JPS61272231A - クラウンエ−テル重合物の製造方法 - Google Patents
クラウンエ−テル重合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS61272231A JPS61272231A JP11559285A JP11559285A JPS61272231A JP S61272231 A JPS61272231 A JP S61272231A JP 11559285 A JP11559285 A JP 11559285A JP 11559285 A JP11559285 A JP 11559285A JP S61272231 A JPS61272231 A JP S61272231A
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- Japan
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- crown ether
- plasma
- polymer
- crown
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- Polyethers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はクラウンエーテル重合物の製造方法に関する。
（従来の技術）
クラウンエーテル化合物は１９６７年ｐｅｄｅｒｓｏｎ
博士の発見以来、その特異な性質が次々と見出され、有
機化学、生化学の基礎化学分野及び工業的な分野におい
て非常に重要なものとなってきている。その重要な性質
としては金属カチオンの選択的補足及びそれに蔦づく金
属イオンの分離、輸送、及び無機類、アルカリ金属等、
通常１機溶剤へ溶解しないものの有ａｈ溶剤溶解性の付
与及びクラウンエーテルの立体化学的な面の応用として
光学分割剤への応用がある。特に金属カチオンセンサー
としては非常に重要である。
博士の発見以来、その特異な性質が次々と見出され、有
機化学、生化学の基礎化学分野及び工業的な分野におい
て非常に重要なものとなってきている。その重要な性質
としては金属カチオンの選択的補足及びそれに蔦づく金
属イオンの分離、輸送、及び無機類、アルカリ金属等、
通常１機溶剤へ溶解しないものの有ａｈ溶剤溶解性の付
与及びクラウンエーテルの立体化学的な面の応用として
光学分割剤への応用がある。特に金属カチオンセンサー
としては非常に重要である。
ところがクラウンエーテルは溶解性、生理作用及び滲性
等問題点が多い。従ってクラウンエーテルの重合化或い
は固定・不溶化等によシこれら問題点を改良する検討も
なされている。
等問題点が多い。従ってクラウンエーテルの重合化或い
は固定・不溶化等によシこれら問題点を改良する検討も
なされている。
クラウンエーテルの重合・固定化・不溶化の方法として
は例えば特開昭５６−１４１８１．２号公報ではクラウ
ンエーテルにビニル基を付加し、放射線照射によシ固定
化する方法を示している。又、特開昭５６−４７４０５
号公報では芳香族クラウン化合物とクロルメチル化架橋
ポリスチレンとの７リ一デルクラフト製反応による固定
化を提案している。
は例えば特開昭５６−１４１８１．２号公報ではクラウ
ンエーテルにビニル基を付加し、放射線照射によシ固定
化する方法を示している。又、特開昭５６−４７４０５
号公報では芳香族クラウン化合物とクロルメチル化架橋
ポリスチレンとの７リ一デルクラフト製反応による固定
化を提案している。
特開昭５２−１０９６００号公報ではクラウン化合物に
アミノ薦を導入し、エポキシ基との反応により固定化す
る方法にて提案している。
アミノ薦を導入し、エポキシ基との反応により固定化す
る方法にて提案している。
これらの方法ではクラウン化合物への官能基導入という
非常に困難なかつ収率の低いプロセスや官能基を導入し
てもクラウン化合物の高分子化における収率の低さ、及
び未反応物の残存等、前述した問題点が残る。
非常に困難なかつ収率の低いプロセスや官能基を導入し
てもクラウン化合物の高分子化における収率の低さ、及
び未反応物の残存等、前述した問題点が残る。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明はクラウンエーテル低分子物の種々の問題点を解
決すると同時に、又従来のクラウンエーテルの固定化に
おける問題点を解決するものである。
決すると同時に、又従来のクラウンエーテルの固定化に
おける問題点を解決するものである。
本発明の目的はり２クンエーテルの重合・固定化をよシ
簡単なプロセスで高収率で１合する亭及びよシ広汎な担
体に固定化する方法を提案するにある。
簡単なプロセスで高収率で１合する亭及びよシ広汎な担
体に固定化する方法を提案するにある。
（問題点を解決する為の手段）
本発明方法は、クラウンエーテル化合物を低温プラズマ
中で活性化し東金・不溶化することを特徴とする。
中で活性化し東金・不溶化することを特徴とする。
本発明に使用するクラウンエーテル化合物にこれまで用
いられているクラウンエーテル化合物ならいずれでもよ
く特に限定されない。例えば下記一般式■で示される単
環式クラウンエーテルや一般式■で示される複索環式ク
ラウンエーテルのいずれでもよい。
いられているクラウンエーテル化合物ならいずれでもよ
く特に限定されない。例えば下記一般式■で示される単
環式クラウンエーテルや一般式■で示される複索環式ク
ラウンエーテルのいずれでもよい。
ｍｌ ？ ｍｔ ＊ ｍｇ ： １ 以上Ｒ１、Ｒ２：
Ｈ又社次化水素残基を示す。
Ｈ又社次化水素残基を示す。
上述したクラウンエーテル化合物（以下クラウンエーテ
ル化合物と略称する）はその中にハ四ゲン元素や、ベン
ゼン環、シクロヘキサン環及びこれらの各種誘導体を１
個或いは複数個含有する事も出来る。
ル化合物と略称する）はその中にハ四ゲン元素や、ベン
ゼン環、シクロヘキサン環及びこれらの各種誘導体を１
個或いは複数個含有する事も出来る。
例えば従来数多く利用されているジベンゾ１８−クラウ
ン−６、ジシクロへキシル１８−クラウン−６、シフ筒
へ中シル１２−クラウン−４、ベンゾ１６−クラウン−
５、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾ１５−クラウン−５、トリ
ベンゾ１８−クラウン−６、ナト２ベンゾ２４−り２ク
ン−８なども使用できる。
ン−６、ジシクロへキシル１８−クラウン−６、シフ筒
へ中シル１２−クラウン−４、ベンゾ１６−クラウン−
５、ｔｅｒｔ−ブチルベンゾ１５−クラウン−５、トリ
ベンゾ１８−クラウン−６、ナト２ベンゾ２４−り２ク
ン−８なども使用できる。
又、一般式■及び■で表わせないクラウン二一本発明で
用いるプラズマはいわゆる低温プラズマを指し、該イオ
ン化ガスプラズマはかかるプラズマを生成するための公
知方法のいずれによっても生成させることができる。例
えばＪ−凡、ホラハン但ｏ１１ａｈａｎ）とＡ−Ｔ、ベ
ル（Ｂｅｌｌ ）版「プラズマ化学の応用技術」、ワイ
リ＝ 、二ｘ ”ヨーク１９７４および％シｘン（１３
ｈｅｎ）版「１合体のプラズマ化学」デツカ−・ニエー
ヨーク・１９７６に記載されている。即ち高周波発生器
に連結された平行板電極の間にモノマーを真空下で入れ
、真空家の外部又は内部のいずれかの平行板を用いてプ
ラズマを生成させることが出来る。また外部銹導コイル
によって電場をつくらせ、イオン化ガスのプラズマを発
生させてもよく、マた反対に荷電した電極に間隔をおい
て直接真空室に入れてプラズマを生成させてもよい。
用いるプラズマはいわゆる低温プラズマを指し、該イオ
ン化ガスプラズマはかかるプラズマを生成するための公
知方法のいずれによっても生成させることができる。例
えばＪ−凡、ホラハン但ｏ１１ａｈａｎ）とＡ−Ｔ、ベ
ル（Ｂｅｌｌ ）版「プラズマ化学の応用技術」、ワイ
リ＝ 、二ｘ ”ヨーク１９７４および％シｘン（１３
ｈｅｎ）版「１合体のプラズマ化学」デツカ−・ニエー
ヨーク・１９７６に記載されている。即ち高周波発生器
に連結された平行板電極の間にモノマーを真空下で入れ
、真空家の外部又は内部のいずれかの平行板を用いてプ
ラズマを生成させることが出来る。また外部銹導コイル
によって電場をつくらせ、イオン化ガスのプラズマを発
生させてもよく、マた反対に荷電した電極に間隔をおい
て直接真空室に入れてプラズマを生成させてもよい。
クラウンエーテル化合物は分子量、置換基の種類等にも
依存するが、通常高沸点でＴｏシ、常温では蒸気圧が低
い。
依存するが、通常高沸点でＴｏシ、常温では蒸気圧が低
い。
低温プラズマは前述した真空度において効果的に七ツマ
−の活性化及び重合が逸むもので６１、クラウンエーテ
ルの蒸気圧がこれに満たない場合は、クラウンエーテル
を加熱し、蒸気圧を増大する必要がある。加熱の方法に
は、ヒーター加熱、高周波加熱、遠赤外線加熱或いはレ
ーザー加熱のいずれの方法を用いてもよいが、なるべく
短時間加熱する事がλ要である。クラウンエーテルの低
温プラズマによる重合は、プラズマ重合の条件によりグ
リース（液）状−フイルム（膜）状−粒子（粉末）状と
変化する。
−の活性化及び重合が逸むもので６１、クラウンエーテ
ルの蒸気圧がこれに満たない場合は、クラウンエーテル
を加熱し、蒸気圧を増大する必要がある。加熱の方法に
は、ヒーター加熱、高周波加熱、遠赤外線加熱或いはレ
ーザー加熱のいずれの方法を用いてもよいが、なるべく
短時間加熱する事がλ要である。クラウンエーテルの低
温プラズマによる重合は、プラズマ重合の条件によりグ
リース（液）状−フイルム（膜）状−粒子（粉末）状と
変化する。
プラズマ重合物に、通常、紙、ガラス、シリカゲル、ポ
リマー等のシート、繊維或いは微粒子上に形成させ、重
合・固定化させるがこういった担体を用いないで、直接
電極上へ重合し、生成ポリマーを回収し、それを成形し
てもよい。モノマーと重合物の間の一次（化学）構造の
相関性はモノマーの種類、プラズマ重合条件によって変
化する。
リマー等のシート、繊維或いは微粒子上に形成させ、重
合・固定化させるがこういった担体を用いないで、直接
電極上へ重合し、生成ポリマーを回収し、それを成形し
てもよい。モノマーと重合物の間の一次（化学）構造の
相関性はモノマーの種類、プラズマ重合条件によって変
化する。
クラウンエーテル化合物のプラズマ重合物は、有機溶剤
例えば、アルコール、エーテル、ピリジン、クロロホル
ム、アセトン、ベンゼン、ギ酸、ジメチルホルムアミド
等への溶解性は全くなく、架橋重合物である事がわかる
。
例えば、アルコール、エーテル、ピリジン、クロロホル
ム、アセトン、ベンゼン、ギ酸、ジメチルホルムアミド
等への溶解性は全くなく、架橋重合物である事がわかる
。
但し、有機溶剤に対する膨潤性は、重合条件によって変
化する。プラズマ重合物の構造、化学構造の特定は仲々
困難である。１凡、ＮＭＲ，Ｘ線、電顕等での測定、及
び金属イオン吸着性、各ｆｊ１塊との錯体形成能等の測
定で一応の評価が出来るが、モノマーの代表的な化学構
造、例えばエーテル環が大部分残存される条件を選択す
る事が必要である。
化する。プラズマ重合物の構造、化学構造の特定は仲々
困難である。１凡、ＮＭＲ，Ｘ線、電顕等での測定、及
び金属イオン吸着性、各ｆｊ１塊との錯体形成能等の測
定で一応の評価が出来るが、モノマーの代表的な化学構
造、例えばエーテル環が大部分残存される条件を選択す
る事が必要である。
一般に重合法、光熱等によって化学構造がくずれやすい
モノマーはプラズマ重合によっても同様に１−膜構造を
残す事は容易ではない。こういったモノマーでは、例え
ば電極間にモノマーを置き、まずモノマー以外のプラズ
マ例えば、アルゴン、Ｎ２ 、 Ｎ２ 、Ｈｅ 、 ０
０２等の不活性ガスや他の重合上ツマ−例えばアクリル
酸、メタクリル酸、ビニルピロリドン、ビニルピリジン
、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の重合しやす
いモノマーのプラズマを前もって発生させ、そのプラズ
マ中で短時間加熱を行ない、目的とするモノマーをプラ
ズマ化し、重合させる。又、プラズマ重合の条件によっ
て水、七ツマ−の一次構造の残シやすさは変ってくる。
モノマーはプラズマ重合によっても同様に１−膜構造を
残す事は容易ではない。こういったモノマーでは、例え
ば電極間にモノマーを置き、まずモノマー以外のプラズ
マ例えば、アルゴン、Ｎ２ 、 Ｎ２ 、Ｈｅ 、 ０
０２等の不活性ガスや他の重合上ツマ−例えばアクリル
酸、メタクリル酸、ビニルピロリドン、ビニルピリジン
、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の重合しやす
いモノマーのプラズマを前もって発生させ、そのプラズ
マ中で短時間加熱を行ない、目的とするモノマーをプラ
ズマ化し、重合させる。又、プラズマ重合の条件によっ
て水、七ツマ−の一次構造の残シやすさは変ってくる。
即ち、七ツマ−の一次構造を残そうとする場合には、プ
ラズマ照射時間を下げる。
ラズマ照射時間を下げる。
一般にクラウンエーテルのプラズマ重合は、通常１０分
以下、好ましくは５分以下で６１７、又、パルス的に高
周波を印加する方法も好ましい。プラズマ１合時間を低
下させるとともにプラズマ出力を下げる或いは真空度を
下げる或いは基板の温度を下げるといった方法を併合す
る傘が好ましい。
以下、好ましくは５分以下で６１７、又、パルス的に高
周波を印加する方法も好ましい。プラズマ１合時間を低
下させるとともにプラズマ出力を下げる或いは真空度を
下げる或いは基板の温度を下げるといった方法を併合す
る傘が好ましい。
プラズマ出力に関しては出力が大きいとモノマーの構造
がこわれやすいが出力を余シ下げると重合が十分に進行
せず、モノマーの残存率が高くなったシ或いは生成物の
分子撤が十分高くならず溶剤等に溶解したシする。従っ
て、出力はこれらのかねあいで決定する事が重要である
。クラウンエーテル重合の場合の高周波出力は通常１０
〜８００Ｗ１好ましくは５０Ｐ−２００Ｗである。尚高
周波出力は当然、目的とする用途によって適宜選択する
必要がある。
がこわれやすいが出力を余シ下げると重合が十分に進行
せず、モノマーの残存率が高くなったシ或いは生成物の
分子撤が十分高くならず溶剤等に溶解したシする。従っ
て、出力はこれらのかねあいで決定する事が重要である
。クラウンエーテル重合の場合の高周波出力は通常１０
〜８００Ｗ１好ましくは５０Ｐ−２００Ｗである。尚高
周波出力は当然、目的とする用途によって適宜選択する
必要がある。
真空度も出力と同様の傾向、効果を示し、真空度が低下
すると重合の進行が十分でなく、重合物の物性も十分と
はいえない。一方、真空度を余シにも高くしすぎるとプ
ラズマのエネルギーが高くなシすぎ、モノマーの構造を
殆んど残さない重合物が出来たシ、極めて架橋度の高い
フィルム或いは粉末が出来、重合物内部への物質の出入
シが出来にくくなりモノマーの性質を残存していたとし
ても重合物の性能が発現出来ない。真空度は通常１０−
５〜１００Ｔｏｒｒ、好ましくは１０−４〜１０’１’
ｏｒｒ 、更に好ましくは１０−８〜Ｉ Ｔｏｒｒであ
る。
すると重合の進行が十分でなく、重合物の物性も十分と
はいえない。一方、真空度を余シにも高くしすぎるとプ
ラズマのエネルギーが高くなシすぎ、モノマーの構造を
殆んど残さない重合物が出来たシ、極めて架橋度の高い
フィルム或いは粉末が出来、重合物内部への物質の出入
シが出来にくくなりモノマーの性質を残存していたとし
ても重合物の性能が発現出来ない。真空度は通常１０−
５〜１００Ｔｏｒｒ、好ましくは１０−４〜１０’１’
ｏｒｒ 、更に好ましくは１０−８〜Ｉ Ｔｏｒｒであ
る。
基板の温度はプラズマ重合の本質的メカニズムとの関連
は少ないが、基板温度が高い時重合生成物の分子麓、架
橋が小さい場合は生成物が気化し、放散してしまう。
は少ないが、基板温度が高い時重合生成物の分子麓、架
橋が小さい場合は生成物が気化し、放散してしまう。
又、基板温度が低い場合は温度勾配による拡散によシ活
性化されていないモノマーが付着凝固し、重合性の低下
がある。
性化されていないモノマーが付着凝固し、重合性の低下
がある。
（発明の効果）
本発明方法は従来その毒性、生理的作用、金属イオン吸
着性等よシ極めて取扱いや廃棄が難しく又、その高価格
の為に少量のロスでも極てコストアップであったクラウ
ンエーテル化合物を従来の必ずしも収率の高い方法とは
いえない方法に代りてモノマーを直接的かつ一段でプラ
ズマ重合し、固定化出来たという点で工学的に極めて有
効な方法である。
着性等よシ極めて取扱いや廃棄が難しく又、その高価格
の為に少量のロスでも極てコストアップであったクラウ
ンエーテル化合物を従来の必ずしも収率の高い方法とは
いえない方法に代りてモノマーを直接的かつ一段でプラ
ズマ重合し、固定化出来たという点で工学的に極めて有
効な方法である。
又、クラウンエーテル化合物のプラズマ１合物が液状〜
フィルム状＾粉末状になるという点で生成物の形態も任
意に選ぶ事が出来る。特に金属イオンセンサー等に利用
する場合は均一で非常に薄い膜が必要となる為に本発明
方法が特に有効である。
フィルム状＾粉末状になるという点で生成物の形態も任
意に選ぶ事が出来る。特に金属イオンセンサー等に利用
する場合は均一で非常に薄い膜が必要となる為に本発明
方法が特に有効である。
本発明方法は前述した特徴をもつ為に、膜による金属イ
オンの吸着分離用材料及び金属イオンセンサー、固定化
触媒、光学分割用材料等の製造に極めて有用である。
オンの吸着分離用材料及び金属イオンセンサー、固定化
触媒、光学分割用材料等の製造に極めて有用である。
以下実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
実施例１
第１図には今回使用したプラズマ１合装置を示す。ｌは
高周波電源（ＲＦｉ源）でここでは１８．５６ＭＨｚの
高周波電源を使用した。１で発生させられた高周波は１
９のマツチングボックスを通じて反応器２内の直径１０
３φの電極８に通じられる。電極８とアースされた対の
電極６との間に高周波が印加されると反応器内部でプラ
ズマが発生する。クラウンエーテル化合物２０はメスタ
ル製加熱用容器２１に０．１ｊＦ入れ、加熱用電源２２
によシ加熱電圧を変化させる拳によシモノマーのプラズ
マ中への供給量を変化させる。プラズマを発生させるガ
ス或いは他のモノマーは１６〜１８から供給する事が出
来る。ここではｇ１表に示すクラウンエーテル化合物を
用いた。
高周波電源（ＲＦｉ源）でここでは１８．５６ＭＨｚの
高周波電源を使用した。１で発生させられた高周波は１
９のマツチングボックスを通じて反応器２内の直径１０
３φの電極８に通じられる。電極８とアースされた対の
電極６との間に高周波が印加されると反応器内部でプラ
ズマが発生する。クラウンエーテル化合物２０はメスタ
ル製加熱用容器２１に０．１ｊＦ入れ、加熱用電源２２
によシ加熱電圧を変化させる拳によシモノマーのプラズ
マ中への供給量を変化させる。プラズマを発生させるガ
ス或いは他のモノマーは１６〜１８から供給する事が出
来る。ここではｇ１表に示すクラウンエーテル化合物を
用いた。
反応容器を真空ポンプ９で排気しながら１７よシ窒素ガ
スを供給しながら反応容器の圧力が１０−２トールにな
るように調節した。重合基板には酢酸セルローズ多孔質
膜（孔径０．４６μ）を用いた。
スを供給しながら反応容器の圧力が１０−２トールにな
るように調節した。重合基板には酢酸セルローズ多孔質
膜（孔径０．４６μ）を用いた。
高周波電圧を電極に印加し、まず窒素プラズマを発生さ
せる。高周波出力は１００Ｗとした。次いで２２の電圧
を上昇させクラウンエーテルを気化した。クラウンエー
テルの気化がおきると同時にプラズマの色が若干青みを
帯びた。クラウンエーテルの気化は８〜６分で完全に終
了させ同時にプラズマ発生をやめた。
せる。高周波出力は１００Ｗとした。次いで２２の電圧
を上昇させクラウンエーテルを気化した。クラウンエー
テルの気化がおきると同時にプラズマの色が若干青みを
帯びた。クラウンエーテルの気化は８〜６分で完全に終
了させ同時にプラズマ発生をやめた。
反応器よシフラウンエーテル重合膜を形成させた多孔買
換を取シ出し、エタノール洗浄を行ない未反応のクラウ
ンエーテルを洗い流した後で室内で乾燥させた。
換を取シ出し、エタノール洗浄を行ない未反応のクラウ
ンエーテルを洗い流した後で室内で乾燥させた。
第２図、第８図にＥｘｐ Ｎｏ −６のＡＴＲ及び走電
型電子顕微鏡真写を示す。第２図よシプラズマ１合物が
七ツマ−の官能基を有している事及び第８図からプラズ
マ重合物が平膜状に又一部では粒状で酢酸セリローズ多
孔質膜上へ付加している事及び一部の重合物は粒状を形
成している坐がわかる。
型電子顕微鏡真写を示す。第２図よシプラズマ１合物が
七ツマ−の官能基を有している事及び第８図からプラズ
マ重合物が平膜状に又一部では粒状で酢酸セリローズ多
孔質膜上へ付加している事及び一部の重合物は粒状を形
成している坐がわかる。
第 １ 表
実施例２
夾旅例１の複合膜ではり２クン工−テル１合膜が０．０
２ｆ付着しておシ、Ｋ１．に８ＯＮ。
２ｆ付着しておシ、Ｋ１．に８ＯＮ。
ＮＨ４８ＯＮの各メタノール溶液に該複合膜を浸漬し塩
との錯体を形成させた。各溶液中の塩濃度の減少からク
ラウンエーテル重合物の錯体形成能を測定し、ＫＩ／１
１合物＝０．６／１（モル１モル）、Ｋ８ＯＮ／重合物
＝０．５７／１（モル／そル）、ＮＨ４８ＯＮ ／ Ｎ
合物＝０．４／１（モル１モル）の値が得られる。
との錯体を形成させた。各溶液中の塩濃度の減少からク
ラウンエーテル重合物の錯体形成能を測定し、ＫＩ／１
１合物＝０．６／１（モル１モル）、Ｋ８ＯＮ／重合物
＝０．５７／１（モル／そル）、ＮＨ４８ＯＮ ／ Ｎ
合物＝０．４／１（モル１モル）の値が得られる。
第１図は十字管型プラズマ１合装置であシ、１は高周波
（ＲＦ）電源、２はガラス製反応器、３は上部電極、５
は基板（下部電極）、４はプラズマ重合用試料、２１は
モノマー加熱用容器、２０は七ツマ−を示す。第２図は
ＡＴＲの結果を示す。 人はジシクロヘキシル１８−クラウン−６モノマー、Ｂ
は酢酸セルローズ多孔質膜、Ｃはジシクロヘキシル１８
−クラウン−６のプラズマ重合物を担持した酢酸セルロ
ーズ多孔質膜のＡＴＲスペクトルを示す。第８図（％Ｌ
顕写真）はジシクロへキシル１８−クラウン−６のプラ
ズマ重合物を担持した酢酸セルローズ多孔質膜の走査型
電子Ｍ微鏡写真を示す。（倍率１０００倍） Ｉ カネボウ合繊株式会社 第：月４
（ＲＦ）電源、２はガラス製反応器、３は上部電極、５
は基板（下部電極）、４はプラズマ重合用試料、２１は
モノマー加熱用容器、２０は七ツマ−を示す。第２図は
ＡＴＲの結果を示す。 人はジシクロヘキシル１８−クラウン−６モノマー、Ｂ
は酢酸セルローズ多孔質膜、Ｃはジシクロヘキシル１８
−クラウン−６のプラズマ重合物を担持した酢酸セルロ
ーズ多孔質膜のＡＴＲスペクトルを示す。第８図（％Ｌ
顕写真）はジシクロへキシル１８−クラウン−６のプラ
ズマ重合物を担持した酢酸セルローズ多孔質膜の走査型
電子Ｍ微鏡写真を示す。（倍率１０００倍） Ｉ カネボウ合繊株式会社 第：月４
Claims (4)
- （１）クラウンエーテル化合物を低温プラズマ中で活性
化し重合、不溶化することを特徴とするクラウンエーテ
ル重合物の製造方法。 - （２）クラウンエーテル化合物を気化させ低温プラズマ
中へ導入する特許請求の範囲第１項記載の方法。 - （３）クラウンエーテル化合物の蒸気を電極間に導入し
て活性化する特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方
法。 - （４）低温プラズマを真空度１０＾−＾５〜１００Ｔｏ
ｒｒで発生させる特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11559285A JPH0613610B2 (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | クラウンエ−テル重合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11559285A JPH0613610B2 (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | クラウンエ−テル重合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61272231A true JPS61272231A (ja) | 1986-12-02 |
| JPH0613610B2 JPH0613610B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=14666418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11559285A Expired - Lifetime JPH0613610B2 (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | クラウンエ−テル重合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613610B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05320324A (ja) * | 1991-04-30 | 1993-12-03 | Agency Of Ind Science & Technol | 高分子イオン伝導体の製造法 |
| WO1999062898A3 (en) * | 1998-06-02 | 2000-02-17 | Betzdearborn Inc | Thiacrown ether compound |
| CN114702635A (zh) * | 2022-03-28 | 2022-07-05 | 辽宁石油化工大学 | 席夫碱冠醚聚合物制备方法及其在阴离子交换膜中的应用 |
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1985
- 1985-05-29 JP JP11559285A patent/JPH0613610B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05320324A (ja) * | 1991-04-30 | 1993-12-03 | Agency Of Ind Science & Technol | 高分子イオン伝導体の製造法 |
| WO1999062898A3 (en) * | 1998-06-02 | 2000-02-17 | Betzdearborn Inc | Thiacrown ether compound |
| CN114702635A (zh) * | 2022-03-28 | 2022-07-05 | 辽宁石油化工大学 | 席夫碱冠醚聚合物制备方法及其在阴离子交换膜中的应用 |
| CN114702635B (zh) * | 2022-03-28 | 2023-04-07 | 辽宁石油化工大学 | 席夫碱冠醚聚合物制备方法及其在阴离子交换膜中的应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0613610B2 (ja) | 1994-02-23 |
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