JPS61262782A - 表示装置及びその作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、表示装置及びその製法に係）、特に特定膜上
に高精細な画素メタンの表示素子を形成した表示装置及
びその作製方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、平面表示装置は、薄膜ｍＩＪ表示装置を例にとる
と、文献〔小沢口、大協、仕出及び村瀬（１ｉ、Ｋｏｇ
ａｗａｇｕｃｈｉ　、　Ｊ、Ｏｈｗａｋｉ　、　Ｂ、Ｔ
ｓｕｊｉｙａｍａ。

ＬＭｕｒａｓｅ　）　　プロシーディンゲス　オブ　ザ
Ｂ　Ｘ　Ｄ　（ＰｒｏｃｅｓｃＬｉｎｇｇ　ｏｆ　ｔｈ
ｅ　Ｂより）第２３／３巻、第１８１〜１８６頁（１９
８２）］に述べられているように、第２図に示す方法に
よシ作製されている。すなわち第２図は従来の平面表示
装置の作製方法を説明した工程図である。

第２図において、符号１は基板、２は透明導電膜パタン
、３は３８１発光膜、４は絶縁膜モして５は金属膜パタ
ンを意味する。まず第２図（ａ）に示すように１ガラス
基板１上に工Ｔｏなどの透明導電膜パタン２を形成する
。次に、第２図（１））に示すように、Ｂ′Ｌ発光膜５
、絶縁膜４を続けて形成する。次に、第２図（Ｑ）に示
すように、金属膜パタン５を形成し、平面表示装置の作
製を完了する。透明導電膜パタン２及び金属膜バタ　。

ン５は、通常、蒸着マスクを用いる方法、又は、フォト
リソグラフィを用いて形成される。これらの電極パタン
を高精細に形成するためには、蒸着マスクを用いる場合
は、蒸着マスクを基板１又は絶縁膜４に密着させなけれ
ばならない。

また、フォトリングラフィを用いる場合は、解偉度の高
いフォトレジストパタンを得るために、基板１が高い平
面度を有していることが要求される。したがって、高精
細な画素パタンを有する大面積平面表示装置を実現する
ためには、いずれの電極パタン形成法を用いる場合でも
、基板１の材料は、平面度を高くできる剛体透明材料で
なければならない。以上では、薄膜Ｉｌｌ′Ｌ表示装置
の場合を例にとシ説明したが、他の平面表示装置の作製
においても、電極パタンを高精細に形成するには、全く
同様のことが基板１に対して要求される。このような要
求を満足できる材料は、現実的には各種ガラス材料しか
なく、従来、平面表示装置は、各種ガラス材料を基板に
用いて作製されてきた。

〔発明が解決しようとする問題点３ 以上で説明した、従来の作製法による平面表示装置では
、基板１に各種ガラス材料を用いることに起因して、機
械的強度が劣る、重量が大である、更には価格が高くな
る、などの欠点があった。このような欠点のため、平面
表示装置の用途が限定されるという問題があった。

本発明の目的は、各種ガラス基板を用いることに起因す
る従来の平面表示装置の欠点を解決するため、改良した
表示装置及びそれを製作する方法を提供することにある
。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明を概説すれば、本発明の第１の発明は表示装置に
関する発明であって、フレキ７ビリテイを有する膜上に
、表示素子が形成されていることを特徴とする。

そして、本発明の第２の発明は表示装置の作製方法に関
する発明であって、基板上に第１の膜を形成する工程、
該第１の膜上に表示素子を形成する工程、該表示素子上
に７レキクビリテイを有する第２の膜を形成する工程、
及び該基板から該表示素子を含む部分を分離する工程の
各工程を包含することを特徴とする。

本発明の作製方法では、剛体基板上に表示素子を形成し
た後、フレキシビリティを有する膜を付着し、最後に剛
体基板から表示素子を含む部分を分離することを最も主
要な特徴とする。

従来の技術とは、高精細なｔｉパタン加工は剛体基板上
で行い、最終的にはフレキシビリティを有する膜上に表
示素子部分を移す点が異なる。

以下、本発明を図面に基づいて具体的に説明する。第１
図は、本発明の１実施の態様を示す工程図でちる。第１
＠において符号１〜５は第２図と同義であ夛、６は第１
の膜モして７は第２の膜を意味する。

まず、基板１上に第１の膜６を形成し、第１図（ａ）に
示す構造を得る。基板１は平面の高い剛体であれば良く
、必ずしも透明である必要はない。したがって、基板１
の材料として、各種ガラスのほか、シリコンやステンレ
スも使用することができる。第１の膜は、基板との密着
性が比較的良くない材料、又は、溶液を用いて選択的に
溶解除去できる材料を選択する。具体的には、前者の場
合、フッ化ビニリデン含有高分子材料等が適し、後者の
場合、モリブデン等が適している。次に、第１の膜６上
に工ＴＯ等からなる透明電極パタン２を、蒸着マスク法
又はフォトリングラフィを用いて形成し、第１図（１）
）に示す構造を得る。次に、ＥＬ発光膜３及び絶縁膜４
を続けて形成し、第１図（Ｃ）の構造を得る。

次に、ムｔなどの金属膜パタン５を、蒸着マスク法又は
フォトリソグラフィを用いて形成し、第１図（ｄ）に示
す構造を得る。以上の工程によシ表示素子が完成する。

透明導電膜パタン２の形、成から金属膜パタン５の形成
に至る加工々程は、全て平面度が高く、剛性を有する基
板１上で行われるため、精細度の高い加工が可能である
。

次に、フレキシビリティを有する樹脂などからなる第２
のｇＸ７を形成し、第１図（ｅ）に示す構造を得る。第
２の膜７の材料として、表示素子部分との密着性が優れ
た材料を用いることが望ましく、例えば、ポリイミド樹
脂やエポキシ樹脂等が適している。次に、基板１と表示
素子を含む部分を分離する。第１の膜６として、基板１
との密着性が比較的良くないフッ化ビニリデン含有高分
子物質等を用いた場合は、第１図（ｆ）に示すように、
機械的な力を加えることによル基板１と表示素子を含む
部分を分離することができる。また、第１の膜として選
択的溶解除去が可能な材料、例えばモリブデンを用いた
場合、過酸化水、素水に基板１及び表示素子を含む部分
が一体となったものを浸漬するととくよジモリブデンの
みを選択的（溶解除去し、基板１と表示素子を含む部分
を分離することができる。以上の工程によル、７レキシ
ビリテイを有する第２の膜７上（高精細な画素メタンを
有する表示素子を配置した平面表示装置を実現すること
ができる。なお、上記工程において、基板１は全く消耗
しないから、繰返し、何度も使用するととができる。ま
た、以上では、表示素子としてＥＬ表示素子を用いる場
合について説明したが、本発明はその他、様々な表示素
子を用いる場合でも適用可能である。更にまた曲面に密
着した表示装置も実現することができる。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例によシ更に具体的に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されない。

実施例１ 第１図に示した工程図に従って本発明の１例である平面
表示装置を作製した。

まず、石英ガラス基板上に、第１の膜として、ポリフッ
化ビニリデンの膜を形成する。次に該第１の膜上に工Ｔ
ｏからなる透明電極を蒸着マスク法で形成させる。次に
１１発光膜としてマンガンをドープした硫化亜鉛を用い
絶縁膜として５酸化タンタルの膜を形成する。次にムｔ
の金属バタンを蒸着マスク法で形成させて表示素子を得
る。次に第２の膜としてポリイミド樹脂の膜を形成させ
る。最後に機械的な力を加えて基板から表示素子を含む
部分を分離して本発明の表示装置を得た。

実施例２ 実施例１において、第１の膜としてモリブデンを用い、
基板との分離には、全体を過酸化水素水に浸漬して行っ
た以外は実施例１と同じ材料と操作を用いて表示装置を
得た。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、７レキシビリテ
イを有する膜上に高精細な画素バタンからなる表示素子
を形成できるため、機械的強度に優れ、かつ軽量、廉価
な平面表示装置を実現できるという利点がちる。また、
平面のみならず、曲面に密着した表示装置を実現できる
利点もある。本発明は、低価格性はもとよシ、強じん性
、軽量性が強く要求される各種通信機器端末用表示装置
や、航空機等の乗物内の表示装置の作製に適用すれば、
上記利点を有効に活かせる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の１実施の態様における平面表示装置の
作製方法を説明した工程図、第２図は従来の平面表示装
置の作製方法を説明した工程図である。 １：基板、２：透明導電膜バタン、３：１１発光膜、４
：絶縁膜、５：金属膜バタン、６：第１の膜、７：第２
の膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、フレキシビリテイを有する膜上に、表示素子が形成
   されていることを特徴とする表示装置。 ２、基板上に第１の膜を形成する工程、該第１の膜上に
   表示素子を形成する工程、該表示素子上にフレキシビリ
   テイを有する第２の膜を形成する工程、及び該基板から
   該表示素子を含む部分を分離する工程の各工程を包含す
   ることを特徴とする表示装置の作製方法。 ３、該基板から該表示素子を含む部分を分離する工程が
   、該第１の膜を除去してフレキシブルな表示装置を得る
   工程である特許請求の範囲第２項記載の表示装置の作製
   方法。