JPS6128933B2 - - Google Patents

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JPS6128933B2
JPS6128933B2 JP3876481A JP3876481A JPS6128933B2 JP S6128933 B2 JPS6128933 B2 JP S6128933B2 JP 3876481 A JP3876481 A JP 3876481A JP 3876481 A JP3876481 A JP 3876481A JP S6128933 B2 JPS6128933 B2 JP S6128933B2
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JP
Japan
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gas
vanadium
sensitive
supported
weight
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JP3876481A
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Japanese (ja)
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JPS57154043A (en
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Masaki Katsura
Masayuki Shiratori
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、感ガス素子に係り、特に低濃度のフ
レオンガスの検出に好適な高感度感ガス素子に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a gas-sensitive element, and particularly to a high-sensitivity gas-sensitive element suitable for detecting low-concentration Freon gas.

金属酸化物半導体表面にガスが接触すると、金
属酸化物半導体表面の比抵抗が変化することを利
用した感ガス素子が知られている。例えば、N型
半導体性を示すZnO、SnO2、Fe2O3等に還元性ガ
スが接触すると抵抗値が減少し、またP型半導体
性を示す金属酸化物半導体においては比抵抗の増
減が逆になる。そこで、かかる金属酸化物半導体
によりガス感応体を構成し、1対の電極を付着さ
せて抵抗値の変化を検知することが行われてい
る。
Gas-sensitive elements are known that utilize the fact that the specific resistance of a metal oxide semiconductor surface changes when a gas comes into contact with the metal oxide semiconductor surface. For example, when a reducing gas comes into contact with ZnO, SnO 2 , Fe 2 O 3 , etc., which exhibit N-type semiconductivity, the resistance value decreases, and in metal oxide semiconductors, which exhibit P-type semiconductivity, the increase and decrease in specific resistance is the opposite. become. Therefore, a gas sensitive body is constructed from such a metal oxide semiconductor, and a pair of electrodes are attached to the gas sensitive body to detect a change in resistance value.

上記のごとき金属酸化物半導体の各種ガスに対
する選択性、反応性は、半導体表面温度、表面電
子レベルの状態、ガス感応体の気孔率、気孔の大
きさ等により決まるが、一般に金属酸化物半導体
のみでは感度が低く、選択性も良好ではない。そ
こで、Pt、Pdなどの貴金属を触媒として金属酸
化物半導体に添加したり、該触媒層をガス感応体
表面に設けることによりガス検出感度を向上させ
る試みが行われている。これら貴金属触媒を用い
ることにより、CO、イソブタン等の還元性ガス
に対する検出感度はある程度改善されて、特に金
属酸化物半導体としてZnOを用いたものは、これ
らのガスを1000ppm程度まで検出し得る。しか
し、所謂フレオンガスに対する検出能力は実用に
供し得ない程度に乏しく、まして100ppm以下の
低濃度フレオンガスの検出には全く使用すること
ができなかつた。
The selectivity and reactivity of metal oxide semiconductors to various gases as described above are determined by the semiconductor surface temperature, the state of the surface electron level, the porosity of the gas sensitive material, the size of pores, etc., but in general, only metal oxide semiconductors However, the sensitivity is low and the selectivity is not good. Therefore, attempts have been made to improve the gas detection sensitivity by adding noble metals such as Pt and Pd as catalysts to metal oxide semiconductors, or by providing the catalyst layer on the surface of the gas sensitive body. By using these noble metal catalysts, the detection sensitivity for reducing gases such as CO and isobutane is improved to some extent, and in particular, those using ZnO as the metal oxide semiconductor can detect these gases up to about 1000 ppm. However, the detection ability for so-called freon gas is so poor that it cannot be put to practical use, and furthermore, it cannot be used at all to detect low concentration freon gas of 100 ppm or less.

そこで本発明者らがフレオン検出用の感ガス素
子として、ガス感応体としての金属酸化物半導体
と使用する触媒について検討した結果、ZnO―
Sb2O3系酸化物半導体と、バナジウム又はバナジ
ウム―モリブデンをSiO2、A2O3又はSiO2―A
2O3に担持させて成る触媒の組み合わせが、フ
レオンガスに鋭敏に感応し得ることを見出し本発
明を完成するに至つた。
Therefore, the present inventors investigated the metal oxide semiconductor as the gas sensitive material and the catalyst used as a gas sensitive element for Freon detection, and found that ZnO-
Sb 2 O 3 based oxide semiconductor and vanadium or vanadium-molybdenum as SiO 2 , A 2 O 3 or SiO 2 -A
The present invention was completed by discovering that a combination of catalysts supported on 2 O 3 is sensitive to Freon gas.

即ち、本発明の目的は、高感度のフレオンガス
検出用感ガス素子を提供することにあり、該本発
明の感ガス素子は、 1対の電極を備えたガス感応体を有する感ガス
素子において、 前記ガス感応体が、99.5〜80重量%のZnOと
0.5〜20重量%のSb2O3とからなる金属酸化物半導
体により構成され、 該ガス感応体の表面に、A2O3、SiO2又は
SiO2―A2O3からなる担体にバナジウム又はバ
ナジウム―モリブデンを担持させてなる触媒の層
が設けられていることを特徴とするものである。
That is, an object of the present invention is to provide a highly sensitive gas-sensitive element for detecting Freon gas, and the gas-sensitive element of the present invention has the following features: The gas sensitive material contains 99.5 to 80% by weight of ZnO.
It is composed of a metal oxide semiconductor consisting of 0.5 to 20% by weight of Sb 2 O 3 , and the surface of the gas sensitive body is coated with A 2 O 3 , SiO 2 or
It is characterized in that a layer of a catalyst made of vanadium or vanadium-molybdenum supported on a carrier made of SiO 2 -A 2 O 3 is provided.

本発明の触媒について更に説明すると、担体へ
の担持成分がバナジウムである場合には、バナジ
ウムの担持量は担体に対して0.1〜50重量%、更
には0.5〜15重量%であることが好ましい。また
担持成分がバナジウム―モリブデンである場合に
は、バナジウムの担持量が担体に対して0.1〜50
重量%更には0.5〜15重量%であつて、モリブデ
ンの担持量がバナジウムに対するg原子比で表わ
して0.05〜0.5、より好ましくは0.1〜0.2であるこ
とが好ましい。かかる担持量のときに特に優れた
触媒作用が得られ、感ガス素子は一層感度の高い
ものとなる。本発明に用いられる触媒では、担体
として選ばれたA2O3、SiO2、又はSiO2―A
2O3と、これに担持させる前記V,V―Moとの組
合せが、感度向上の大きなフアクターとなつてい
るほか、その担持量により更に優れた感ガス素子
とすることができるのである。
To further explain the catalyst of the present invention, when the component supported on the carrier is vanadium, the amount of vanadium supported is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 0.5 to 15% by weight, based on the carrier. In addition, when the supported component is vanadium-molybdenum, the amount of vanadium supported is 0.1 to 50% relative to the carrier.
It is preferable that the weight % is more preferably 0.5 to 15 weight %, and the amount of molybdenum supported is 0.05 to 0.5, more preferably 0.1 to 0.2, expressed as a g atomic ratio to vanadium. With such a supported amount, particularly excellent catalytic action is obtained, and the gas-sensitive element becomes even more sensitive. In the catalyst used in the present invention, A 2 O 3 , SiO 2 , or SiO 2 -A selected as a carrier
The combination of 2 O 3 and the V and V-Mo supported thereon is a major factor in improving the sensitivity, and the amount of the supported amount makes it possible to obtain an even more excellent gas-sensitive element.

また、本発明においては、ガス感応体として用
いる金属酸化物半導体は、99.5〜80重量%のZnO
と0.5〜20重量%のSb2O3とから成るものに限定さ
れている。Sb2O3の割合が0.5重量%より少ない
と、製造される感ガス素子の特性にばらつきが目
立ち、感度も低下するし、また20重量%を超える
と感度が低下する上にガス感応体の抵抗値が大き
くなつて実用に供し得なくなるのでそれぞれ好ま
しくない。
In addition, in the present invention, the metal oxide semiconductor used as the gas sensitive material is 99.5 to 80% by weight of ZnO.
and 0.5 to 20% by weight of Sb 2 O 3 . If the proportion of Sb 2 O 3 is less than 0.5% by weight, variations in the characteristics of the gas-sensitive elements manufactured will become noticeable and the sensitivity will decrease, while if it exceeds 20% by weight, the sensitivity will decrease and the gas-sensitive elements will deteriorate. Each of these is undesirable because the resistance value becomes too large to be used in practical use.

本発明の感ガス素子によれば、従来の感ガス素
子によつては検出困難であつたフレオンガス、即
ちハロゲン化炭化水素系ガス例えばCHCF2
CHF3、CHC2F、CC2F2、CC3F、CCF3
などを検出することができ、しかも100ppm以下
の低濃度でも感度良く検出することができる。よ
つて、配管の微細な穴から洩れるフレオンガスの
検出などに有効に利用することができる。
According to the gas-sensitive element of the present invention, freon gas, that is, halogenated hydrocarbon gas such as CHCF 2 , which was difficult to detect with conventional gas-sensitive elements,
CHF3 , CHC2F , CC2F2 , CC3F , CCF3
It is possible to detect such substances with high sensitivity even at low concentrations of 100 ppm or less. Therefore, it can be effectively used for detecting Freon gas leaking from minute holes in piping.

第1図及び第2図は、本発明の一実施例を表し
たもので、第1図は円筒状素子の断面図であり、
第2図は該素子をピン足上に取付けた状態の斜視
図である。以下、図面に即して詳細に説明する。
1 and 2 show one embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a cross-sectional view of a cylindrical element,
FIG. 2 is a perspective view of the element mounted on the pin foot. A detailed description will be given below with reference to the drawings.

この感ガス素子は、筒状絶縁基体1の外周面上
に1対の電極2が設けられ、該絶縁基体1及び電
極2を被覆するように金属酸化物半導体から成る
層3が設けられ、該層がガス感応体として機能す
る。更に、該金属酸化物半導体層3の表面に触媒
層4が設けられている。これら、金属酸化物半導
体層3及び触媒層4は多孔質の状態にある。この
感ガス素子は、第2図に示すようにピン足上に取
付けて使用される。図中、5は電極用リード線
を、6は絶縁板を、そして7はヒーターを示す。
ヒーターはガス感応体の温度を約450℃前後に加
熱することにより、素子の感度を高めるために設
けられている。
This gas-sensitive element includes a pair of electrodes 2 provided on the outer peripheral surface of a cylindrical insulating base 1, a layer 3 made of a metal oxide semiconductor so as to cover the insulating base 1 and the electrodes 2, and a layer 3 made of a metal oxide semiconductor. The layer functions as a gas sensitizer. Further, a catalyst layer 4 is provided on the surface of the metal oxide semiconductor layer 3. These metal oxide semiconductor layer 3 and catalyst layer 4 are in a porous state. This gas-sensitive element is used by being attached to a pin foot as shown in FIG. In the figure, 5 represents an electrode lead wire, 6 represents an insulating plate, and 7 represents a heater.
The heater is provided to increase the sensitivity of the element by heating the gas sensitive body to around 450°C.

本発明の感ガス素子は例えば次のようにして製
造することができる。
The gas-sensitive element of the present invention can be manufactured, for example, as follows.

所定の割合でZnO粉末とSb2O3粉末を採取、混
合し、これにメチルセルロース等のバインダーを
適当量加えてボールミルなどで一定時間混合して
ペーストとする。さて、前記調製したペースト
を、予め金ペーストの焼付けなどにより一対の電
極2を形成しておいた筒状絶縁基体1の外周面に
塗布し、乾燥後300〜1000℃で焼成することによ
りガス感応体3を形成する。
ZnO powder and Sb 2 O 3 powder are collected and mixed at a predetermined ratio, an appropriate amount of a binder such as methyl cellulose is added thereto, and the mixture is mixed for a certain period of time using a ball mill or the like to form a paste. Now, the paste prepared above is applied to the outer circumferential surface of the cylindrical insulating substrate 1 on which a pair of electrodes 2 have been formed in advance by baking gold paste, etc., and after drying, the paste is baked at 300 to 1000°C to make the gas sensitive. Form body 3.

次にガス感応体3の表面に触媒層4を形成する
には次のように行う。
Next, the catalyst layer 4 is formed on the surface of the gas sensitive body 3 in the following manner.

まず触媒として、バナジウム―モリブデン系触
媒を用いる場合、バナジウムおよびモリブデンの
標準溶液を作成する。例えばバナジウム標準溶液
はメタバナジン酸アンモニウムに水を加え、加熱
状態でシユウ酸を加えることにより所定濃度の標
準溶液とする。また、モリブデン標準溶液は所定
濃度のモリブデン酸アンモニウム水溶液を作成し
標準溶液とする。作成した各々の標準溶液を所定
量採取し混合することによりバナジウム―モリブ
デン標準溶液を作成する。次に担体として例えば
2O3を所定量秤量し、所定量の前記標準溶液
に浸漬し一昼夜放置する。放置後、蒸発乾固し、
乳鉢で粉砕し粉体として石英ルツボに入れ、電気
炉で300〜600℃で焼成することにより触媒が得ら
れる。
First, when using a vanadium-molybdenum catalyst as a catalyst, a standard solution of vanadium and molybdenum is prepared. For example, a vanadium standard solution is prepared by adding water to ammonium metavanadate and adding oxalic acid under heating to obtain a standard solution of a predetermined concentration. In addition, for the molybdenum standard solution, an ammonium molybdate aqueous solution with a predetermined concentration is prepared and used as a standard solution. A vanadium-molybdenum standard solution is prepared by taking a predetermined amount of each of the prepared standard solutions and mixing them. Next, a predetermined amount of, for example, A 2 O 3 as a carrier is weighed out, immersed in a predetermined amount of the standard solution, and left overnight. After standing, evaporate to dryness,
The catalyst is obtained by crushing it in a mortar, putting it in a quartz crucible as a powder, and firing it in an electric furnace at 300-600°C.

このようにして調製した触媒を適当な溶媒(例
えば水、アルコールなど)を用いて泥漿とし、前
記のガス感応体の表面3に塗布、乾燥し、300〜
600℃で焼成することにより本発明の感ガス素子
が得られる。なお、触媒の泥漿を調製する際に、
水やアルコールなどの溶媒のほかに、メチルセル
ロース、エチルセルロース、酢酸セルロースなど
の有機バインダーを添加すると、形成される触媒
層の機械的強度が高まり、耐衝撃性なども向上す
る。
The catalyst thus prepared is made into a slurry using an appropriate solvent (e.g. water, alcohol, etc.), applied to the surface 3 of the gas sensitive body, dried, and
The gas-sensitive element of the present invention can be obtained by firing at 600°C. In addition, when preparing the catalyst slurry,
Adding an organic binder such as methylcellulose, ethylcellulose, or cellulose acetate in addition to a solvent such as water or alcohol increases the mechanical strength of the formed catalyst layer and improves its impact resistance.

以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples.

実施例 1 第1図及び第2図に示した構造の感ガス素子を
製造した。触媒層は担体A2O3にバナジウム―
モリブデンを担持させたもので、バナジウムの担
持量が担体に対して10重量%、モリブデンの担持
量がバナジウムに対してg原子比で0.1である。
感応体はZnO―Sb2O3系酸化物半導体で構成した
が、Sb2O3の割合を0.2〜22重量%の範囲で色々変
えたものを調製し、それぞれについて空気中に
50ppmの濃度で含まれるフレオン22(CHC
F2)に対する感度を測定した。ここで感度とは、
普通の空気中における素子の抵抗値をR0とし、
フレオン22を50ppm含む空気中における素子
の抵抗値をRgとしたときのR0/Rgの値で表した
もので、この値が大きい程素子の感度が大きいこ
とになる。
Example 1 A gas-sensitive element having the structure shown in FIGS. 1 and 2 was manufactured. The catalyst layer consists of vanadium on carrier A 2 O 3 .
Molybdenum is supported, and the amount of vanadium supported is 10% by weight based on the carrier, and the amount of molybdenum supported is 0.1 in g atomic ratio to vanadium.
The sensitizer was composed of a ZnO--Sb 2 O 3 -based oxide semiconductor, but we prepared samples with various Sb 2 O 3 proportions in the range of 0.2 to 22% by weight, and each was immersed in air.
Freon-22 (CHC) contained in a concentration of 50 ppm
The sensitivity to F 2 ) was measured. Here, sensitivity is
Let the resistance value of the element in normal air be R 0 ,
It is expressed as R 0 /Rg, where Rg is the resistance value of the element in air containing 50 ppm of Freon 22, and the larger this value, the greater the sensitivity of the element.

比較のために、ZnOへの添加物としてSb2O3
代りにFe2O3又はA2O3を加えたほかは、上記
の場合と同一の構成の感ガス素子を製造して、同
様の測定を行つた。結果を第3図にグラフとして
示す。図中、曲線a,b,cはそれぞれ添加物が
Sb2O3,Fe2O3,A2O3の場合である。また、曲
線dはZnO―Sb2O3系酸化物半導体を感応体とし
て用い、触媒にバナジウム触媒(担持量2.0%)
を用いた場合について同様に測定を行なつた結果
を示した。
For comparison, a gas-sensitive element having the same configuration as the above case was manufactured, except that Fe 2 O 3 or A 2 O 3 was added instead of Sb 2 O 3 as an additive to ZnO, and the same process was carried out. Measurements were made. The results are shown graphically in FIG. In the figure, curves a, b, and c are respectively
This is the case for Sb 2 O 3 , Fe 2 O 3 , and A 2 O 3 . In addition, curve d uses a ZnO-Sb 2 O 3- based oxide semiconductor as a sensitizer, and a vanadium catalyst (supported amount 2.0%).
We have shown the results of similar measurements using .

さらに、Sb2O3を加えて製造した前記の各素子
について、空気中、素子温度約450℃における素
子抵抗とガス感応体組成の関係を第4図にグラフ
として示す。Sb2O31重量%の時の抵抗値を1と
して相対的な抵抗値を表す。
Further, for each of the above-mentioned devices manufactured by adding Sb 2 O 3 , the relationship between the device resistance and the gas sensitive material composition in air at a device temperature of about 450° C. is shown as a graph in FIG. Relative resistance values are expressed assuming that the resistance value when Sb 2 O 3 is 1% by weight is 1.

第3図から明らかなように、ZnO―Sb2O3系が
ガス感応体として優れており、中でもSb2O3の含
有量が0.5〜20重量%、更には0.8〜10重量%の範
囲のときに感度が著しく向上する。また第4図の
結果によると、Sb2O3の含有量が20重量%を超え
ると素子抵抗が著しく増大し、実用に耐えないこ
ともわかる。
As is clear from Fig. 3, the ZnO-Sb 2 O 3 system is excellent as a gas sensitive material, and among them, the ZnO-Sb 2 O 3 system has an Sb 2 O 3 content of 0.5 to 20% by weight, and even more so in the range of 0.8 to 10% by weight. Sensitivity is sometimes markedly improved. Furthermore, according to the results shown in FIG. 4, it can be seen that when the content of Sb 2 O 3 exceeds 20% by weight, the element resistance increases significantly and it cannot be put into practical use.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る感ガス素子の構造例を示
す断面図、第2図は本発明素子を用いた装置例を
示す斜視図、第3図は感応体組成(触媒層はバナ
ジウム―モリブデンを担持させたもの)と素子の
感度の関係を表す図、そして第4図は感応体組成
と素子抵抗の関係を表す図である。 1…筒状絶縁基体、2…電極、3…ガス感応
体、4…触媒層。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of a gas-sensitive element according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing an example of a device using the element of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the sensitive material composition and the element resistance. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Cylindrical insulating base, 2... Electrode, 3... Gas sensitive body, 4... Catalyst layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 1対の電極を備えたガス感応体を有する感ガ
ス素子において、 前記ガス感応体が、99.5〜80重量%のZnOと
0.5〜20重量%のSb2O3とからなる金属酸化物半導
体により構成され、 該ガス感応体の表面に、A2O3、SiO2又は
SiO2―A2O3からなる担体にバナジウム又はバ
ナジウム―モリブデンを担持させてなる触媒の層
が設けられていることを特徴とする感ガス素子。 2 特許請求の範囲第1項の記載において、担体
に担持された成分がバナジウムであり、該バナジ
ウムの担持量が担体に対して0.1〜50重量%であ
る感ガス素子。 3 特許請求の範囲第1項の記載において、担体
に担持された成分がバナジウム―モリブデンであ
つて、バナジウムの担持量が担体に対して0.1〜
50重量%であり、モリブデンの担持量がバナジウ
ムに対するg原子比で表わして0.05〜0.5である
感ガス素子。
[Claims] 1. A gas-sensitive element having a gas-sensitive member equipped with a pair of electrodes, wherein the gas-sensitive member contains 99.5 to 80% by weight of ZnO.
It is composed of a metal oxide semiconductor consisting of 0.5 to 20% by weight of Sb 2 O 3 , and the surface of the gas sensitive body is coated with A 2 O 3 , SiO 2 or
1. A gas-sensitive element comprising a catalyst layer made of vanadium or vanadium-molybdenum supported on a carrier made of SiO 2 -A 2 O 3 . 2. The gas-sensitive element according to claim 1, wherein the component supported on the carrier is vanadium, and the amount of vanadium supported is 0.1 to 50% by weight based on the carrier. 3 In the statement of claim 1, the component supported on the carrier is vanadium-molybdenum, and the amount of vanadium supported is 0.1 to 0.1 to
50% by weight, and the amount of supported molybdenum is 0.05 to 0.5 expressed as g atomic ratio to vanadium.
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