JPS61270364A - レ−ザビ−ム蒸着方法 - Google Patents

レ−ザビ−ム蒸着方法

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Publication number
JPS61270364A
JPS61270364A JP10931385A JP10931385A JPS61270364A JP S61270364 A JPS61270364 A JP S61270364A JP 10931385 A JP10931385 A JP 10931385A JP 10931385 A JP10931385 A JP 10931385A JP S61270364 A JPS61270364 A JP S61270364A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beams
laser beam
evaporating
thin film
source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10931385A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiko Odohira
尾土平　俊彦
Tetsuyoshi Wada
哲義 和田
Sadato Shigemura
重村　貞人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP10931385A priority Critical patent/JPS61270364A/ja
Publication of JPS61270364A publication Critical patent/JPS61270364A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明の被加工体表面に合金、セラミック薄膜を被覆す
る方法に関し、特に該薄膜をレーザビーム蒸着法によっ
て行う方法に関する。
（従来の技術） レーザビームを加熱源とする薄膜生成方法は、加熱源が
薄膜生成容器外に設置されるため、蒸着中に加熱源が蒸
発物質の付着によジ損傷を受けることなく安定した薄膜
生成全持続できること、を子ビーム蒸着法の如く蒸着源
材料が導電性を持つものに制約されることが無いなどの
利点を持つ方法である。
しかしながらレーザビームの波長がｃｏ２レーザの場合
１０．５μ、ＹＡＧレーザで１．０μ、エキシマレーザ
で０．２〜０．３μの如く、可視域より赤外域にわたる
単色光であるため蒸着源材料によってはレーザビームの
一部あるいは大半を反射し、蒸着源の加熱効率全低減さ
せるため薄膜生成の加熱源として適用するには蒸着材料
が制約される欠点が６った。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明はかかる欠点を克服し、レーザビームによる薄膜
生ｇを汎用化させる方法全提供しようとするものでおる
。
（問題点を解決するための手段） すなわち１本発明は物質表面における光の反射率は、光
の波長、ｍ＊の種類により定まるが物質表面の粗度にも
大きく影響される点に着眼し、レーザ波長に対し大きな
反射率を有する材料金蒸着源材料とすることを特徴とす
る特許ある。すなわち本発明は蒸発物質を微粉砕し、次
いで加圧成型、焼成して、これを蒸発源とし。
該蒸発源にレーザビーム２ｓ射して加熱蒸発させ被加工
体の表面に被膜を生成させることを特徴とするレーザビ
ーム蒸着方法である。
本発明においては、レーザビームを加熱源として薄膜生
成を行う場合、該材料を粉末化した後、焼結法により蒸
着源材料表面がレーザ波長を幾何学的に反射させぬよう
粗度を持たせるものでちる。かかる粉末焼結法は粉末の
粒度、焼結温度、焼結体の温度により制御可能である＠
このようにして製造された焼結体表面にレーザビームを
照射すると、はとんどレーザビームを反射することなく
焼結体を加熱蒸発させることができ、被加工体表面に合
金、セラミック薄膜の被覆が達成される。以下に具体的
実施例について述べる。
実施例１ Ｆ　６　、Ｓ　２　Ｃｒ　１２　ＭＯｓ　Ｃ；　１ａ　
　より成るアモルファス合金、すなわちこれらの成分組
成を持つ合金上溶湯状態より１０℃／ｓｅａのオーダー
で急冷すると非晶質状態の薄片が得られるが、かかる合
金組成を持つ薄膜を被加工体の表面に本発明を適用して
被覆する実施例について述べる。
力為かる合金組成を肩する物体の表面、すなわち、適状
の機械加工した状態の表面に波長１０．６μｍのＣ０２
レーザを照射すると第１図に示す如く高い反射率を示し
該材料を加熱溶融することは不可能である。そこでこれ
らの成分組成を持つ合金を粉砕して１０〜２０μｍオー
ダに粒状化し、しかる後、　　Ａｒガス雰囲気中で温度
５００℃、圧力５０　ｋｌ／（ｎ２の状態で仮焼結を行
った。
仮焼結体の表面の粗度は１２μｍＲｍａｘｔ−示した。
該処理体表面の元板収率全分光光度計で計測すると、第
２図の如くなり波長１０μｍオーダーのレーザ光を吸収
して加熱蒸発を起し得ることが認められる。
該焼結体を真窒度１０−’　Ｗ８Ｈｇに維持される蒸着
容器中に設置し、蒸着容器外よυ出力３ｙのＣＯ□レー
ザ（波長１０．６μ）をレーザ導入窓ＫＧ／全通して導
入し、該焼結体に照射し、加熱昇温させて２５００℃と
じＦ　６６２　Ｃｒ　１２　Ｍ　Ｏａ　Ｏ、ａの組成よ
シ成る合金金、厚み１０■の炭素鋼板表面に５０μコー
テイングした。（蒸着時間１５分）コーティングされた
被膜表面をＸ線回折法によ　・シ解析した結果第３図に
示す如く非晶質特有の回折パターンを示した。
実施例２ ”２０Ｓのコーティング事例について述べる。
粒度１μのＡ／２０．粉末’ｋＡｒガス雰囲気中で温度
５００℃、圧力１００　ｋｊｉ／俤２で仮焼結した。
該焼結体の波長０．２〜２．５μｍでの分光特性は第４
図（イ）に示す如く通常の高温焼結体（ロ）に比較して
優れ飾光吸収特性を示すことが認められ飾光吸収率の向
上は焼結体表面の粗度に関係し。
仮焼結体の粒度は１．５μｍ、一般の高温焼結体の粗度
は１μｍであることに起因する。該焼結体全波長１．０
μｍのＹＡＧレーザによシ加熱蒸発した結果、被加工体
である炭素鋼表面にＡ／２０゜被膜の被覆が認められた
。
以上詳述した如く合金やセラミックの蒸発源にレーザを
加熱源とする真空蒸着を行５ことによシ被加工体表面に
被覆を可能とするもので工業的に実用上有効な方法であ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図はアモルファス合金の光反射″４を第
５図は本発明の方法で生成したアモルファス合金被覆の
Ｘ線回折を第４図はＡｌ　２０５の光反射率を示す。 復代理人　　内　１）　　明 復代理人　　萩　原　亮　− 復代理人　　安　西　篤　夫

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 蒸発物質を微粉砕し、次いで加圧成型、焼成してこれを
    蒸発源とし、該蒸発源にレーザビームを照射して加熱蒸
    発させ被加工体の表面に被膜を生成させることを特徴と
    するレーザビーム蒸着方法。
JP10931385A 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザビ−ム蒸着方法 Pending JPS61270364A (ja)

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JP10931385A JPS61270364A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザビ−ム蒸着方法

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JP10931385A JPS61270364A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザビ−ム蒸着方法

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JPS61270364A true JPS61270364A (ja) 1986-11-29

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JP10931385A Pending JPS61270364A (ja) 1985-05-23 1985-05-23 レ−ザビ−ム蒸着方法

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JP (1) JPS61270364A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6424175A (en) * 1987-07-16 1989-01-26 Mitsubishi Electric Corp Manufacture of rotor electrode for distributor
JPH03166360A (ja) * 1989-08-22 1991-07-18 Toyota Motor Corp アモルファス金属膜及びその製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6424175A (en) * 1987-07-16 1989-01-26 Mitsubishi Electric Corp Manufacture of rotor electrode for distributor
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