JPS61267314A - セラミツク可変コンデンサの製造方法及びその製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業の利用分野〕 本発明は、誘電体にセラミックを用いたセラミック可変
コンデンサ（以下セラミックバリコンという）に係り、
特にそのローターの製造方法、及びその製造装置に関す
る。

〔発明の背景〕

従来のセラミックバリコンを第２図ないし第６図に示す
。第２図はセラミックバリコンの側面断面図、第３図は
セラミック誘電体を下方から見た底面断面図、第５図は
ローターの研磨装置の一部断面図、第６図（ａ）　、　
（ｂ）はローターと回転軸との圧入状態を示す説明図で
ある。１は絶縁成形材からなる前側フレームであり、２
は同じく絶縁成形材からなる後側フレームであり、これ
ら前後側フレ−ム１，２とで筺体Ａが形成される。３は
導体からなる略円形のローターであり、このローター３
の一面には、第４図に破線にて示すように略三日月状の
内側ローター電極６と外側ローター電極７とを、一端が
巾広部６Ｂ、　７ａとなり、他端が巾挾部６ｂ、７ｂと
なるように突設されている。寸だ前記ローター３の外周
には、内外側ローター電極６，７と同一平面上に環状絶
縁体３ａが一体成形されている。さらにローター３の中
央には孔５が形成されており、この孔５に金属材等の導
体よりなる回転軸４が圧入・固着されている。８はセラ
ミックからなり前記ローター３と略同−形状をなすセラ
ミック誘電体であり、このセラミック誘電体８の一面に
は、前記内外側ローター電極６゜７と相対向する位置に
設けられ、かつ内外側ローター電極６．７と略同−形状
あって一端が巾広部９Ｂ、１０ａで、他端が巾挾部９ｂ
、１０ｂの三：　　　　日月状の内外側ステーター電極
９，１０が、銀ベーストを印刷・焼成することによって
形成されている。１１はセラミック誘電体８を保持する
ための絶縁材からなる基板、１２はゴムなどからなる環
状の弾性体、１３ａ、１３ｂは、内外側ステーター電極
９，１０と電気的に導通されており、前側フレーム１と
後側フレーム２とによって挾持されたステータ一端子、
１４は後側フレーム２の底面に装着され、その端部が後
側フレーム２の外方に突出するように配置されたアース
端子であり、このアース端子１４の略中央に形成した凹
部１４ａにて前記回転軸４の先端部４ａを回転可能に受
けている。

上述の如き構成のセラミックバリコンの組立方法を次に
説明する。

予め、アース端子１４が一体に装着された後側フレーム
２上に弾性体１２を載置し、この弾性体１２上にステー
タ一端子１３ａ、１３ｂが装着された基板１１を回転で
きないように載置し、この基板１１上にセラミック誘電
体８を、内外側ステーター電極９，１０が、ステータ一
端子１３ａ。

１３ｂと当接するように載置する。この時、セラミック
誘電体８には、回転軸４を挿通する通孔８ａの中心に対
して対称、すなわち相対向させて凹状の係止部１６ａ、
１６ｂを設けており、との係止部１６ａ、１６ｂを、前
側フレーム１の側部に相対向して形成した凸状の係合部
１５ａ、１５ｂに係合して、セラミック誘電体８を前側
フレーム１に対して固定している。次に、ローター３に
圧入−固着された回転軸４をセラミック誘電体８、基板
１１に貫通し、回転軸４の先端部４ａをアース端子１４
の凹部１４ａに当接させる。そして、最後に前側フレー
ム１を回転軸４に貫通させるとともに、前後側フレーム
１．２を嵌合させて、ステータ一端子１３ａ、１３ｂを
挾持させて組立を完了する。

上述の如く組立てられたセラミックバリコンは、弾性体
１２によって基板１１及びセラミック誘電体８がロータ
ー３方向（第３図における上方向）に押圧されており、
内外側ローター電極６，７と内外側ステーター電極９．
１０とが対向配置され回転軸４の回転によって内外側ロ
ーター電極６゜７と内外側ステーター電極９，１０との
対向面積が変化されることになる。この時、ステータ一
端子１３ａとアース端子１４とから、内側ローター電極
６と内側ステーター電極９との間で得られた容量値が導
出され、同様にステータ一端子１３ｂとアース端子１４
とから外側ローター電極７と外側ステーター電極１０と
の間で得られた容量値が導出されることになる。

上述した従来装置のセラミックバリコンにおけるロータ
ー３の内外側ローター電極６，７は、セラミック誘電体
８と密着して接触し、容量値の安定化を図る。そのため
の一手段として、ローター３の前記ローター電極６．７
とセラミック誘電体８りの接触面をラッピング加工によ
り研磨している。第５図において、ローター３のラッピ
ング加工は、円形かつ凹状の研磨皿２０にラッピングマ
シン（研磨装置）の研磨定盤２１面に各ローター電極６
．７が当接するように数十個並べて研磨皿２０に研磨定
盤２１方向に圧力を加えるとともに研磨定盤２１を回転
させてローター電極６，７が光学的平面度をなすように
している。

上述のようにしてローター電極６，７を研磨した後、ロ
ーター３の孔５に回転軸４を圧入して行く。すると、こ
の回転軸４の圧入によりローター３の孔５周辺には第６
図（ａ、）に矢印にて示す力が加わり、ローター３が第
６図（ｂ）に示すように、その端部が下方に向って下が
るように変形してしまう。

このようにローター３が変形することは、ローター３を
セラミック誘電体８に載置したときに、ローター電極ｌ
極６．７とセラミック誘電体８との密着性が低下してし
まうことになり、望ましいことでない。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上述した従来技術の問題点を解消し、
ローターの装造時に、ローターの変形が生じないように
したセラミック可変コンデンサの製造方法、及びその製
造装置を提供するにある。

〔発明の概要〕

上述の目的を達成するため、本発明は、セラミック誘電
体の片面にステーター電極を設け、前記セラミック誘電
体を介してステーター電極に対向するローター電極をロ
ーターに設け、このローターに固定した回転軸を回動す
ることにより、前記ステーター電極と前記ローター電極
との対向面積を変化させて容量値を可変させるセラミッ
ク可変コンデンサにおいて、前記ローターのセラミック
誘電体との接触面を研磨するにあたり、予め前記回転軸
をローターに固定して研磨作動を行うことを第１の特徴
とし、前記ローターに固定した回転軸の突出部分が挿入
可能な受孔を研磨装置の研磨皿に設けたことを第２の特
徴とする。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図、第２図によって説明
する。

第１図は本発明の一実施例を示す側面断面図、第２図は
ローターの研磨装置の一部を示す断面図である。尚、既
述した第３図ないし第６図において説明した部材と同一
あるいは均等の部材には同一符号を付した。

ローター３の中央に設けた孔５には、先端部５ａがセラ
ミック誘電体８の側面と相対向する回転軸４が圧入・固
着されている。そして前記セラミック誘電体８と基板１
１には孔をあけない。まだ前側フレーム１とローター３
の中央の突出部３ａ間にアース端子１４を挾持させ、こ
のアース端子１４の一端部を前側フレーム１から外部へ
延出させている。

従って、セラミック誘電体８は無孔体であって、従来装
置のセラミック誘電体８のように回転軸４を挿通する通
孔８ａの加工が不要となり、薄く、脆いセラミック誘電
体８の加工性が向上し、単体としての強度も向上する。

このようにセラミック誘電体８に回転軸４を挿通しない
ため、回転軸４と接触するアース端子１４は後側フレー
ム２の内底部に配置できないが、上述したように、前側
フレーム１の内底部とローター３の上部の突出部３ａと
で挾持し、この部分でアース端子１４と回転軸４との接
触を図っている。

尚、前記アース端子１４と回転軸４との接触位置は、上
述した実施例のように前側フレーム１と突出部３ａとの
間でなくとも、他部材との作動に影響が無い箇所であれ
ば、回転軸４の周部のどこでも良い。

このため、従来装置と同様にステータ一端子１３ａとア
ース端子１４とから、内側ローター電極６と内側ステー
ター電極９との間で得られた容量値が導出され、またス
テータ一端子１３ｂとアース端子１４とから外側ロータ
ー電極７と外側ステーター電極１０との間で得られた容
量値が導出され、しかも、回転軸４を回転させ内外側ロ
ーター電極６．７と内外側ステーター電極９，１０との
対向面積を変化させる操作も、従来装置とまったく同様
に行える。

そして、上述したローター３のセラミック誘電体８と接
触する内外側ローター電極６．７部分の研磨は第２図に
示すようにして行う。

すなわち、ローター３の前記ローター電極６゜７の研磨
工程に入る前に、ローター３の孔５に回転軸４を予め圧
入しておき、とのローター３と回転軸４とを一体化した
ユニットとして、研磨装置による研磨を行う。まだ研磨
装置は、従来装置と同様に研磨皿２０と研磨定盤２１と
からなるものであυ、ローター３を受ける受部である研
暦皿２０にローター３の突出部３ａよシ突出する回転軸
４を挿入できるように受孔２２を穿設する。

従って、前記ローター３の加工にあたって、ローター３
に固着された回転軸４の外部への突出部分を前記受孔２
２に挿入し、後は既述した従来装置と同様に、数十個の
ローター３をローター電極６．７が研磨定盤２１面に当
接するように置き、研磨皿２０に研磨定盤２１方向に圧
力を加えるとともに研磨定盤２１を回転させて、各ロー
ター電極６，７にラッピング加工が施され、光学的平面
度を得ることができる。

このようにして製造されたローター３と回転軸４との一
体化されたユニットは、そのまま後側フレーム２上に弾
性体１２、ステータ一端子１３ａ。

１３ｂが装着された基板１１、セラミック誘電体１　　
８の順に積層された組立体上に載置でき、この載置した
後に前側フレーム１を回転軸４に貫通させるとともに、
前後側フレーム１；２を嵌合させて、ステータ一端子１
３ａ、１３ｂを挾持することによりセラミックバリコン
の組立が完了する。

従って、ローター３のラッピング加工の後に、従来のよ
うな回転軸４の装着工程がなく、ローグーのラッピング
加工時の仕−ヒげ精度が、そのままセラミック誘電体８
の密着度となり、その密着性は極めて良好なものとなる
。このローター電極６゜７とセラミック誘電体８との密
着性の向上は、容量値の安定につながり、セラミックバ
リコンの特性を向上させることになる。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明は、ローターのセラミック誘電体
との接触面を研磨するにあたり、ローターに回転軸を固
定しておいて研磨してローターの変形を防止し、セラミ
ック誘電体とローターの密着性の向上を図ることにより
、容量特性を向−ヒできるセラミック可変コンデンサの
製造方法、及びその製造装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるセラミック可変コンデンサの一実
施例を示す側面断面図、第２図は本発明の製造装置の一
部断面図、第３図は従来のセラミック可変コンデンサの
一例を示す側面断面部、第４図は従来例のセラミック誘
電体を下方より見た底面断面図、第５図は従来例の製造
装置の一部断面図、第６図（ａ）、第６図（ｂ）は従来
のローターと回転軸との関係を示す説明図である。 ３・・・・・・ローター、４・・・・・・回転軸、６．
７・・・・・・ローター電極（接触面）、８・・・・・
・セラミック誘電体、９．１０・・・・・・ステーター
電極、２０・・・・・・研磨皿（受部）、２１・・・・
・・研鼎定盤、２２・・・・・・受孔。 第１図 第２図 ３　　５　　　！：ｌ　　　’／　　　’／　　　ｂｂ
　　ｊｌ第３図 ム １５ａ　　　　　　　　　１０ａ −一一一一、 □・−。 ６−９ａ　　７／ 第５図 す

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）セラミック誘電体の片面にステーター電極を設け
   、前記セラミック誘電体を介してステーター電極に対向
   するローター電極をローターに設け、このローターに固
   定した回転軸を回動することにより、前記ステーター電
   極と前記ローター電極との対向面積を変化させて容量値
   を可変させるセラミック可変コンデンサの製造方法にお
   いて、前記ローターのセラミック誘電体との接触面を研
   磨するにあたり、予め前記回転軸をローターに固定して
   研磨作動を行うことを特徴とするセラミック可変コンデ
   ンサの製造方法。
2. （２）研磨定盤と研磨皿との間にローター電極を有する
   ローターを配置し、これら研磨定盤と研磨皿との相対的
   な回転により前記ローターのローター電極側端面を研磨
   するセラミック可変コンデンサの製造装置において、前
   記ローターに該ローターを回動操作する回転軸を予め圧
   入固定し、該回転軸の突出部分が挿入可能な受孔を前記
   研磨皿に設けたことを特徴とするセラミック可変コンデ
   ンサの製造装置。