JPS61267029A - 液晶セルの製造方法 - Google Patents
液晶セルの製造方法Info
- Publication number
- JPS61267029A JPS61267029A JP10852385A JP10852385A JPS61267029A JP S61267029 A JPS61267029 A JP S61267029A JP 10852385 A JP10852385 A JP 10852385A JP 10852385 A JP10852385 A JP 10852385A JP S61267029 A JPS61267029 A JP S61267029A
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- film
- roll
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
：産業上の利用分野〕
工程本発明は、ツイストネマティック型液晶セルの
−に配向膜に関するものである。
２）〔従来の技術〕
要と従来の液晶セルにおいて、液晶分子を基
板表面 に載に対し水平方向（ホモジニアス配向）さ
せる方法 ヲ行として、第５図及び第６図の様な方法
が用℃・られ 露出面に部分的に配向剤を均一に塗布
する工程で、次に第５図（ロ）の加熱焼成工程は配向剤
を成る時に行なう熱処理工程であり通常２５０〜０℃で
３０分〜１時間程度の熱処理を行なつる。
工程本発明は、ツイストネマティック型液晶セルの
−に配向膜に関するものである。
２）〔従来の技術〕
要と従来の液晶セルにおいて、液晶分子を基
板表面 に載に対し水平方向（ホモジニアス配向）さ
せる方法 ヲ行として、第５図及び第６図の様な方法
が用℃・られ 露出面に部分的に配向剤を均一に塗布
する工程で、次に第５図（ロ）の加熱焼成工程は配向剤
を成る時に行なう熱処理工程であり通常２５０〜０℃で
３０分〜１時間程度の熱処理を行なつる。
５図（ハ）の配向処理工程は液晶分子を一定方向ＰＩさ
せるためのラビング工程であり、配向膜に微細な溝を設
ける。第６図は従来の配向膜０他の工程図である。第６
図（イ）はスピンナーり配向膜を塗布する工程であり、
第６図（口１は（塗布された配向剤を成膜するための熱
処理であり第６図（ハ）は成膜した基板上にスピンナよ
りレジストを塗布し、第６図に）でそのレジを熱処理に
て成膜し、第６図（ホ）で最終的に必する配向膜の形状
になる様なマスクを基板上せ露光を行ない、第６図（へ
）でレジストの現像ない、第６図（ト）でレジストに覆
われていないした配向膜の部分を除去し第６図（ホ）で
基板上工程である。
せるためのラビング工程であり、配向膜に微細な溝を設
ける。第６図は従来の配向膜０他の工程図である。第６
図（イ）はスピンナーり配向膜を塗布する工程であり、
第６図（口１は（塗布された配向剤を成膜するための熱
処理であり第６図（ハ）は成膜した基板上にスピンナよ
りレジストを塗布し、第６図に）でそのレジを熱処理に
て成膜し、第６図（ホ）で最終的に必する配向膜の形状
になる様なマスクを基板上せ露光を行ない、第６図（へ
）でレジストの現像ない、第６図（ト）でレジストに覆
われていないした配向膜の部分を除去し第６図（ホ）で
基板上工程である。
しかしながら、従来の方法では、いずれも成膜する時に
熱処理を施す工程が必要であり、基板に高温（２５０〜
３００℃）を３０〜６０分程度加えると基板自身に熱歪
を発生させてしまう。又冷却時に基板にクラックが発生
したり破損してしまう場合があり、液晶セル製造上歩留
り低下の一因にもなっていた。又熱処理を高温で３０〜
６０分行なうという事で熱処理時間も長く基板が大型サ
イズになると特に装置上も大型熱処理炉が必要となり熱
効率も比例して悪（なり、設備費及びエネルギー費が高
価になり液晶セル製作コストにはねかえってしまってい
た。
熱処理を施す工程が必要であり、基板に高温（２５０〜
３００℃）を３０〜６０分程度加えると基板自身に熱歪
を発生させてしまう。又冷却時に基板にクラックが発生
したり破損してしまう場合があり、液晶セル製造上歩留
り低下の一因にもなっていた。又熱処理を高温で３０〜
６０分行なうという事で熱処理時間も長く基板が大型サ
イズになると特に装置上も大型熱処理炉が必要となり熱
効率も比例して悪（なり、設備費及びエネルギー費が高
価になり液晶セル製作コストにはねかえってしまってい
た。
本発明の目的は上記欠点を解消し、低温で成膜可能なら
しめ、かつ量産性に富んだ大量連続処理が可能な液晶セ
ルの製造方法を提供するものである。
しめ、かつ量産性に富んだ大量連続処理が可能な液晶セ
ルの製造方法を提供するものである。
上記の目的を達成させるために、本発明は透明電極を備
えた２枚の基板間に液晶物質を封入した液晶セルの製造
法に於いて、前記透明電極を備えた基板の表面に紫外線
硬化型樹脂を塗布する工程と、前記塗布した樹脂を紫外
線照射によって成膜する工程と、前記成膜をラビング処
理する配向処理工程とを有する。
えた２枚の基板間に液晶物質を封入した液晶セルの製造
法に於いて、前記透明電極を備えた基板の表面に紫外線
硬化型樹脂を塗布する工程と、前記塗布した樹脂を紫外
線照射によって成膜する工程と、前記成膜をラビング処
理する配向処理工程とを有する。
以下本発明の実施例を図面に基づいて詳述する。
第１図は本発明の第１実施例を示す工程図である。
第１図（イ）のＵＶ剤印刷塗布工程においては、本発明
よりなる配向膜の部材として、変性ポリエステルを主成
分とするＵＶ剤（例えばソニーケミカル■裂の商品名１
７Ａ１８）を用意する。
よりなる配向膜の部材として、変性ポリエステルを主成
分とするＵＶ剤（例えばソニーケミカル■裂の商品名１
７Ａ１８）を用意する。
塗布方法については、第３図を用いて説明をする。まず
用意したＵＶ剤をドクターロ゛−ルアの上方より滴下さ
せ、コーティングロール６を介して版胴５の外周に取付
けた合成樹脂製の凸版乙の表面に薄く、かつ均一にＵＶ
剤４を塗布する。そして版胴５の下面に基板１を凸版乙
に接触する位置に配置し載物台２を版胴５の回転方向に
沿ってその周速に同期させて移動させる事で基板１０表
面にＵＶ剤４を転写印刷する。以上の様な方法でＵＶ印
刷塗布工程を行なう。次に第１図（ロ）の紫外線照射工
程においては、基板１表面上に塗布されたＵＶ剤４に主
波長として３６５ ｎｍを有する紫外線照射を行なう。
用意したＵＶ剤をドクターロ゛−ルアの上方より滴下さ
せ、コーティングロール６を介して版胴５の外周に取付
けた合成樹脂製の凸版乙の表面に薄く、かつ均一にＵＶ
剤４を塗布する。そして版胴５の下面に基板１を凸版乙
に接触する位置に配置し載物台２を版胴５の回転方向に
沿ってその周速に同期させて移動させる事で基板１０表
面にＵＶ剤４を転写印刷する。以上の様な方法でＵＶ印
刷塗布工程を行なう。次に第１図（ロ）の紫外線照射工
程においては、基板１表面上に塗布されたＵＶ剤４に主
波長として３６５ ｎｍを有する紫外線照射を行なう。
紫外線照射装置としては基板１をベルトコンベアーで連
続的に運搬し、紫外線照射部においては２００印Ｗ／ｃ
ｒａ照度で５秒間照射する事により、ラジカル重合し、
ＵＶ剤塗膜を硬化形成する。照射時も基板１をベルトコ
ンベアーで連続的に処理できるため工程時間も３０〜４
５秒程度が可能である。硬化成膜した後は第１図（ハ）
の配向処理工程を行なう。ロールの周囲に綿布を取り付
け、ラビング用ロールを１１００ｒｐ〜１１０００ｒｐ
の回転数で回転し成膜した基板１をロールに取り付けた
綿布に接触しながら一定方向に通過させる事により成膜
した表面上に微細な溝を形成させる。以上の工程により
配向膜を形成する。
続的に運搬し、紫外線照射部においては２００印Ｗ／ｃ
ｒａ照度で５秒間照射する事により、ラジカル重合し、
ＵＶ剤塗膜を硬化形成する。照射時も基板１をベルトコ
ンベアーで連続的に処理できるため工程時間も３０〜４
５秒程度が可能である。硬化成膜した後は第１図（ハ）
の配向処理工程を行なう。ロールの周囲に綿布を取り付
け、ラビング用ロールを１１００ｒｐ〜１１０００ｒｐ
の回転数で回転し成膜した基板１をロールに取り付けた
綿布に接触しながら一定方向に通過させる事により成膜
した表面上に微細な溝を形成させる。以上の工程により
配向膜を形成する。
実施例２
第２図は本発明による他の実施例を示す工程図である。
第２図（イ）のＵＶ剤スピンナー塗布工程においては、
実施例１で用いたＵＶ剤を用意する。
実施例１で用いたＵＶ剤を用意する。
塗布方法については第４図を用いて説明する。
まず用意したＵＶ剤をディスペンサー容器に入れる。基
板１をスピンナーヘッド９の上に載せ、真空チャックす
る。以上の操作が終了したら、ディスペンサーによりＵ
Ｖ剤４をノズル８先端より基板１表面上に滴下し、５０
０ｒｐｍ、で５秒、３０００ｒｐｍで２０秒間回転させ
る。以上の様にしてＵＶ剤スピンナー塗布工程を行ない
次に第２図（ロ）の紫外線部分照射工程を行なう。基板
１の上に必要とする形状部分は光が通過する様に製作し
たマスクを置き上から紫外線を５００ｍｍＷ／ｃｆ照度
で２秒間照射する。露光部分は硬化するが、未露光部分
は未硬化の状態となる。次忙第２図（ハ）の現像工程を
行なうが上述の様な状態をカセットに入れ有機溶剤（イ
ソ・プロピルアルコール等）に浸し、未露光部の未硬化
ＵＶ剤を除去し、必要な部分の形状が得られる。この基
板１をフロン乾燥をする。そして第２図に）の配向処理
工程につい 第ては実施例１の第１図（ハ）に示す配
向処理工程と同様に行なう。
板１をスピンナーヘッド９の上に載せ、真空チャックす
る。以上の操作が終了したら、ディスペンサーによりＵ
Ｖ剤４をノズル８先端より基板１表面上に滴下し、５０
０ｒｐｍ、で５秒、３０００ｒｐｍで２０秒間回転させ
る。以上の様にしてＵＶ剤スピンナー塗布工程を行ない
次に第２図（ロ）の紫外線部分照射工程を行なう。基板
１の上に必要とする形状部分は光が通過する様に製作し
たマスクを置き上から紫外線を５００ｍｍＷ／ｃｆ照度
で２秒間照射する。露光部分は硬化するが、未露光部分
は未硬化の状態となる。次忙第２図（ハ）の現像工程を
行なうが上述の様な状態をカセットに入れ有機溶剤（イ
ソ・プロピルアルコール等）に浸し、未露光部の未硬化
ＵＶ剤を除去し、必要な部分の形状が得られる。この基
板１をフロン乾燥をする。そして第２図に）の配向処理
工程につい 第ては実施例１の第１図（ハ）に示す配
向処理工程と同様に行なう。
以上の説明で明らかな如く、配向膜の部材としてＵＶ剤
を用い紫外線照射により硬化成膜する事によりきわめて
短時間で能率良く、均質な膜が得られ、装置上も消費電
力も少な（、安全で、コンパクトな形状にする事が出来
、熱が基板にかからないと言う利点から基板に熱歪が加
わらなく、クランクの発生、ワレの発生がないため歩留
りも向上する。又配向特性、信頼性についても従来と遜
色のない特性が得られた。
を用い紫外線照射により硬化成膜する事によりきわめて
短時間で能率良く、均質な膜が得られ、装置上も消費電
力も少な（、安全で、コンパクトな形状にする事が出来
、熱が基板にかからないと言う利点から基板に熱歪が加
わらなく、クランクの発生、ワレの発生がないため歩留
りも向上する。又配向特性、信頼性についても従来と遜
色のない特性が得られた。
第１図は本発明の第１実施例を示す工程図、第２図は本
発明の第２実施例を示す工程図、第３図は本発明の第１
実施例のＵＶ剤印刷塗布工程における印刷機の説明図、
第４図は本発明の第２実施例のＵＶ剤スピンナー塗布工
程のスピンナーヘッド部の説明図、第５図は従来の配向
膜成膜工程図、６図は従来の配向膜成膜工程図。 １・・・・・・基板、２・・・・・・載物台、６・・・
・・・凸版、４・・・・・・ＵＶ剤、５・・・・・・版
胴、６・・・・・・コーティングロール、 ７・・・・・・ドクターロール、 ９・・・・・・スピンナーヘッド。
発明の第２実施例を示す工程図、第３図は本発明の第１
実施例のＵＶ剤印刷塗布工程における印刷機の説明図、
第４図は本発明の第２実施例のＵＶ剤スピンナー塗布工
程のスピンナーヘッド部の説明図、第５図は従来の配向
膜成膜工程図、６図は従来の配向膜成膜工程図。 １・・・・・・基板、２・・・・・・載物台、６・・・
・・・凸版、４・・・・・・ＵＶ剤、５・・・・・・版
胴、６・・・・・・コーティングロール、 ７・・・・・・ドクターロール、 ９・・・・・・スピンナーヘッド。
Claims (1)
- 透明電極を備えた２枚の基板間に液晶物質を封入した液
晶セルの製造法に於いて、前記透明電極を備えた基板の
表面に紫外線硬化型樹脂を塗布する工程と、前記塗布し
た樹脂を紫外線照射によって成膜する工程と、前記成膜
をラビング処理する配向処理工程とを有する液晶セルの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10852385A JPS61267029A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 液晶セルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10852385A JPS61267029A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 液晶セルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267029A true JPS61267029A (ja) | 1986-11-26 |
Family
ID=14486959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10852385A Pending JPS61267029A (ja) | 1985-05-21 | 1985-05-21 | 液晶セルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61267029A (ja) |
-
1985
- 1985-05-21 JP JP10852385A patent/JPS61267029A/ja active Pending
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