JPS61253306A - チタニウム粒子の生成法 - Google Patents
チタニウム粒子の生成法Info
- Publication number
- JPS61253306A JPS61253306A JP61054557A JP5455786A JPS61253306A JP S61253306 A JPS61253306 A JP S61253306A JP 61054557 A JP61054557 A JP 61054557A JP 5455786 A JP5455786 A JP 5455786A JP S61253306 A JPS61253306 A JP S61253306A
- Authority
- JP
- Japan
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- titanium
- molten
- crucible
- nozzle
- particles
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
- B22F2009/0848—Melting process before atomisation
- B22F2009/0856—Skull melting
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ジェットエンジン成分のような種々のチタニウム粉末冶
金施工に、球状チタニウム粒子を生成しその後完全な密
度に熱成型されることが望まれている。成型は一般に、
成型されるチタニウム粒子が密閉容器におかれ、高温に
熱せられるオートクレーブの使用により達成されそして
完全な密度に達するよう充分に高流体圧で成型される。
金施工に、球状チタニウム粒子を生成しその後完全な密
度に熱成型されることが望まれている。成型は一般に、
成型されるチタニウム粒子が密閉容器におかれ、高温に
熱せられるオートクレーブの使用により達成されそして
完全な密度に達するよう充分に高流体圧で成型される。
これらの施工に対しチタニウム粒子が容器内で適当な充
填を保証するよう球状であることが望まれる。それは完
全な密度のため引続いての熱成型に必須である。この方
法で熱成型されるとき、非球状粉末はその充填密度のと
ぼしいため成型を通じて空げきを生じ、既知の方法によ
る完全な密度への達成を妨げる。
填を保証するよう球状であることが望まれる。それは完
全な密度のため引続いての熱成型に必須である。この方
法で熱成型されるとき、非球状粉末はその充填密度のと
ぼしいため成型を通じて空げきを生じ、既知の方法によ
る完全な密度への達成を妨げる。
種々の合金の粉末冶金施工に対し、底にノズルを持って
いるるつぼ内に合金の熔融塊を右き、ノズルを通して熔
融合金が自由落下流を作るよう通過させることにより球
状粒子を生成さすことが知られている。自由落下流は球
状粒子に熔融合金を微粒化するよう不活性ガスのジェッ
トにぶつけられる、球状粒子は冷却され、粉末冶金施工
における使用のため集められる。チタニウムの高い反応
性のため、一般的な微粒化技術は使用に適していない。
いるるつぼ内に合金の熔融塊を右き、ノズルを通して熔
融合金が自由落下流を作るよう通過させることにより球
状粒子を生成さすことが知られている。自由落下流は球
状粒子に熔融合金を微粒化するよう不活性ガスのジェッ
トにぶつけられる、球状粒子は冷却され、粉末冶金施工
における使用のため集められる。チタニウムの高い反応
性のため、一般的な微粒化技術は使用に適していない。
特に熔融状態にあるチタニウムはるつぼの内面とそれら
と連結したノズルと反応しチタニウムを汚染するそれで
えられた微粒子は最終生成物施工に対し充分な質をもた
ない。微粒化のため熔融物質を含むことに一般に使用さ
れているるつぼと、微粒化のため自由落下流熔融流を作
るためのノズルは耐熱性セラミック物質で内張されてい
る、そしてこれら物質の全ては充分にチタニウムと反応
し、望ましくない不純物水準を生じる。
と連結したノズルと反応しチタニウムを汚染するそれで
えられた微粒子は最終生成物施工に対し充分な質をもた
ない。微粒化のため熔融物質を含むことに一般に使用さ
れているるつぼと、微粒化のため自由落下流熔融流を作
るためのノズルは耐熱性セラミック物質で内張されてい
る、そしてこれら物質の全ては充分にチタニウムと反応
し、望ましくない不純物水準を生じる。
従って、本発明の主たる目的は、全微粒化工程の間熔融
チタニウムが汚染から保護され、球状粒子を生成するよ
う熔融チタニウムを微粒化するガスに対する方法を与え
ることである。
チタニウムが汚染から保護され、球状粒子を生成するよ
う熔融チタニウムを微粒化するガスに対する方法を与え
ることである。
本発明の更に特殊な目的は微粒化に先だち熔融チタニウ
ムが入れられているるつぼ内面と熔融チタニウムが接触
しないよう保持することにより微粒化の間汚染から熔融
チタニウムを保護する方法である。
ムが入れられているるつぼ内面と熔融チタニウムが接触
しないよう保持することにより微粒化の間汚染から熔融
チタニウムを保護する方法である。
これらと発明の他の目的は、その更に完全な理解と同様
、以下の記述、実施例、図面からえられるであろう。
、以下の記述、実施例、図面からえられるであろう。
第１図は発明の方法での使用に適する装置の実施例を示
している断面図である。
している断面図である。
第２図は第１図の装置の部分の拡大された詳細な図であ
る。
る。
概括的に、方法は非酸化性雰囲気をもつ水冷銅るつぼに
おいてチタニウムの熔融塊を生成することよりなってい
る。チタニウムの熔融塊はるつぼ内チタニウムの熔融塊
を作るため固体チタニウムのアーク熔融により生成され
、好ましくは非消耗性電極の使用により生成される。銅
るつぼは水冷され、るつぼ内部に固化したチタニウムの
層又は骨格を作る。この方法で、チタニウムの熔融塊は
チタニウム物質のこの骨格と接触しているそしてるつぼ
の内面と接触していない。るつぼから熔融チタニウムの
自由に落下している流れが熔融チタニウムをるつぼの底
にあるノズルを通じてとおすことにより作られている。
おいてチタニウムの熔融塊を生成することよりなってい
る。チタニウムの熔融塊はるつぼ内チタニウムの熔融塊
を作るため固体チタニウムのアーク熔融により生成され
、好ましくは非消耗性電極の使用により生成される。銅
るつぼは水冷され、るつぼ内部に固化したチタニウムの
層又は骨格を作る。この方法で、チタニウムの熔融塊は
チタニウム物質のこの骨格と接触しているそしてるつぼ
の内面と接触していない。るつぼから熔融チタニウムの
自由に落下している流れが熔融チタニウムをるつぼの底
にあるノズルを通じてとおすことにより作られている。
代表的に、ノズルは夕 ”ングステン、タンタル、モリ
ブデン又はレニウムのような耐熱性金属の単独又は組合
せで構成されるであろう。ノズルは熔融チタニウムの自
由に落下する流れを作る、その流れは球状粒子を作るた
め熔融チタニウムを微粒化する不活性ガスジェットにぶ
つけられるそして球状粒子は固化と集めるため冷却され
る。不活性ガスジェットは、ジェットと微粒チタニウム
が浸食を生じるノズルに接触しないよう充分ノズルから
はなれた距離で熔融チタニウムの自由落下流にぶつかる
に適合されている、又ノズルを通過している熔融チタニ
ウムの冷却に適合されている。この方法におけるノズル
の冷却はノズル穴の部分的つまりを生じる。これはノズ
ルを通る熔融チタニウム流を減じ微粒化を損う。微粒化
に使用される不活性ガスは、例え゛ばアルゴン、又はヘ
リウムであろう。一般的実用により耐熱内面をもつノズ
ルはその中にチタニウムの固化した骨格即ち層を作るた
め冷却されるであろう。この方法でチタニウムは更に微
粒化に先だちノズルから通過する間に、耐熱性ノズル内
面と接触することによる汚染から、保護されるであろう
。
ブデン又はレニウムのような耐熱性金属の単独又は組合
せで構成されるであろう。ノズルは熔融チタニウムの自
由に落下する流れを作る、その流れは球状粒子を作るた
め熔融チタニウムを微粒化する不活性ガスジェットにぶ
つけられるそして球状粒子は固化と集めるため冷却され
る。不活性ガスジェットは、ジェットと微粒チタニウム
が浸食を生じるノズルに接触しないよう充分ノズルから
はなれた距離で熔融チタニウムの自由落下流にぶつかる
に適合されている、又ノズルを通過している熔融チタニ
ウムの冷却に適合されている。この方法におけるノズル
の冷却はノズル穴の部分的つまりを生じる。これはノズ
ルを通る熔融チタニウム流を減じ微粒化を損う。微粒化
に使用される不活性ガスは、例え゛ばアルゴン、又はヘ
リウムであろう。一般的実用により耐熱内面をもつノズ
ルはその中にチタニウムの固化した骨格即ち層を作るた
め冷却されるであろう。この方法でチタニウムは更に微
粒化に先だちノズルから通過する間に、耐熱性ノズル内
面と接触することによる汚染から、保護されるであろう
。
図に関し、図−１に１０として一般に示されたチタニウ
ム微粒化単位装置が示されている。単位装置は水冷銅る
つぼ１２を含んでいる。チタニウムの固体装入を熔かす
ため使用された非消耗タングステン電極１４がるつぼ１
２の上炉１５に設けられている。又図−２によく示され
ているように、単位装置は又るつぼ１２の底にノズル１
８をもつ底部タンディツシュ（ｔｕｎｄｉｓｈ） １６
を含んでいる。
ム微粒化単位装置が示されている。単位装置は水冷銅る
つぼ１２を含んでいる。チタニウムの固体装入を熔かす
ため使用された非消耗タングステン電極１４がるつぼ１
２の上炉１５に設けられている。又図−２によく示され
ているように、単位装置は又るつぼ１２の底にノズル１
８をもつ底部タンディツシュ（ｔｕｎｄｉｓｈ） １６
を含んでいる。
ノズルの下は微粒化目的のため不活性ガス２１のシェツ
トを与えている環状不活性ガスジェットマニホルド２０
がある。マニホルド２０は微粒化室２２に含まれており
、微粒化室は例えばアルゴン又はヘリウムのような、非
酸化性雰囲気をもつステンレス鋼構造であろう。微粒化
室２２の下にステンレス鋼筒２４がある。
トを与えている環状不活性ガスジェットマニホルド２０
がある。マニホルド２０は微粒化室２２に含まれており
、微粒化室は例えばアルゴン又はヘリウムのような、非
酸化性雰囲気をもつステンレス鋼構造であろう。微粒化
室２２の下にステンレス鋼筒２４がある。
装置の操業において、固体でのチタニウムの装入（示さ
れていない）がるつぼ１２内におかれる、そして図−２
に示されたように金属破裂板２６におく。破裂板２６は
選ばれた温度でタンディツシュ１６に、そしてノズル１
８をとおして熔融チタニウムを放散する。るつぼに固体
チタニウムを置いたあと、系は封入され減圧にされる。
れていない）がるつぼ１２内におかれる、そして図−２
に示されたように金属破裂板２６におく。破裂板２６は
選ばれた温度でタンディツシュ１６に、そしてノズル１
８をとおして熔融チタニウムを放散する。るつぼに固体
チタニウムを置いたあと、系は封入され減圧にされる。
アークが電極１４と固体チタニウム装入物との間にとお
され熔融プール２７が得られるまで固体チタニウムの熔
融が行われる。循環水による銅るつぼ１２の冷却はチタ
ン２８の骨格又は層の保持を生じる。
され熔融プール２７が得られるまで固体チタニウムの熔
融が行われる。循環水による銅るつぼ１２の冷却はチタ
ン２８の骨格又は層の保持を生じる。
その層はチタニウムの熔融プール２７のるつぼ内面との
接触をしないよう保持している。それ故チタニウム骨格
はチタニウムプールと同じ冶金学的組成である。チタニ
ウムの熔融プール２７が今にも注がれようとするとき、
電極１４は熔融プールに更に近くに動かされ、プールに
より深く押しやられ骨格２８と破裂板２６の底を通して
熔け、プールから熔融チタニウムがタンディツシュ１６
に、ノズル１８を通って流れ、それはノズルを離れて自
由落下流を作る。熔融物の通る部分が図−２に破線２９
により示されている。自由落下流はマニホルド２０から
の不活性ガスジェット２１により微粒化され粒子３２を
作り粒子は室２２内で固化し筒２４において固化粒子３
４として集められる。
接触をしないよう保持している。それ故チタニウム骨格
はチタニウムプールと同じ冶金学的組成である。チタニ
ウムの熔融プール２７が今にも注がれようとするとき、
電極１４は熔融プールに更に近くに動かされ、プールに
より深く押しやられ骨格２８と破裂板２６の底を通して
熔け、プールから熔融チタニウムがタンディツシュ１６
に、ノズル１８を通って流れ、それはノズルを離れて自
由落下流を作る。熔融物の通る部分が図−２に破線２９
により示されている。自由落下流はマニホルド２０から
の不活性ガスジェット２１により微粒化され粒子３２を
作り粒子は室２２内で固化し筒２４において固化粒子３
４として集められる。
るつぼ内に、そして交互にノズル内にチタニウムの骨格
又は固化層を保持することにより、そして微粒化室内に
保護的雰囲気を保持することにより、チタニウムは熔融
状態において、集しゆうに対し微粒子の固化にさきだち
、汚染に保護されている。
又は固化層を保持することにより、そして微粒化室内に
保護的雰囲気を保持することにより、チタニウムは熔融
状態において、集しゆうに対し微粒子の固化にさきだち
、汚染に保護されている。
発明の実際の特別の例として、ここに示し記されたタイ
プの微粒化単位装置は６％アルミニンウムー４％バナジ
ウムバランス（ｂａｌａｎｃｅ）チタニウムのチタニウ
ム−基材合金から球状粉末を作るのに使用された。６．
４１ｂｓ（２，９ｋｇ）のこの組成物が銅るつぼにおか
れその後炉と微粒化室が３０ｍ１ｌｌｉｔｏｒｒの圧力
に減圧された。それから室と炉は大気圧より僅かに高い
圧力にヘリウムガスで埋め戻された。アークが装入物と
タッグルチン電極の間に出され、熔融プールを作る。名
目上のアーク電圧とアンペア数は２０ボルト、１５００
アンペアであった。プールは０．２５０インチ（６，３
＋ｍｎ）直径のモリブデンノズルを通して底から流れで
る以前に約４分間保持された。熔融流は環状オリフィス
０．００８インチ（０，２ｍｍ ）の１．５・インチ（
３８１１１［＋１）直径のガス環を使ってヘリウムガス
で微粒子された。ヘリウムガス圧はガスびん制御器で測
定されたように５５０ｐｓｉ（３，８ＭＰａ）であった
。微粒化生成物は一２０メツシュ（［１，Ｓ、 ５ｔａ
ｎｄａｒｄ）にふるわれた。−２０メツシユ生成物に対
するサイズ分配は２４．５％−６０メツシユ、６．２％
−１２０メツシユ、１．３％−２００メツシユ（Ｌｌ、
Ｓ、５ｔａｎ−ｄａｒｄ）であった。粉末は球状で３５
秒の流動速度（ＡＳＴＭＢ２１３）をもち、理論密度の
６３％の充填密度であった。
プの微粒化単位装置は６％アルミニンウムー４％バナジ
ウムバランス（ｂａｌａｎｃｅ）チタニウムのチタニウ
ム−基材合金から球状粉末を作るのに使用された。６．
４１ｂｓ（２，９ｋｇ）のこの組成物が銅るつぼにおか
れその後炉と微粒化室が３０ｍ１ｌｌｉｔｏｒｒの圧力
に減圧された。それから室と炉は大気圧より僅かに高い
圧力にヘリウムガスで埋め戻された。アークが装入物と
タッグルチン電極の間に出され、熔融プールを作る。名
目上のアーク電圧とアンペア数は２０ボルト、１５００
アンペアであった。プールは０．２５０インチ（６，３
＋ｍｎ）直径のモリブデンノズルを通して底から流れで
る以前に約４分間保持された。熔融流は環状オリフィス
０．００８インチ（０，２ｍｍ ）の１．５・インチ（
３８１１１［＋１）直径のガス環を使ってヘリウムガス
で微粒子された。ヘリウムガス圧はガスびん制御器で測
定されたように５５０ｐｓｉ（３，８ＭＰａ）であった
。微粒化生成物は一２０メツシュ（［１，Ｓ、 ５ｔａ
ｎｄａｒｄ）にふるわれた。−２０メツシユ生成物に対
するサイズ分配は２４．５％−６０メツシユ、６．２％
−１２０メツシユ、１．３％−２００メツシユ（Ｌｌ、
Ｓ、５ｔａｎ−ｄａｒｄ）であった。粉末は球状で３５
秒の流動速度（ＡＳＴＭＢ２１３）をもち、理論密度の
６３％の充填密度であった。
チタニウムなる語がここに使用されたようにチ
第１図は本発明の実施例を示した断面図、第２図は第１
図に示す一部分の拡大図である。 図中：１２・・・るつぼ、１４・・・電極、１８・・・
ノズノベ２０・・・不活性ガスジェットマニホルド、２
１・・・不活性ガスジェット、２２・・・微粒化室、２
４・・・筒、２６・・・破裂板、２７・・・熔融プール
、２８・・・骨格又は層。
図に示す一部分の拡大図である。 図中：１２・・・るつぼ、１４・・・電極、１８・・・
ノズノベ２０・・・不活性ガスジェットマニホルド、２
１・・・不活性ガスジェット、２２・・・微粒化室、２
４・・・筒、２６・・・破裂板、２７・・・熔融プール
、２８・・・骨格又は層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非酸化性雰囲気下のるつぼにおいてチタニウムの熔
けた塊を生成さすこと；チタニウムの該熔融塊を該るつ
ぼと接触させずに保持すること；該るつぼから該熔融チ
タニウムの自由に落下する流を生成さすこと；該自由落
下流を不活性ガスジェットにぶつけ該熔融チタニウムを
微粒子にし球状粒子を作ること；該球状粒子を冷却して
固化すること；該固化粒子を集めることよりなる粉末冶
金施工に適するチタニウム粒子の生成法。 ２、該チタニウム熔融塊が、アーク熔融により該るつぼ
で生成されることを特徴とする、特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ３、該アーク熔融が、消耗しない電極により行われるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４、チタニウムの該熔融塊が、該熔融塊と該るつぼの間
にチタニウムの固化した層を与えることにより、該るつ
ぼとの非接触を保つことを特徴とする、特許請求の範囲
第１項記載の方法。 ５、該るつぼが底部に、該自由に落下している流を通す
ノズルを持ち、そのノズルが、モリブデン、タンタル、
タングステン、レニウムよりなる群からえらばれた、少
くとも１つの耐火性金属から構成されていることを特徴
とする、特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６、該るつぼが水冷されていることを特徴とする、特許
請求の範囲第５項記載の方法。 ７、該チタニウムの固化された層が該熔融チタニウム塊
と同じ組成であることを特徴とする、特許請求の範囲第
５項記載の方法。 ８、該不活性ガスジェットが該ノズルから充分はなれた
距離で、該自由に落下している流にぶつかり該ジェット
と微粒子が該ノズルに接触せず該ノズルの浸食を生ぜず
そして該ノズルを通過している該熔融チタニウムの冷却
をすることを特徴とする、特許請求の範囲第７項記載の
方法。 ９、該不活性ガスがアルゴン、ヘリウムよりなる群から
えらばれたガスであることを特徴とする、特許請求の範
囲第８項記載の方法。 １０、非酸化性雰囲気下のるつぼにおいてチタニウムの
熔融塊を生成するアーク熔融；該熔融塊と該るつぼとの
間の固化チタニウムの該熔融塊層にと同じ組成である該
固化層の該チタニウムを与えることによりチタニウムの
該熔融塊を該るつぼと非接触を保持すること；該熔融チ
タニウムの自由に落下する流れが通るノズルを底部にも
つ該るつぼ；該ジェットと微粒子が該ノズルの浸食の原
因となる該ノズルに接触しない該ノズルから充分離れた
距離で、自由に落下する該流れにぶつかることによりそ
して、該ノズルを通る該熔融チタニウムの冷却により、
球状粒子を作るため該熔融チタニウムを微粒子にするに
適した不活性ガスジェット；該球状粒子を該粒子に固化
するため冷却すること；固化した粒子を集めることより
なる粉末冶金施工に適するチタニウム粒子の生成法。 １１、アーク熔融が、非消耗性電極の使用により行われ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第１０項記載の方
法。 １２、該るつぼが水冷されていることを特徴とする、特
許請求の範囲第１０項記載の方法。 １３、該不活性ガスジェットが、アルゴン、ヘリウムよ
りなる群からえらばれたガスであることを特徴とする、
特許請求の範囲第１０項記載の方法。 １４、該ノズルが、モリブデン、タンタル、タングステ
ン、レニウムよりなる群からえらばれた少くとも１つの
耐熱性金属から構成されていることを特徴とする、特許
請求の範囲第１２項記載の方法。 １５、非酸化性雰囲気中のるつぼにおいてチタニウムの
熔融塊を生成するアーク熔融；該熔融塊と該るつぼとの
間のチタニウムの固化層にチタニウムの該熔融塊と同じ
組成である該固化層の該チタニウムを与えることにより
、該るつぼとチタニウムの該熔融塊との非接触を保持す
ること；該熔融チタニウムの自由に落下している流れが
、該るつぼから通過するノズルを、底部に持つるつぼ；
チタニウムの該熔融塊と同じ組成のチタニウムの固化層
で内張されそれにより該熔融チタニウムが該ノズルと非
接触を保たれている該ノズル；該ノズルと微粒子が該ノ
ズルの浸食を生じる該ノズルとの接触をしないよう充分
離れた距離で該自由に落下する流にぶつかることにより
、そして該ノズルを通過している該熔融チタニウムの冷
却により球状粒子を作るため、該熔融チタニウムを微粒
化するに適した不活性ガスジェット；該球状粒子を該粒
子に固化するため冷却すること；該固化粒子を集めるこ
とによりなる粉末冶金施工に適するチタニウム粒子の生
成法。 １６、該アーク熔融が非消耗性電極により行われること
を特徴とする、特許請求の範囲第１５項記載の方法。 １７、該るつぼが水冷されていることを特徴とする、特
許請求の範囲第１５項記載の方法。 １８、該不活性ガスジェットがアルコン、ヘリウムより
なる群からえらばれたガスであることを特徴とする、特
許請求の範囲第１５項記載の方法。 １９、該ノズルが、モリブデン、タンタル、タングステ
ン、レニウムよりなる群からえらばれた少くとも１つの
耐熱性金属から構成されていることを特徴とする、特許
請求の範囲第１７項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US710806 | 1985-03-12 | ||
| US06/710,806 US4544404A (en) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | Method for atomizing titanium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61253306A true JPS61253306A (ja) | 1986-11-11 |
| JPH0457722B2 JPH0457722B2 (ja) | 1992-09-14 |
Family
ID=24855623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61054557A Granted JPS61253306A (ja) | 1985-03-12 | 1986-03-12 | チタニウム粒子の生成法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4544404A (ja) |
| EP (1) | EP0194847B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61253306A (ja) |
| AT (1) | ATE55076T1 (ja) |
| CA (1) | CA1238460A (ja) |
| DE (1) | DE3673035D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020503441A (ja) * | 2016-12-21 | 2020-01-30 | カーペンター テクノロジー コーポレイション | チタン粉末製造装置及び方法 |
Families Citing this family (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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