JPS61283615A - 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂成形材料Info
- Publication number
- JPS61283615A JPS61283615A JP60125218A JP12521885A JPS61283615A JP S61283615 A JPS61283615 A JP S61283615A JP 60125218 A JP60125218 A JP 60125218A JP 12521885 A JP12521885 A JP 12521885A JP S61283615 A JPS61283615 A JP S61283615A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- curing agent
- molding material
- particle size
- filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
- H01L23/295—Organic, e.g. plastic containing a filler
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は熱衝撃を受けた場合の耐り2ツク性及び耐湿性
に優れた特徴を持つ半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
に関するものであシ、その特徴はエピキシ樹脂と硬化剤
のバランスをずらすと共に充填材の粒径を小さくし低応
力化を図っているところである。
に優れた特徴を持つ半導体封止用エポキシ樹脂成形材料
に関するものであシ、その特徴はエピキシ樹脂と硬化剤
のバランスをずらすと共に充填材の粒径を小さくし低応
力化を図っているところである。
従来半導体封止用エポキシ樹脂成形材料には、一般には
充填材としてシリカが用いられている。
充填材としてシリカが用いられている。
従来のシリカは平均粒径が20ミクロンで最大粒径が1
50ミクロンの破砕状で粗いものや角ばったものが混じ
っている、。このため肉薄のフラットノぞツケ二ジ等で
未充填不良を起こしたシ、超LSIでノζツシペーショ
ンクラックといりた不良を発生していた。゛ 又、エポキシ樹脂と硬化剤はエピキシ基と水酸基の当量
比を1:1にするのが従来技術であシ、これだと成形材
料はあまシにもレジンが強固に結合しているため最終製
品が硬くもろくなってしまい、例えば、冷熱衝撃を与え
ると樹脂クラックを生じたシ耐湿性が極端に悪くなると
いうような欠点が指運されていた。
50ミクロンの破砕状で粗いものや角ばったものが混じ
っている、。このため肉薄のフラットノぞツケ二ジ等で
未充填不良を起こしたシ、超LSIでノζツシペーショ
ンクラックといりた不良を発生していた。゛ 又、エポキシ樹脂と硬化剤はエピキシ基と水酸基の当量
比を1:1にするのが従来技術であシ、これだと成形材
料はあまシにもレジンが強固に結合しているため最終製
品が硬くもろくなってしまい、例えば、冷熱衝撃を与え
ると樹脂クラックを生じたシ耐湿性が極端に悪くなると
いうような欠点が指運されていた。
現在、半導体封止用エポキシ樹脂成形材料に要求されて
いるのは汎用でかつ均一な低応力である。
いるのは汎用でかつ均一な低応力である。
生産性が高くかつ超LSIにも適用できる低応カブラス
チックである。
チックである。
本発明は従来熱衝撃を受けた場合の耐クラツク性及び耐
湿性に問題があった半導体封止用エピキシ樹脂成形材料
を抜本的に改良し、実用的製品の開発を目的として研究
した結果、フィラー粒径を小さくすると共に(ニーキシ
樹脂/硬化剤)の当量比を通常よシずらずことによシ目
的とする耐クラツク性及び耐湿性に優れた半導体封止用
エポキシ樹脂成形材料が得られることを見い出したもの
である。
湿性に問題があった半導体封止用エピキシ樹脂成形材料
を抜本的に改良し、実用的製品の開発を目的として研究
した結果、フィラー粒径を小さくすると共に(ニーキシ
樹脂/硬化剤)の当量比を通常よシずらずことによシ目
的とする耐クラツク性及び耐湿性に優れた半導体封止用
エポキシ樹脂成形材料が得られることを見い出したもの
である。
本発明は重量平均粒径が15ミクロン以下で最大粒径が
100jクロン以下の破砕状もしくは球状のシリカを充
填材として用いかつ(エポキシ樹脂/硬化剤)の尚量比
が1.1〜1.5の範囲内であることを特徴とする半導
体封止用途ぜキシ樹脂成形材料である。
100jクロン以下の破砕状もしくは球状のシリカを充
填材として用いかつ(エポキシ樹脂/硬化剤)の尚量比
が1.1〜1.5の範囲内であることを特徴とする半導
体封止用途ぜキシ樹脂成形材料である。
一般的に1半導体封土用エダキシ樹脂成形材料は、エゼ
キシ樹脂・シリカ・処理剤・硬化剤・硬化促進剤・離型
剤・難燃剤・顔料等よ多構成される。特に現在汎用の材
料はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック(硬化剤)、第3級アミン(硬化促進剤)、
シリカ(充填材)、シランカップリング剤(処理剤)等
よ多構成されシリカ量としては50〜80wt%が普通
である。
キシ樹脂・シリカ・処理剤・硬化剤・硬化促進剤・離型
剤・難燃剤・顔料等よ多構成される。特に現在汎用の材
料はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック(硬化剤)、第3級アミン(硬化促進剤)、
シリカ(充填材)、シランカップリング剤(処理剤)等
よ多構成されシリカ量としては50〜80wt%が普通
である。
本発明では(エポキシ樹脂/硬化剤)の当量比二車6耐
湿性が悪くなる・。又、この範囲以上だと成形性(硬化
性、パリ)が問題となる。
湿性が悪くなる・。又、この範囲以上だと成形性(硬化
性、パリ)が問題となる。
シリカとしては、重量平均粒径が15ミクロン以下で最
大粒径が100ミクロン以下であることが必要である。
大粒径が100ミクロン以下であることが必要である。
粗すぎると充填性等で問題を起こす。又、フラットノξ
ツケージといった充填性の厳しい用途にはさらに粒径を
小さくしたもの例えば重量平均粒径が10ミクロン以下
、最大粒径が50ミクロン以下のものが好ましい。さら
に特性変動が問題となるような敏感な半導体封止用途に
は重量平均粒径が5ミクロン以下、最大粒径が20ミク
ロン以下のものが好ましい。
ツケージといった充填性の厳しい用途にはさらに粒径を
小さくしたもの例えば重量平均粒径が10ミクロン以下
、最大粒径が50ミクロン以下のものが好ましい。さら
に特性変動が問題となるような敏感な半導体封止用途に
は重量平均粒径が5ミクロン以下、最大粒径が20ミク
ロン以下のものが好ましい。
このように、本発明に従うと耐クラツク性及び耐湿性に
優れた半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を得ることが
できる。特に今後ますますプラスチック/Zツゲージ化
が予想され、又そのためにプラスチックの低応力化、高
耐湿化が要求されている今日においては本発明の産業的
意味役割は非常に大きい。
優れた半導体封止用エポキシ樹脂成形材料を得ることが
できる。特に今後ますますプラスチック/Zツゲージ化
が予想され、又そのためにプラスチックの低応力化、高
耐湿化が要求されている今日においては本発明の産業的
意味役割は非常に大きい。
以下、エポキシ樹脂成形材料の検討例で説明する。例で
用いた部はすべて重量部である。
用いた部はすべて重量部である。
本発明で用いた原料は次の通シである。
工ぽキシ樹脂 日本化薬 EOCN−1020硬化剤
住友ベークライト フェノールノボラック硬化促進剤
クーアイ化成/四国化成 PP−360/2MZ=%離
型剤 へキストジャノぞン ヘキストOP/ペキス)
S=’、iシランカッシリング剤 チッソ GPS −
Mシリカ (A)(電気化学工業)破砕状 平均粒径20ミクロン
最大粒径150ミクロン (B)(を気化学工業)破砕状 平均粒径15ミクロン
最大粒径100ミクロン 以下 (C)(lft気化学工業)球 状 平均粒径15ミク
ロン最大粒径100ミクロン 以下 製法 全原料を混合後120℃の熱ロールで5分間混練する。
住友ベークライト フェノールノボラック硬化促進剤
クーアイ化成/四国化成 PP−360/2MZ=%離
型剤 へキストジャノぞン ヘキストOP/ペキス)
S=’、iシランカッシリング剤 チッソ GPS −
Mシリカ (A)(電気化学工業)破砕状 平均粒径20ミクロン
最大粒径150ミクロン (B)(を気化学工業)破砕状 平均粒径15ミクロン
最大粒径100ミクロン 以下 (C)(lft気化学工業)球 状 平均粒径15ミク
ロン最大粒径100ミクロン 以下 製法 全原料を混合後120℃の熱ロールで5分間混練する。
シリカ70部、シランカッシリング剤0.3部、工はキ
シ樹脂と硬化剤を合計で30部、硬化促進剤02部、離
型剤0.5部をシリカ形状、粒径及び(エポキシ樹脂/
硬化剤)の当量比に水準を取シ表1のように試作した。
シ樹脂と硬化剤を合計で30部、硬化促進剤02部、離
型剤0.5部をシリカ形状、粒径及び(エポキシ樹脂/
硬化剤)の当量比に水準を取シ表1のように試作した。
これら8稲の材料の特性及び模簀ICの特性を評価した
結果(表1)本発明の手法を用いることにょシ、耐クラ
ツク性、耐湿性いずれも抜群の結果を得ることができた
。
結果(表1)本発明の手法を用いることにょシ、耐クラ
ツク性、耐湿性いずれも抜群の結果を得ることができた
。
Claims (1)
- 重量平均粒径が15ミクロン以下で最大粒径が100ミ
クロン以下の破砕状もしくは球状のシリカを充填材とし
て用い、さらに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
とフェノールノボラック硬化剤の当量比(エポキシ樹脂
/硬化剤)が1.1〜1.5の範囲内であることを特徴
とする半導体封止用エポキシ樹脂成形材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60125218A JPS61283615A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60125218A JPS61283615A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61283615A true JPS61283615A (ja) | 1986-12-13 |
Family
ID=14904778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60125218A Pending JPS61283615A (ja) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61283615A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160255A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JPH01245014A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Toray Ind Inc | 半導体封止用樹脂組成物 |
EP0379172A2 (en) * | 1989-01-18 | 1990-07-25 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Epoxy resin composition and semiconductor sealing material comprising same |
WO2022210384A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物およびこれを用いた電子装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS554952A (en) * | 1978-06-28 | 1980-01-14 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
JPS58174416A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-13 | Toshiba Corp | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPS61268750A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP60125218A patent/JPS61283615A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS554952A (en) * | 1978-06-28 | 1980-01-14 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
JPS58174416A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-13 | Toshiba Corp | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPS61268750A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160255A (ja) * | 1986-12-23 | 1988-07-04 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
JPH01245014A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Toray Ind Inc | 半導体封止用樹脂組成物 |
EP0379172A2 (en) * | 1989-01-18 | 1990-07-25 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Epoxy resin composition and semiconductor sealing material comprising same |
WO2022210384A1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-10-06 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物およびこれを用いた電子装置 |
JP7176669B1 (ja) * | 2021-03-31 | 2022-11-22 | 住友ベークライト株式会社 | 封止用樹脂組成物およびこれを用いた電子装置 |
CN117222686A (zh) * | 2021-03-31 | 2023-12-12 | 住友电木株式会社 | 密封用树脂组合物和使用其的电子装置 |
CN117222686B (zh) * | 2021-03-31 | 2024-04-12 | 住友电木株式会社 | 密封用树脂组合物和使用其的电子装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4701479A (en) | Epoxy resin-based composition for encapsulation of semiconductor devices | |
KR20170074799A (ko) | 액상 에폭시 수지 조성물 | |
CN112724599A (zh) | 一种倒装芯片封装的环氧树脂组合物 | |
US6596813B2 (en) | Composition of epoxy resin, phenolic resin, butadiene particles and amino silicone oil | |
US6169136B1 (en) | Thermosetting resin potting composition | |
JP2853550B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物及びその製造方法及びそれを用いた半導体装置 | |
KR930003800B1 (ko) | 에폭시 수지 조성물로 구성된 반도체 장치 봉지용 재료 | |
JPS61283615A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 | |
JPH059270A (ja) | 樹脂組成物およびその製造方法 | |
JPS61168618A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPS61254619A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JP2773955B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPS627143A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂成形材料 | |
JPS61203160A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPH0551610B2 (ja) | ||
JP2006257309A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPS61151234A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JPS63160254A (ja) | 半導体装置 | |
JP2001019833A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JP2000169675A (ja) | エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 | |
JPH02219814A (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
KR20110018606A (ko) | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자 패키지 | |
JPS61168620A (ja) | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 | |
JP3468900B2 (ja) | 半導体装置 | |
CN112143177A (zh) | 一种环氧模塑料及其制备方法和应用 |