JPS6126552B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6126552B2 JPS6126552B2 JP12227777A JP12227777A JPS6126552B2 JP S6126552 B2 JPS6126552 B2 JP S6126552B2 JP 12227777 A JP12227777 A JP 12227777A JP 12227777 A JP12227777 A JP 12227777A JP S6126552 B2 JPS6126552 B2 JP S6126552B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- palladium
- chlorohydrogenated
- catalyst
- disproportionation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はクロロ水素化シランの不均化に関する
ものである。クロロ水素化シランが触媒の存在下
に不均化することは公知であり（例えば特公昭42
−22926参照）、不均化反応は次式で示される。
ものである。クロロ水素化シランが触媒の存在下
に不均化することは公知であり（例えば特公昭42
−22926参照）、不均化反応は次式で示される。
2CloR3-oSiH→Clo+1R3-oSi＋Clo-1R3-oSiH2
（式中、Ｒ、ｎは前記に同じ）
この不均化反応の触媒としては、ルイス酸やア
ミン類が知られている。しかし、これらの触媒を
使用した場合には、反応により生成した高沸点成
分と触媒との分離が困難である。
ミン類が知られている。しかし、これらの触媒を
使用した場合には、反応により生成した高沸点成
分と触媒との分離が困難である。
本発明者らは零価のパラジウムがクロロ水素化
シランに不均化の触媒として使用することを見出
し、本発明を完成した。
シランに不均化の触媒として使用することを見出
し、本発明を完成した。
本発明を詳細に説明するに、本発明は公知のク
ロロ水素化シランの不均化反応において、触媒と
して零価のパラジウムを使用する方法に関するも
のである。零価のパラジウムとしては金属パラジ
ウム、担体付パラジウム等が用いられる。好まし
いのは、パラジウム−カーボンやパラジウム−ア
ルミナ等の担体付パラジウムであり、これらの担
体付触媒を用いると反応生成物と触媒との分離が
極めて容易である。パラジウム触媒はそのまま使
用してもよいが、水素で処理して活性を向上させ
て使用するのが好ましい。水素による処理は、パ
ラジウム触媒に水素ガスを接触させるだけでよ
い。好ましくは溶媒の存在下に水素処理を行な
う。水素処理は通常、常圧〜200Kg/cm2、好ましく
は常圧〜30Kg/cm2の水素圧力下、０〜150℃、好ま
しくは室温〜50℃で行なわれる。なお、水素処理
は不均化反応に先立つて行なつてもよく、また、
不近均化反応と同時に行なつてもよい。すなわち
所望ならば不均化反応を水素の共存下に行なうこ
とができる。
ロロ水素化シランの不均化反応において、触媒と
して零価のパラジウムを使用する方法に関するも
のである。零価のパラジウムとしては金属パラジ
ウム、担体付パラジウム等が用いられる。好まし
いのは、パラジウム−カーボンやパラジウム−ア
ルミナ等の担体付パラジウムであり、これらの担
体付触媒を用いると反応生成物と触媒との分離が
極めて容易である。パラジウム触媒はそのまま使
用してもよいが、水素で処理して活性を向上させ
て使用するのが好ましい。水素による処理は、パ
ラジウム触媒に水素ガスを接触させるだけでよ
い。好ましくは溶媒の存在下に水素処理を行な
う。水素処理は通常、常圧〜200Kg/cm2、好ましく
は常圧〜30Kg/cm2の水素圧力下、０〜150℃、好ま
しくは室温〜50℃で行なわれる。なお、水素処理
は不均化反応に先立つて行なつてもよく、また、
不近均化反応と同時に行なつてもよい。すなわち
所望ならば不均化反応を水素の共存下に行なうこ
とができる。
パラジウム触媒の使用量は、通常クロロ水素化
シラン１モルに対し10-4〜１モル、好ましくは
10-3〜10-2モルである。
シラン１モルに対し10-4〜１モル、好ましくは
10-3〜10-2モルである。
本発明方法の対象となるクロロ水素化シランは
一般式ClnR3-oSiH（式中、Ｒ、ｎは前記に同
じ）で表わされ、その代表的なものはジメチルク
ロロシラン、ジエチルクロロシラン、メルシクロ
ロシラン、エチルジクロロシラン、フエニルジク
ロロシラン、トリクロロシラン等である。
一般式ClnR3-oSiH（式中、Ｒ、ｎは前記に同
じ）で表わされ、その代表的なものはジメチルク
ロロシラン、ジエチルクロロシラン、メルシクロ
ロシラン、エチルジクロロシラン、フエニルジク
ロロシラン、トリクロロシラン等である。
本発明によるクロロ水素化シランの不均化は、
パラジウム触媒を使用する以外は常法により行な
われる。反応温度は通常０〜150℃、好ましくは
40〜80℃である。好ましい反応方式の一例はパラ
ジウム−カーボン、パラジウム−アルミナ等の担
体付パラジウム触媒を溶媒に懸出させ、これにク
ロロ水素化シランを添加して、反応により生成す
る軽沸点成分を反応系から溜出させながら反応を
行なう方法である。この方法において反応液の一
部を連続的に抜出し、同時に反応原料を連続的に
供給すると反応を連続的に行なうことができる。
反応溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、デカリン、石油エーテル等の炭化
水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類など、反応条件下で不活性な任意の
溶媒を使用することができる。溶媒の使用は任意
であるが、使用する場合にはその使用量はクロロ
水素化シラン１ｇにつき通常１以下、好ましく
は10ml以下である。
パラジウム触媒を使用する以外は常法により行な
われる。反応温度は通常０〜150℃、好ましくは
40〜80℃である。好ましい反応方式の一例はパラ
ジウム−カーボン、パラジウム−アルミナ等の担
体付パラジウム触媒を溶媒に懸出させ、これにク
ロロ水素化シランを添加して、反応により生成す
る軽沸点成分を反応系から溜出させながら反応を
行なう方法である。この方法において反応液の一
部を連続的に抜出し、同時に反応原料を連続的に
供給すると反応を連続的に行なうことができる。
反応溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ヘキサン、デカリン、石油エーテル等の炭化
水素類、エチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類など、反応条件下で不活性な任意の
溶媒を使用することができる。溶媒の使用は任意
であるが、使用する場合にはその使用量はクロロ
水素化シラン１ｇにつき通常１以下、好ましく
は10ml以下である。
本発明によればクロロ水素化シランの不均化を
選択性良く行なうことができ、また、反応生成物
から触媒の分離も容易である。
選択性良く行なうことができ、また、反応生成物
から触媒の分離も容易である。
以下に実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。
る。
実施例 １
還流冷却器、撹拌機及びガス導入管を備えた反
応器にパラキシレン10mlを入れ、これに５％
Pd／c100mgを懸出させ、撹拌下に水素を室温で
２時間導入した。水素の導入速度は１秒間に気泡
が２〜３個生成する速度とした。次いでこれにジ
メチルクロロシラン（CH3）2ClSiH20.1ｍmolを添
加し、撹拌下80℃に３時間30分保持した。冷却器
には約０℃の水を循環させて反応器から発生する
蒸気を凝縮、環流させた。冷却器から流出するガ
スを赤外吸収スペクトル及びガスマイグラフイー
で分析した結果、ジメチルシラン（CH3）2SiH2で
あることが判明した。
応器にパラキシレン10mlを入れ、これに５％
Pd／c100mgを懸出させ、撹拌下に水素を室温で
２時間導入した。水素の導入速度は１秒間に気泡
が２〜３個生成する速度とした。次いでこれにジ
メチルクロロシラン（CH3）2ClSiH20.1ｍmolを添
加し、撹拌下80℃に３時間30分保持した。冷却器
には約０℃の水を循環させて反応器から発生する
蒸気を凝縮、環流させた。冷却器から流出するガ
スを赤外吸収スペクトル及びガスマイグラフイー
で分析した結果、ジメチルシラン（CH3）2SiH2で
あることが判明した。
反応終了後、反応液中に懸出しているPd／ｃ
を沈降させて分離し、反応液をガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、ジメチルジクロロシラン
（CH3）2Cl2が3.7ｍmol生成していることが判明し
た。
を沈降させて分離し、反応液をガスクロマトグラ
フイーで分析した結果、ジメチルジクロロシラン
（CH3）2Cl2が3.7ｍmol生成していることが判明し
た。
実施例 ２
実施例１において、ジメチルクロロシランの代
りにメチルジクロロシランCH3Cl2SiHを用い、反
応時間を４時間30分とした以外は、実施例１と全
く同様にして反応を行なつた。冷却器から流出す
るガスはメチルクロロシランCH3ClSiH2であり、
反応液中には3.9ｍmolのメチルトリクロロシラン
CH3Cl3Siが生成していた。
りにメチルジクロロシランCH3Cl2SiHを用い、反
応時間を４時間30分とした以外は、実施例１と全
く同様にして反応を行なつた。冷却器から流出す
るガスはメチルクロロシランCH3ClSiH2であり、
反応液中には3.9ｍmolのメチルトリクロロシラン
CH3Cl3Siが生成していた。
実施例 ３
実施例１においてジメチルクロロシランの代り
にトリクロロシランCl3SiHl3ｍmolを用い、反応
時間を５時間とした以外は、実施例１と全く同様
にして反応を行なつた。反応液中には1.6ｍmolの
テトラクロロシランが生成していた。
にトリクロロシランCl3SiHl3ｍmolを用い、反応
時間を５時間とした以外は、実施例１と全く同様
にして反応を行なつた。反応液中には1.6ｍmolの
テトラクロロシランが生成していた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ClnR3-oSiH （式中、Ｒは低級アルキル基又はアリール基を示
し、Ｒが２個ある場合には相互に異つていてもよ
い。ｎは１、２又は３を示す。） で示されるクロロ水素化シランを金属パラジウム
または担体付パラジウム触媒の存在下に不均化す
ることを特徴とするクロロ水素化シラン類の不均
化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12227777A JPS5459230A (en) | 1977-10-12 | 1977-10-12 | Disproportionation of chlorohydrogensilanes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12227777A JPS5459230A (en) | 1977-10-12 | 1977-10-12 | Disproportionation of chlorohydrogensilanes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5459230A JPS5459230A (en) | 1979-05-12 |
| JPS6126552B2 true JPS6126552B2 (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=14831972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12227777A Granted JPS5459230A (en) | 1977-10-12 | 1977-10-12 | Disproportionation of chlorohydrogensilanes |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5459230A (ja) |
-
1977
- 1977-10-12 JP JP12227777A patent/JPS5459230A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5459230A (en) | 1979-05-12 |
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