previously provided, and after drying, the paste is fired at 600 to 1000°C. After that,
Previously prepared vanadium or vanadium-
The molybdenum-supported catalyst is made into a slurry using an appropriate solvent, coated on the surface of the gas sensitive member 3, dried, and further calcined at 300 to 600°C to form a first catalyst layer. Next, a slurry of a catalyst supporting tungsten is similarly coated and dried on the first catalyst layer, and then
A second catalyst layer is formed by firing at 300 to 800°C. The gas detection element manufactured as described above and having the structure as shown in FIG. 1 is attached and used as shown in FIG. When preparing the catalyst slurry, adding an organic binder such as methyl cellulose, ethyl cellulose, or cellulose acetate in addition to a solvent such as water or alcohol increases the mechanical strength of the formed catalyst layer and improves its impact resistance. Sexuality also improves. Hereinafter, the present invention will be specifically explained by giving examples. Gas detection elements as shown in FIGS. 1 and 2 were manufactured, and the sensitivity (approximately 450° C.) to various gases at a concentration of 500 ppm was measured as RO/Rg. here,
RO is the resistance value shown by the element in air that does not contain the gas to be measured, and Rg is the resistance value shown by the element in air that does not contain the gas to be measured.
This is the resistance value exhibited by the element in air containing air.
The sensing element used is a metal oxide semiconductor.
98ZnO-2Sb 2 O 3 composition system (weight ratio) was used, and the first catalyst layer was Al 2 O 3 , SiO 2 or SiO 2 -
Using Al 2 O 3 with vanadium or vanadium-molybdenum supported, and further as a second catalyst layer.
Tungsten is supported on Al 2 O 3 , SiO 2 or SiO 2 -Al 2 O 3 . The amount of vanadium, molybdenum, or tungsten supported on the carrier in each catalyst is shown in Table 1 for each example.
The measurement results (RO/Rg) are also shown in the same manner. For comparison, Al 2 O 3 , SiO 2 or
Regarding conventional gas detection elements equipped with a catalyst layer in which noble metals are supported on SiO 2 - Al 2 O 3 , various gases can be detected.
The sensitivity to air containing 2000 ppm was measured and the results are shown in Table 2.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 表1,2より明らかなように、本発明に係る素
子の各種還元性ガス濃度500ppmに対する感度
は、貴金属触媒を用いた素子の各種還元性ガス濃
度2000ppmに対する感度と同程度あるいはそれ
以上の感度を有することがわかる。 また、本発明に係る素子はフレオンと称される
ハロゲン化炭化水素系ガスにも高感度を示す。フ
レオンは部分ハロゲン化物(CHClF2,CHF3
CHCl2F等)と完全バロゲン化物(CCl2F2
CCl3F,CClF3等)に大別でき、部分ハロゲン化
物はC―H結合を有し、還元性ガスと同様の挙動
を示すが、完全ハロゲン化物はC―H結合を有し
ておらず必らずしも還元性ガスとしての挙動を示
さないため従来のガス検知素子では感度が極めて
小さく、検知しにくいガスの一種とされていた。
しかしながら本発明に係る素子は表1に
CHClF2,CCl2F2を代表させ、その感度を示した
ように、表中に示した還元性ガスと同様に高感度
で検出し得ることが明らかである。 以上の説明のように、本発明に係る素子は還元
性ガスおよびフレオンガスに関して低濃度におけ
る感度特性に優れ、かつ高温安定性が良く長寿命
を有し、前記ガスの低濃度用ガス検知素子として
適していると言える。
[Table] As is clear from Tables 1 and 2, the sensitivity of the element according to the present invention to various reducing gas concentrations of 500 ppm is comparable to or higher than the sensitivity of the element using a noble metal catalyst to various reducing gas concentrations of 2000 ppm. It can be seen that the sensitivity is as follows. Furthermore, the element according to the present invention exhibits high sensitivity to a halogenated hydrocarbon gas called Freon. Freon is a partial halide (CHClF 2 , CHF 3 ,
CHCl 2 F, etc.) and complete balogenides (CCl 2 F 2 ,
CCl 3 F, CClF 3 , etc.) Partial halides have C-H bonds and behave similarly to reducing gases, but complete halides do not have C-H bonds. Because it does not necessarily behave as a reducing gas, it has been considered a type of gas that is difficult to detect with conventional gas detection elements.
However, the device according to the present invention is shown in Table 1.
As CHClF 2 and CCl 2 F 2 are representative and their sensitivity is shown, it is clear that they can be detected with high sensitivity similar to the reducing gases shown in the table. As explained above, the element according to the present invention has excellent sensitivity characteristics at low concentrations with respect to reducing gases and Freon gases, has good high temperature stability and has a long life, and is suitable as a gas detection element for low concentrations of the above gases. I can say that it is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係るガス検知素子の断面図、
第2図は本発明に係るガス検知素子を用いた装置
例を示す斜視図、 1……筒状絶縁基体、2……電極、3……ガス
感応体、4……第1触媒層、5……第2触媒層。
FIG. 1 is a sectional view of a gas detection element according to the present invention,
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a device using the gas detection element according to the present invention, 1... cylindrical insulating base, 2... electrode, 3... gas sensitive body, 4... first catalyst layer, 5 ...Second catalyst layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 1対の電極を備えたガス感応体を具備するガ
ス検知素子において、 前記ガス感応体が金属酸化物半導体から成り、
該ガス感応体の表面にAl2O3,SiO2又はSiO2
Al2O3からなる担体にバナジウム又はバナジウム
―モリブデンを担持させてなる第1の触媒の層が
設けられ、更に前記第1の触媒層の上にAl2O3
SiO2又はSiO2―Al2O3からなる担体にタングステ
ンを担持させてなる第2の触媒層が設けられてい
ることを特徴とするガス検知素子。 2 特許請求の範囲第1項の記載において、第1
触媒層がバナジウムを担持させたものであり、そ
の担持量が担体に対して0.1〜20重量%であるガ
ス検知素子。 3 特許請求の範囲第1項の記載において、第1
触媒層がバナジウム―モリブデンを担持させたも
のであり、バナジウム担持量が0.1〜20重量%
で、モリブデンの担持量がバナジウムに対するg
原子比で表して0.05〜0.5であるガス検知素子。 4 特許請求の範囲第1項の記載において、第2
触媒層におけるタングステンの担持量が担体に対
して0.1〜20重量%であるガス検知素子。
[Claims] 1. A gas sensing element comprising a gas sensitive body having a pair of electrodes, wherein the gas sensitive body is made of a metal oxide semiconductor;
Al 2 O 3 , SiO 2 or SiO 2 - on the surface of the gas sensitive body
A first catalyst layer made of vanadium or vanadium-molybdenum supported on a carrier made of Al 2 O 3 is provided, and further on the first catalyst layer, Al 2 O 3 ,
A gas sensing element characterized in that a second catalyst layer is provided in which tungsten is supported on a carrier made of SiO 2 or SiO 2 -Al 2 O 3 . 2 In the statement of claim 1, the first
A gas sensing element in which the catalyst layer supports vanadium, and the amount of the supported vanadium is 0.1 to 20% by weight based on the carrier. 3 In the description of claim 1, the first
The catalyst layer supports vanadium-molybdenum, and the amount of vanadium supported is 0.1 to 20% by weight.
So, the amount of molybdenum supported is g relative to vanadium.
A gas sensing element with an atomic ratio of 0.05 to 0.5. 4 In the statement of claim 1, the second
A gas sensing element in which the amount of tungsten supported in the catalyst layer is 0.1 to 20% by weight based on the carrier.
JP3876181A 1981-03-19 1981-03-19 Gas detecting element Granted JPS57154040A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3876181A JPS57154040A (en) 1981-03-19 1981-03-19 Gas detecting element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3876181A JPS57154040A (en) 1981-03-19 1981-03-19 Gas detecting element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57154040A JPS57154040A (en) 1982-09-22
JPS6128932B2 true JPS6128932B2 (en) 1986-07-03

Family

ID=12534260

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3876181A Granted JPS57154040A (en) 1981-03-19 1981-03-19 Gas detecting element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS57154040A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3091776B2 (en) * 1991-08-07 2000-09-25 大阪瓦斯株式会社 Gas sensor
JPH11142356A (en) * 1997-11-07 1999-05-28 Fis Kk Semiconductor gas sensor
JP5247305B2 (en) * 2008-08-26 2013-07-24 矢崎総業株式会社 Gas detector

Also Published As

Publication number Publication date
JPS57154040A (en) 1982-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6360339B2 (en)
US5427740A (en) Tin oxide gas sensors
EP0114310B1 (en) Carbon monoxide sensing element and process for manufacturing it
CA1056956A (en) Gas sensing element
JPS6128932B2 (en)
JP4010738B2 (en) Gas sensor, gas detector and gas detection method
JPS6363064B2 (en)
JP2686384B2 (en) Semiconductor type hydrogen sulfide gas sensor
JPH0545319A (en) Semiconductor type ammonia gas sensor
JPH0121900B2 (en)
JP4315992B2 (en) Gas sensor, gas detector and gas detection method
JPS6128937B2 (en)
EP0261275B1 (en) A hydrogen gas detecting element and method of producing same
JP3026523B2 (en) Gas sensor
JPS6128933B2 (en)
JP3271635B2 (en) Thick film gas sensor and method of manufacturing the same
JPH08226909A (en) Contact-combustion-type carbon monoxide gas sensor
JP3191544B2 (en) Thick film type gas sensor
JP2922264B2 (en) Gas sensor
JP2000111507A (en) Chlorofluorocarbon sensor and its manufacturing method
JP3919306B2 (en) Hydrocarbon gas detector
JP3046387B2 (en) Gas sensor
JP4382245B2 (en) Gas sensor and gas detector
JPS6122776B2 (en)
JPS6333654A (en) Gas sensor