JPS61278022A - 磁気記録フレキシブルデイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記録フレキシブルディスクに関し、更に詳
しくは耐久性の改良された磁気配録フレキシノルディス
クに関する。

従来技術 磁気記録用フレキシブルディスクはポリエチレンテレフ
タレートの二軸配向フィルムに磁性層を塗布し、その磁
性層表面な平滑化処理をして層迄されるのが一般的であ
る。この磁気記録用フレキシブルディスクはその使い騎
手の良さ、高い信頼性のために多（の分野で大量に使用
されている。１この分野では、近年、高密度記録による
ドライブ装置の小型化並びに信頼性の益々の向上が待望
されている。

高密度記録並びに信頼性の向上には１．磁気配録媒体で
あるフレキシブルディスクの耐久性の向上が極めてＩＩ
ｌ！な銖勉である。磁気配録媒体の配録密度を上げる方
法として、一般に、フィルムに塗布される磁気層の厚み
を薄（すること、かつ両性体の充填度を高めることなど
が実施されている。そして、フィルム上に塗布された磁
性層の充填度を藁めるためには’ｌｔ化処理（カレンダ
ーかけ）を施すのが通常実尻される方法である。しかし
、この際フィルムと磁性層とは比較的＾い温度と圧力下
でしごかれるために、ＷＢ磁性層フィルムからはがれ、
商品価値を失なうことが起゛す。

製品収率の低下をもたらす。また、磁気配録フレキシブ
ルナイスクがドライブ中で使用される場合にはヘッドや
パッドによるくりかえしの衝撃のために磁性層がフィル
ム面から剥離するような問題が起るため、耐久性の向上
はこの分野では非常に１＊な間勉である。

上述のようなフレキシブルティスフの製造上での問題及
び使用上での問題は、高密度化のために磁気層を薄くし
ようと’ｔｔｔばするほど、また、磁気層を高度に平坦
化しようとすればする＃ｌと顕在化してくる。

耐久性（フィルムと磁性層の接着性）を改良する技術と
して、ポリエチレンテレフタレートフィルムのＭｉｔｔ
条件を最適化４する。即ちポリエチレンテレフタレート
の結晶の面配向を低下させる条件を選択する方法が考え
られるが、この方法では改良効果がわずかであり。

耐久性の大幅な改良を図ることはできない。

また、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面にフ
ｐす放電処理軒の物理処理を施して磁性層と、の接着力
を向上させる技術が知られている。しかし、この方法も
耐久性の大幅な向上を得るのは難しい。筺だ、コロナ放
電処理したフィルムはその効果が経時的に低下してしま
い、フィルムの表面特性を常に安定した状態で供給する
ことが麺がしいという重大な欠点もある。

一万、ポリエチレンテレフタレートフィルム表面に接着
力を高めるためにコープイング処理する方法は設備を新
たに作る必賛があること、より大きな間踊点は、フィル
ムの巻製品で表面同志かくつつ′り、いわゆるブロッキ
ングを起こし易くなるのが一般的であ゛す、このためコ
ーティング剤に制限があり、その選択が極めて離しくな
るという欠点がある。

本発明者らはこのような欠点のない耐久性の改良された
磁気記録フレキシブルティスフを開発すべく鋭意研究の
結果、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２
，６−ナフタレートのフィルム両表面にポリ−１，４−
シクロヘキシレンジメチレンテレフタレートの層な形成
し、かつ二軸配向せしめた積層フィルムを基材として磁
気記録フレキシノルティスフを作ることによって接着耐
久性が向上できることを見出し、本発明に到達し゛た。

本発明の目的は、ポリエステルフィルムに薄い磁性層を
塗布した径、該磁性層を平滑化処理する時に起り易い磁
性層の倣小な′剥除を減少させてフレキシブルティスフ
製造における不良品の発生を抑え、しかも情報の記録。

再生時の繰返し使用における耐久性を向上させた磁気紀
□録フレキシブルティスクを提供することにある。

発明の構成 本発明の目的は１本発明によ゛れば、二軸配向ポリエス
テルフィルム基材に磁性層を設け。

更にその表面を平滑化処理してなる磁気記録フレキシブ
ルティスフにおいて、核フィルム基材がポリエチレンテ
レフタレートフィルムまたはポリエチレン−２，６−ナ
フタレートフィルムを中間層とし、肢中間層の肉情に厚
み０．１〜２０　ａ−のポリ−１，４−シクロヘキシレ
ンジメチレンテレフタレートフィルムを積層した積層フ
ィルムであることを％黴とする磁気記録フレキシブルテ
ィスフによって達成される。

本発明におけるポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチ
レンテレフタレートとは、二塩基酸成分のうち８０モル
％以上がテレフタル酸より成り、グリコール成分のうち
９０モル％以上が１．４−シクロヘキサンジメタツール
のシスまたはトランス異性体より選ばれるダリ　□コー
ルよりなるポリエステルである。テレフ・タル酸以外の
二塩基酸成分としては、イ”ソフタル敵、フタル酸、ア
ジピン酸、セパチン酸。

コハク酸、シュウ酸、ナフタリン−２，６−ジ−６一 カルボン酸等の如き二塩基酸が例示される。

好ましくは、インフタル酸である。また１、４−シクロ
ヘキサンジメタツール以外のグリコール成分としては、
エチレングリフール、ナトラメチレングリコール、ヘキ
カメチレングリコール等の如き鎖状の脂肪族グリコール
が例示される。

不発ＬＫおける】、４−シクロヘキサンジメタツールは
１例えばジメチルテレフタレートまたはテレフタル酸の
接触還元によって製造する方法で製造できるが、いずれ
の方法で製造されたものでも支障がない。１．４−シク
ロヘキサンジメタツールのシス体とトランス体との比は
特に制限するものではないが、シス体／トランス体＝４
／６〜０／１０の範囲のものが好ましい。

紡記ボ！ｌ−１１４−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート中には、例えば、リン酸。

亜リン酸及びそれらのエステル等の順き安定剤、二酸化
チタン、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カルシウム、
リン酸カルシウム等の如き艶消剤、滑剤等が含まねてい
ても良い。

本発明におけるポリエチレンテレフタレートとは、二塩
基酸成分のうち８０モル％以上がテレフタル酸より成り
、グリコール成分のうち９０モル％以上がエチレングリ
コールよりなるポリエステルである。テレフタル酸以外
の二塩基酸成分としては、イソフタル酸。

２．６−ナフタリンジカルボン酸等の如き二塩基酸が例
示される。またエチレングリコール以外のグリコール成
分としては、プｐビビングリコール、テトラメチレング
リコール、ヘキサメチレングリコール等の如きアルキレ
ングリコール；１，４−シクロヘキサンジメタツールの
如き脂肪族グリコールなどのグリコールが例示される。

本発明におけるポリエチレン−２，６−ナフタレートと
は、二塩基酸成分のうち８０モル％以上が２．６−ナフ
タリンジカルボン酸より成り、グリコール成分のうち９
０モルに以上がエチレングリコールよりなるポリエステ
ルである。２，６−ナフタリンジカルボン酸以外の二塩
基酸成分としては、テレフタル酸、インフタル酸、ナフ
タリン−２，７−ジカルボン酸等の如き二塩基酸が例示
される。またエチレングリコール以外のグリコール成分
としては、プルピレングリフール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等の如キアルキレン
グリコール；１，４−シクロヘキサンジメタツールの如
き脂肪族グリコールなどのグリコールが例示される。

紡紀ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−２
，６−ナフタレートには、それぞれポリ−１，４−シク
ロヘキシレンジメチレンテレフタレートに含有させるこ
とができる化合物例えば安定剤、艶消剤、滑剤等を含有
させることかできる。

本発明におけるフィルム基材は、三層の積層フィルム、
すなわちポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポ
リエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを中間層（
芯層）とし、１中間層の両側にポリ−１＋４−シクロヘ
キシレンジメチレンテレフタレートフィルムを積層して
なる積層フィルムであって、二軸配向されたものである
。この積層フィルムは、＆本釣には従来から蓄積された
製膜方法で製造テキる。例えば、ポリエチレンテレフタ
レートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレート（以
下、これらを総称してポリエステルＢということがある
）とポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレート（以下、ポリエステルＡということがある）と
を乾燥し。

別々の溶融装置で溶融し、押出す途中のポリマーパイプ
中で合流させるが、ヌは厚み方向に３層よりなる押出し
タイ中でポリエステル人とポリエステルＢとを合流させ
て１枚のシートとなし、キャスティングドラム上に押出
して冷却する。央に得られる未延伸フィルムを遂次又は
同時二４１１１延伸し、ヒートセントする方法で製造す
ることができる。延伸方法は一１〇− 公知の方法でよく、例えば縦延伸は周速差のある２個の
ロール間で加熱しながら延伸することができ、横延伸は
クリップでフィルム両端を把持して加熱しながらクリッ
プ列の列間隔を拡大させて延伸することができる。得ら
れた二軸配向フィルムを１５０〜２６０℃。

好ましくは１８０〜２５０℃で１〜１００秒熱固定する
ことによって本発明の耐久性にすぐれた磁気配録フレキ
シブルディスク用の積層フィルムが得られる、しかし１
本発明における二軸配向積層フィルムは、この様な方法
で得られたもののみＫは限られない。

上記積層フィルムにおいて、ポリエステルＡのフィルム
厚みは０．１〜２０μｍである必要がある。ポリエステ
ルＡのフィルムが０．１　ｔｗｒｓより薄いと接着耐久
性が殆んど改良されないので好ましくない。また厚みが
２’０μｍより厚くなるとポリエステルＡめ特性特に機
械的に弱いなどの点が顕在イヒしフレキシブルティスフ
のセントラルホールの摩耗が著しくなったり、引裂きに
対して弱いなどの実用上問題が出てくる場合があるので
好ましくない。ポリエステルＡ　１７）フィルムはポリ
エステルＢのフィルムに界面で密に接合され、かつ二軸
配向されていなければならない。しかして、ポリエステ
ルＡを二軸配向ポリエステルＢの表面に単にコーティン
グしたものは、もちろん本発明の技術には含まれないが
、このようなものは磁性層コーティング時にポリエステ
ルＡが溶剤に溶けて脱落してしまう場合が多い。

ポリエステルＡのフィルム厚みは２〜２０μｍが特に好
ましい。このフィルム層の厚みは大ぎいほど基材の吸湿
膨張が小さく、好ましい。ポリエステルＡとポリエステ
ルＢとを界面で密に接合する点から、上述の３層構造タ
イにて未延伸シートを押出す技術や＃９融ポリマーの流
路内で合体させるなどの技術を使うことが好ましい。未
延伸シートを延伸する場合ポリエステルＡがポリエステ
ルＢの両面にあることは両ポリエステルの特性の差によ
るカールの発生を防止できる点でも都合がよい。

ポリエステルＡとポリエステルＢとの特性に大ぎな差（
たとえば溶融粘度）があって、ポリエステルＡとポリエ
ステルＢとの界面が充分に接合しなくなるような場合に
は、ポリニスデルＡＫポリニスデルＢを２０Ｍｆｌｌ九
以下の量でブレンドするとよい。

本発明における二軸配向積層フィルムは、通常２５〜１
２５　ａｍ　、更には５０〜１００〃ｍ程度の範囲から
遺ばれる。もっとも、この厚さの範囲に限定されるもの
ではない。

本発明の磁気記録フレキシブルディスクは。

磁性層と上述の基材フィルムとによって構成されている
。磁性層は磁性粉体裁は金属よりなる。本発明に使用で
きる強磁性粉体又は金輌としては、例えばｒ　　Ｆｅ２
０ａ＋　Ｃｏ含有のｒ−Ｆｅ、Ｏ，＋　Ｆｅ、Ｏ，＋　
Ｃｏ　ｔ　壱のＦｅ、０４．　Ｃｒｙ、　、　Ｃｏ　−
Ｎ１−Ｐ合金、　ＣＯ−Ｎｊ　−’ｈ’ｓ合金ｙ　Ｃｏ
　　Ｃｒ　　合金＋　Ｃｏ　　Ｎ１合金、バリウムフェ
ライト等の強磁性体が例示できる。

１３一 本発明で磁性粉体と共に使用されるバインダーとしては
、公知の熱可塑性樹脂１罰化性樹脂１反応ｍ掬脂又はこ
れらの混合物が挙げられる。具体的には、例えば塩化ビ
ニール酢酸ビニル共１合体、塩化ビニル塩化ビニリデノ
共重合体、塩化ビニル７りｌＪａニトリル共重合体、ア
クリルｙエステルアクリｐ二）ロル共重合体、アクリル
酸エステル塩化ビニリデン共１合体、アクリル散エステ
ルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニ
トリル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリチン
共重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウ
レタンエラストマー！ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデ
ン７クリロニトリル共重合体、ノタジエ／７クリロニト
リル共重合体穿ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール
、セルロース誘導体（セルロース７セテートプチンート
、セルシロ−スジ華アセテート、セルｐ−ストリアセテ
ート、セルμ−スプロビオネート、ニトロセルロース等
）Ｉスチレンブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、
クロロヒニルエーケルアクリル醒エステル共１台体、γ
ミノ樹脂、各種の合成ゴム系の勲司励性桐脂およびこれ
らの混合動勢が使用できる。

支持体フィルム（二軸配向積層フイノ１ム）上への６り
記の磁性層を頭布″ｔろ方法としては、例えばエアード
クターコート、プレートコ−１、エアナイフコートスク
イズフート、含浸コー１　、リバースｐ−ルコー１　、
Ｉランスファーロールコート、グラビアコートキスコー
ト、キャストコート、スプレィ：】−ト等が利用できる
。

基体ノ・ｒルムにはａＩ性！−を０．１〜３μｍの厚さ
に塗布することが好プし、い。

本発明における特性＜ｗの測定方法は次の通りである。

（１）　　接　　着　　性 磁性層を塗布し、平滑化仕上げした後のウェブを温度２
０℃、ＩＭ、度６０％ＩζＨにて２４時間以上放置した
後、このウェブの磁性向に市販の粘着テープ（５ｃｏｔ
ｃｈ　＃　５６　。

米国３Ｍ社製）を貼付は充分に圧着する。

次いでテープを急激に手で引張り、はぼ１８０°方向に
剥がす。該粘着テープに付着してくる磁性層の量（面積
）により、接着性の良否を判定する。

接着性良好け、粘着テープに磁性層が全く付いてこない
か、剥離して付いてきたとしても極くわずかである場合
である。接着性不良は、磁性層がポリエステルフィルム
面から完全に剥離してしまい、粘着テープ面の殆んど全
体が磁性層でおおわれる場合である。両者の中間で、粘
着テープの面の０〜３０％が磁性層でおおわれるときを
評点１級、３１〜６０％が磁性層でおおわれるときを評
点２級、６１〜１００′９６が磁性層でおおわれるとき
を評点３級として評価する。評点の小さい方が磁性層と
フィルムの接着耐久性はすぐれていることを意味する。

（２）　　ドロップアウトの測定 東京エンジニアリング■製のドロップイ／アウトカウン
タ５Ｋ−４４４Ｂを用いて測定する。ドライブ装置とし
ては市販の実機ドライブを使用する。

測定機により検出された磁気記録フレキシブルディスク
面のドロップアウト箇所を顧倣鏡観察し、微小な磁気層
の剥離が原因になっている数をカウントする。すなわち
１枚のフレキシブルディスクに１ケ所でもドロップアウ
ト（出力のレベルが基本レベルから３０％以上低下した
場合）が発生したものを不良品として抽出する。抽出さ
れたドロップアウト箇所の内微小な磁気層の剥離が原因
となっている割合な％で表示する。

実　　施　　例 次に、実施例により本発明を具体的に脱明する。

実施例１〜４及び比較例に 塩基酸成分として、テレフタル酸を８５モル％、イソフ
タル酸を１５モル％、グリコール成分として１，４−シ
クロヘキサンジメタツールを用い、触媒として酸化チタ
ン０．０５モル％（酸成分一対して）とをオートク、レ
ープに入れ、攪拌下で加熱してエステル交換し、次いで
重縮合して、１，４−シクロヘキサンジメタツールとテ
レフタル酸及びイソフタル酸よりなるポリ−１，４−シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタンート（ポリエステ
ルＡ）を得た。このＷ＆、滑剤として平均粒径が０６３
μｍの酸化チタン０．５重量％を添加した。

また、常法によって重合してポリエチレン−２，６−ナ
フタンー）　（Ｐ　ＥＮ−２，６）を得た。

更にまた、常法によって重合してポリエチレンテレフタ
ンー）　（ＰＥＴ　）を得た。

これらのポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテ
レフタンートとポリエチレン−２．６−ナフタレートま
たはポリエチレンテレフタレートとを別々の溶融押出し
装置で溶融し、両者の溶融ポリエステルを３層構造の押
出しダイ内で合流させ、押出し、冷却して３層のポリエ
ステルよりなる１０５０ミクロン厚みの未延伸シートを
得た。この際二軸配向後のポリエステルの層厚みが表Ｉ
Ｋ示した値になるように未延伸成形時のポリエステルの
押出し量を１１１４１した。得られた未延伸シートを１
０５℃にて縦方向に３，６倍、１１５℃で横力向に３．
８倍延伸し、更に２２０℃で３０艙布した。

（磁性塗布液） ｒ　　　Ｆｅ、０＠　　　’　　　　　　　　　　　２
００重量部塩化ビニール−酢酸ビニル共重合ｍ脂　１３
０］ｌｉ１部（ＵＣＣＩＩＩＶＡＧＨ’） ポリウレタン（日本ポリウレタン　　　　２０重量部工
業製ＰＰ−８８） イソシアネート化合物（日本ボリウレ　　４０重１部タ
ン工業製コｐネートＨＬ） カーボン（平均サイズ０．５μｍφ）　　　２０重量部
ジメチルシロキサン　　　　　　２重量部トルエン　　
　　　　　　　　　　　　７０重量部メチルエチルケト
ン　　　　　　７０重量部シクロヘキサノン　　　　　
　　７０重量部上１塗料を充分に混合攪拌して塗布処理
に供した。

医いで塗布面にカレンターロール処理を施した。その後
外径２０口で内径３．８１の磁気記録フレキシブルディ
スクに切抜いた。

得られたディスクを記録再生装置にかけて配録再生操作
を行った。その際、シートレコーダーは３６０　ｒｐｍ
で同転した。

表１にこの結果を示す。実施例から明らかなように本発
明の磁気記録フレキシブルディスクは極めてすぐれた特
性をもつものである。

表　　　　１ 発明の効果 本発明によれば次のような効果が得られる。

１、　ベースフィルムの接着性を向上させることができ
るので、磁性層の平滑化処理のためのカレンダ一工程で
起こる磁性層の剥離によるドロップアウトを大幅に減少
させることかできる。このため製品の歩留りを大幅に向
上させることができる。

２、　ベースフィルムと磁性層との接着性が向上するた
めフレキシブルディスクの接着耐磁性を向上させること
ができる。このため磁性層を従来より薄（したとしても
耐久性が低下することが少ない。従ってフレキシブルデ
ィスクの高密度記録化が容易に達成で鎗る。

１　ポリ−１，４−シクμλキシレンジメチレンテレフ
タレートよりなる配向フィルムは吸湿膨張率が小さいの
で磁気記録フレキシブルディスクとした場合この効果が
発現して低い＠湿膨張率のフレキシブルディスクを提供
しうる。跋ポリエステルの層を厚くするとより低い吸湿
膨張率のフレキシブルディスクを得ることができる。そ
のため高トラツク密度が得られる。

ζ　ベースフィルムの芯層にポリエチレ／−２，６−ナ
フタレートフィルムを使用する場合、ポリエチレン−２
，６−ナフタレートの温度膨張率はｌ０ＸＩＯ’／Ｔ：
と比較的小さく、一方ポリー１，４−シクロヘキシレン
ジメチレンテレフタレートの温度膨張率は２５〜ａｏｘ
ｔｏ　’／’Ｃと比較的大きいので、両者の厚み比率を
ほぼ同勢にすることにより、フ１／４シプルディスクド
ライブの温度膨張率（（１７〜２０）Ｘ１０−６／℃）
に適合させることかできる。この組合せの場合、ヤング
率もまたポリ−１，４−ツク−ヘキシレンジメチレンテ
レフタレートは現用のポリエステルフィルムに比して約
６０９６と小さく、ポリエチレン−２，６−ナフタレー
トのヤング率は常用のポリエステルフィルムに比して１
２０Ｘと大ぎいので、複合体のみかけのヤング率はほぼ
現用のポリエステルフィルムに近くなり、従来のゲイス
フ−ヘッドインターフェース技術等の設計技術がそのま
ま活用でする。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 二軸配向ポリエステルフィルム基材に磁性層を設け、更
   にその表面を平滑化処理してなる磁気記録フレキシブル
   ディスクにおいて、該フィルム基材がポリエチレンテレ
   フタレートフィルムまたはポリエチレン−２，６−ナフ
   タレートフィルムを中間層とし、該中間層の両側に厚み
   ０．１〜２０μｍのポリ−１，４−シクロヘキシレンジ
   メチレンテレフタレートフィルムを積層した積層フィル
   ムであることを特徴とする磁気記録フレキシブルディス
   ク。