JPS61250826A - 垂直磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、垂直磁気記録媒体に関する。更に詳しくは、
コバルｈ　ａ５よび酸化コバルトおよび／または鉄およ
び酸化鉄から主として成る垂直磁化膜を備えた薄膜型の
垂直磁気記録媒体に関する。

［従来の技術］ 垂直磁気記録媒体を構成する垂直磁化膜とじては、コバ
ルト−クロム、コバルト−ロジウム、コバルト−バナジ
ウムなどコバル］〜と仙の金属との合金薄膜が代表的な
ものとして知られている。

これらの垂直磁化膜は、通常、スパッタや真空蒸着で基
体上に形成される。しかしながら、スパッタによるコバ
ルト合金膜は、膜生成速度が遅く、また、コバルト合金
を電子ビーム蒸着する方法では合金組成の制御が困難で
おるという問題がおる。

また、両方法とも磁気特性の良い膜を得るには、基体を
１５０°Ｃ〜３００’Ｃ程度の高温に加熱しなければな
らないという難点があり、特にプラスチック基体を使用
する上で、大きな障害となっている。

かかる問題を改良する方法として、冷却された基体上に
、コバルトと酸化コバルトから成る垂直磁化膜を１ｑる
方法が提案されている（第７回応用磁気学会学術公演概
要集）。

また、本発明者らは、先に、鉄および酸化鉄から主とし
て成る垂直磁化膜を冷却された基体上に得る方法を提案
している。

一般に薄膜型の磁気記録媒体を実用化するに際しては、
磁性層が磁気ヘッドに直接こすれ合うため媒体の耐摩耗
性向上、つまり薄膜の削れ、剥離対策が極めて重要とさ
れているが、コバルトおよび酸化コバルトおよび／また
は鉄および酸化鉄から主として成る垂直磁化膜を僅えた
磁気記録媒体においても耐摩耗性向上は実用化する上で
必須であることが本発明者らの検問で明らかになった。

従来、薄膜型の磁気記録媒体の耐摩耗性向上の方法とし
ては、第１に基体の前処理や下地層形成などで薄膜と基
体の接着力を強める方法、第２に薄膜の硬度を上げるな
ど薄膜自体を改質する方法、第３の方法は保護層を媒体
表面に設ける方法がある。またこれらの方法と潤滑剤の
付与を併用することも検問されている。

しかしながら、第１の方法は剥離防止に効果があるが、
削れに対しては効果はない。第２の薄膜の硬度を上げる
方法は、媒体の柔軟性を減じて磁気ヘットとの当りの悪
化を招き、また磁気ヘッドの摩耗の問題を生じ好ましく
ない。

一方、高密度記録においてはスペーシングロスを少なく
するために媒体記録層と磁気ヘッドをなるべく近づける
ことが重要である。このため、保護層を設けないことが
望ましい。

［本発明が解決しようとする問題点］ 本発明者等はかかる従来技術の現状に鑑み、磁気ヘッド
等との当りを良好に保つとともにスペーシングロスを増
大させることなく耐摩耗性を向上させる方法ついて鋭意
検討した結果、コバルトおよび酸化コバルトおよび／ま
たは鉄および酸化鉄から主として成る垂直磁化膜におい
ては、表面に該垂直磁化膜の一部から成る特定構造の微
細突起を形成することにより、これらの課題が解決でき
ることを見出し、本発明に到達したものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は次の構成を有する。

すなわち、本発明はコバルトおよび酸化コバルトおよび
／または鉄および酸化鉄から主として成る膜面に垂直方
向に磁気異方性を有する垂直磁化膜を備えた垂直磁気記
録媒体であって、該垂直磁化膜はその表面に、３０度以
上１２０度以下の先端とがり角を有する微細突起を１０
８個／ｍｍ　２以上２Ｘ１０１０個／ｍｍ２以下有して
いることを特徴とする垂直磁気記録媒体に関するもので
ある。

即ち、本発明の垂直磁気記録媒体は、その垂直磁化膜の
表面に、特定の先端形状、つまり特定の先端とがり角を
有する微細突起が特定の密度分布で形成されていること
が重要である。

本発明において垂直磁化膜の表面を形成する微細な突起
について第１図を用いて説明する。第１図は本発明の垂
直磁気記録媒体の一例の断面をモデル的に示したもので
あり、１は基体、２は基体１上に基体面に対して垂直方
向に配向して形成された垂直磁化膜で、その表面には微
細な突起３が形成されている。この突起断面は図示のご
とく三角形、ドーム形もしくは両者の中間的な形状を有
し、垂直磁化膜１の表面の凹凸を形成するものである。

ここで、垂直磁化膜の突起先端のとがり角とは、第２図
イ２ロ、八に各種突起断面形状についてモデル的に例示
するごとく次の方法で求めたものである。

即ち、試料媒体の超薄切片を用意し、その透過型電子顕
微鏡像において、突起頂部４を通り膜面に垂直方向に延
びる垂線Ａを引き、これを左右に約２５人づつ平行移動
する。次に得られた垂線Ａ′及びＡ　／ｌと突起頂部４
を挟む陵線Ｂとの交点Ｂ’　、Ｂ“を求め、各交点上に
接線Ｃ′、Ｃ″を引き、これら２本の接線の成す角θを
とがり角といい、上記透過型電子顕微鏡像中の膜面に平
行な所定距離内の全ての突起についてそれぞれとがり角
θを測定し、その平均値を先端とがり角としたものであ
る。

本発明においては、垂直磁化膜表面に、上述の先端とが
り角が３０度以上、１２０度以下、より好ましくは５０
度以上、１００度以下を有する微細突起が１０８個／ｍ
ｍ２以上２Ｘ１０ｆ◎個／ｍｍ２以下、より好ましくは
４ｘ１０８／ｍｍ２以上２Ｘ１０１０個／ｍｍ２以下、
さらに好ましくは、ｌＸ１０９個／ｍｍ２以上１　、５
Ｘ　１０１０ｉｆ／ｍｍ２以下の密度分イ［］−で存在
していることが重要であり、これにより媒体が磁気ヘッ
トやテープガイド４丁とと接触Ｊ−る接触面積をダｊ果
的に減少させることかできるため摩１察係数が小さくな
り、摩耗を確実に軽減できるとともに磁気ヘットやテー
プガイドと媒体間の走１−１性も良好となづ−ことがで
きる、。

つまり、′＋７１定の微細な突起が高密度に均一に存在
しているため、磁気ヘッドなどとの接触時、荷重が分散
されて実際に接触している部分にかかる接触圧は小さく
なり、摩耗が軽減される。また、走行か安定し、再出出
力変動やノイズも小ざくすることができる。

さらに媒体表面積が大きくてきるため潤滑剤を豊富にし
かも強く吸着するために耐摩耗性か向上させることがで
きる。

突起先端のとがり角が３０度未満で、かつ微細突起の密
度が２　Ｘ　１０１０個／ｍｍ２を越える場合は、媒体
を１７６成する薄膜が破壊し易くなったり、垂直磁化膜
自体が非磁性化し易くなったつり−るのみならず、磁気
ヘッドと媒体間距離によるスペーシングロスが増加する
ため好ましくない。

一方、突起先端のとがり角が１２０度を上廻り、かつ微
細突起の密度が１０”個／ｍｍ２未満の場合−は、媒体
の耐摩耗＝１９が低下するとともに走行性が不良となる
ため好ましくない。

磁気記録媒体の表面に微細な突起を作る方法としては、
プラスチックフィルムなどの基体にあらかじめ微細な突
起を設りておぎ、この上に磁性層を形成して、基体の突
起をなぞった突起を媒体表面に作る方法が広く用いられ
ている。

しかし、この方法では、基体に垂直方向に配向すべき磁
気異方性が基体表面の突起によって乱される欠点がある
。高密度磁気記録には、媒体表面に高密度でなるべく微
小な突起が均一に存在することが重要であるが、基体表
面に突起を作る方法では、突起の高密度化と微小化の両
立はたいへん困難である。

本発明においては、垂直磁化膜の構造に由来する微細な
突起と、基体表面の突起により垂直磁化膜表面に形成さ
れる突起４Ｊｉ併用されるが、上記の理由により、後者
の方法による突起形成の割合は減少させた方か好ましい
。前者の方法により形成される突起は高密度でしかも形
状が比較的鋭角で表面積か大きいため、潤滑剤を豊富に
しかし強く吸着し、更に耐摩耗性向上をはかることがで
きる。

本発明で用いられる垂直磁化膜とは、コバルトおよび酸
化］パル１へおよび／または鉄および酸化鉄から主とし
て成り、基体面と垂直方向に磁気異方性を有するもので
ある。

本発明でいう膜面と垂直方向に磁気異方性を有する垂直
磁化膜は、次のように規定される。

垂直磁化膜の磁気特性は、ＪＩＳ　　Ｃ−２５６１で示
されている振動型磁力計法や、自記磁束計法にＪ一つて
測定できる。つまり、試料とする垂直磁化膜に外部磁界
（１」）を加えながら、試料の磁化（Ｍ）を測定する。

第３図はこの測定結果を模式的に示すものでおる。初め
に外部磁界（１」）をＯの状態（点Ｏ）から徐々に外部
磁界（１」）を増加し、試料の磁化（Ｍ）が飽和（点△
）したら、外部磁界（＋−１＞を減少させ、さらに逆向
きの磁界を加える。逆向きの磁化が飽和したら（点Ｂ）
、外部磁界（１」）を減少させ、さらに初めに加えた方
向の外部磁界（Ｈ＞を試料の磁化（Ｍ）が飽和するまで
加える（点Δ）。

このようにして得られるＡ−＋Ｂ→△の曲線は、ヒステ
リシスループと呼ばれている。このヒステリシスループ
から保磁力、飽和磁化などの磁気特性が測定できる。磁
気記録媒体に使用する場合は、このヒステリシスループ
で囲まれる面積（Ｓ）が大きいものほど記録容量が大き
く、高密度記録に適している。

試わ１とする垂直磁化膜膜面に垂直方向に外部磁界を加
えながら測定したヒステリシスループで囲まれる面積を
Ｓよとし、垂直磁化膜膜面に平行方向に外部磁界を加え
た場合のヒステリシスループの面積をＳｌｌとすると、
ＳＬが３１１にくらべ大きい場合は、垂直方向の磁気記
録に適した磁気記録媒体といえる。

本発明でいう、膜面と垂直方向に磁気異方性を有する垂
直磁化膜とは、膜面に垂直方向の外部磁界に対するヒス
テリシスループの面積Ｓ工と、膜面の平行方向の外部磁
界に対するヒステリシスループの面積３１１より締出さ
れる磁気異方性係数（Ｓ、／５１１）が１より大きく、
好ましくは１゜２以上最も好ましくは１．４以上のもの
をいう。

垂直磁化膜の厚みは、特に制限されないか、実用的には
０．０２μｍから５μｍの範囲が良く、中でも０．０３
μｍから３μｍ、とくに０．０５μｍか２μｍの範囲が
可撓性、ヘッドタッチが良好な点で最も好ましい。

該垂直磁化膜は、主として］バルトおよびＣＯＯ１ＣＯ
２０３、ＣＯ３Ｏ４などの酸化コバルトおよび／または
鉄およびＦｅ０１「ｅ２０３、Ｆｅ３０ｑなどの酸化鉄
によって構成される。酸化コバルトとしては、この伯、
Ｃｏａｘ　（ＸはＯから２の間の数）で表わされる非化
学量論的な酸化物、過酸化物も含まれる。酸化鉄として
は、この他、Ｆｅ０Ｘ（ＸはＯから２の間の数）で表わ
される非化学量論的な酸化物、過酸化物も含まれる。

該垂直磁化膜には、コバル１−および酸化コバルトおよ
び／または鉄および酸化鉄以外の元素や化合物、例えば
、ニッケル、銅、クロム、アルミニウム、炭素、シリコ
ン、バナジウム、チタン、亜鉛、マンガンや、金属酸化
物、金属窒化物、金属水酸化物などが、垂直方向の磁気
異方性を損なわない範囲で含まれていても良い。

垂直磁化膜表面の突起先端のとがり角を鋭くするために
は、鉄および酸化鉄が含まれることが望ましい。

このような垂直磁化膜を形成させる方法としては、真空
蒸着などの真空析出法か採用される。

コバルトおよび酸化コバルトおよび／または鉄および酸
化鉄から主として成る垂直磁化膜は、真空槽内への酸素
含有カスを導入しつつ、真空析出を行なうことによって
得られるが、この時、真空槽内圧力をｌＸ１０’ｌ−−
ル以上、好ましくは７Ｘ１０’１〜−ル以上ｌＸ１０−
２トール以下とし、酸素含有ガス中に２０％以上のアル
ゴン、ヘリウムなどの不活性ガスまたは窒素などの低活
性ガスを導入し、かつ、これらのガスおよび蒸発物の一
部をイオン化すると垂直磁化膜表面に該垂直磁化膜の一
部から成る先端とがり角が１２０度以下の微細な突起を
形成することができる。基体または基体近傍を負電位と
することにより更に鋭角の先端を有する突起を形成する
ことができる。そしてこの傾向は特に真空蒸着において
顕著である。

垂直磁化膜表面に該垂直磁化膜の一部から成る先端のと
がり角が１２０度以下の微細な突起を形成するための伯
の方法は、予め形成した垂直磁化膜の表面をスパッタエ
ツチングする方法である。

すなわち、アルゴンイオンなどでスパッタされた垂直磁
化膜は、粒界部分が選択的にエツチングされ、残った部
分が鋭角の先端を有する微細な突起を形作る。この他、
プラズマエツチング、イオンミーリングなども微細凹凸
の形成ができるが、もちろん、これらの方法のみに限定
されるものではない。

垂直磁化膜形成時、基体の温度は５０℃以下に冷却して
おくことか、垂直磁化膜の磁気異方性係数を大きくする
ために望ましい。また、コバルトおよび／または鉄蒸気
と基体面の法線のなす角が４５度以下となるよう、４５
度を越える入射粒子を遮蔽するマスクを設けることが、
垂直磁化膜の磁気異方性係数を大きくするために好まし
い。

導入ガスおよび蒸気物の一部をイオン化する方法として
は、グロー放電、熱陰極励起、高周波励起などの手法を
採用できる。

本発明で用いることのできる基体としては、特に限定さ
れるものではないが、アルミニウム、銅、鉄、ステンレ
スなどで代表される金属、ガラス、セラミックなどの無
機材料、プラスチックフィルムなどの有機重合体材料が
挙げられる。特にテープ、フレキシブルディスクなど加
工性、形成性、可撓性が重視される場合には、有機重合
体材料が適しており、中でもポリエチレンテレフタレー
１〜、ボ１去エチレンナフタレート、ポリエチレンジカ
ルボキシレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリブテンなどのポリオレフィン、ポリ
メヂルメタ）７クリレーＩ〜、ポリカー小ネー１〜、ボ
リスルノＡン、ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリフ
ェニレンスルフィド、ボリフエニレンオギ１ノイド、ポ
リアミドイミド、ポリイミド、ポリ塩化ビ゛ニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニリデン、ボリテ１〜ラフ
ルオロエチレン、酢酸セルローズ、メヂルセルローズ、
エチルセルロ−ズの混合物、共重合物などが適している
。特に二軸延伸されたフィルム、シー１〜類は、平面性
、寸法安定性に優れ最も適しており、中でもポリエステ
ル、ポリフェニレンスルフィド、芳香族ポリアミド、な
どが最も適している。

基体の形状は、ドラム状、ディスク状、シー１〜状、テ
ープ状、カード状などいずれでも良く、厚みも特に限定
されるものではない。シー１へ状、テープ状、カード状
等の場合、加工性、寸法安定性の点で、厚みは２〜５０
０μ、中でも４　ヘ２　０　０μの範囲が好ましい。

本発明で用いられる基体は、磁性膜などの形成に先だら
、易接着化、平面性改良、着色、帯電防止、耐摩耗性イ
」与等の目的で各種の表面処理や前処理か施されても良
い。

なお、本発明に述べる垂直磁化膜と基体の間には垂直磁
化膜の磁気特性向上、耐蝕性向上、接着力向上などの目
的で下地層を一層あるいは複数層積層させることは適宜
許される。特に下地層として軟磁性膜を設けることは、
記録・再生感度を上げるために大きな効果が必り、好ま
しい。

垂直磁化膜および下地層は、基体の片面、両面のいずれ
に形成しても良い。

また、垂直磁化膜に、耐蝕性向上、耐摩耗性向上、走行
性向上などの目的で、保」Ｌ潤滑層を一層あるいは複数
層積■させることは適宜許される。

［発明の効果コ 本発明は、垂直磁化膜表面に特定の先端とがり角をもっ
た微細突起を特定の密度分布で形成するようにしたので
、媒体−ヘッド間の摩擦係数が低下し、走行性が改善さ
れるとともに媒体の耐摩耗性を大幅に向上させることが
できたものである。

また磁化膜の表面積を大ぎくできるため、潤滑剤を藷富
に強く吸着し易く、更に耐摩耗性向上に大きな効果をも
たらす。

本発明で得られる垂直磁気記録媒体はテープ、シー１〜
、カード、ディスク、トラムなどの形状にて、オーディ
オ、ビデオ、デジタル信＠などの磁気記録用に広く用い
ることができる。

［特性の測定方法・評価基準］ （１〉磁気記録媒体の耐久性試験方法 基体の片面にのみ加工が施された試験試料を５。

２５インチのフロッピーディスク状に打ち扱き、フルオ
ロカーボン系の潤滑剤を約２００人厚に塗布し、ジャケ
ラ１〜に納める。これを市販のフロッピーディスクドラ
イブを用い、３００回転後、記録再生したときの再生出
力Ｅｐｏと、次いで同一１〜ラツク上を１０万回走行さ
せた後の再生出力Ｅｐｌとの比（　Ｆ　Ｉ）１／　Ｆ　
Ｉ）Ｏ）の大きさで媒体の摩耗の程度を評価する。使用
した磁気ヘッドは、一対のボタン型とジンバル型ヘッド
を持つ両面タイプのへラドで、ヘッド圧力は約１５ＣＩ
である。

（２）　　微細突起の先端とがり角および突起密度の測
定方法 試料媒体の超薄切片を切り出し、媒体断面形状を透過型
電子顕微鏡により観察する。拡大倍率は４０万−倍とす
る。突起先端のとがり角は第２図にモデル的に示したよ
うに次の方法で求めたものである。即ち、突起頂部４を
通り、膜面に垂直方向に延びる垂線Ａを引き、これを左
右に約２５人づつ平行移動する。次に得られた垂線Ａ′
及びＡ　／Ｌと突起頂部４を挟む陵線Ｂとの交点Ｆ３′
、３／Ｉを求め、各交点上に接線Ｃ′、Ｃ″を引き、こ
れら２本の接線の成す角θをとがり角といい、上記透過
型電子顕微鏡像中の膜面に平行な方向５０００人内にあ
る全ての突起について、それぞれとがり角θを測定し、
その平均値を先端とかり角θの値とする。

突起の密度は、電界教則型走査電子顕微鏡により媒体表
面を観察し算出する。透過型電子顕微鏡は、日立製日ー
６００型、電界放飼型走査電子顕　１Ｂ　− 微鏡は、日立製Ｓ−８００型を使用した。

（３）磁気異方性係数の測定方法 垂直磁化膜膜面に垂直方向の外部磁界に対するヒステリ
シスループの面積＄１と、垂１磁化膜膜面に平行方向の
外部磁界に対するヒスプリシスループの面積３１１から
求められる（ＳＬ／３１１＞を磁気異方性係数とす。

磁気異方性係数が１より大きいことが垂直磁化膜として
望ましい。

［実施例コ 実施例１ 基体に二軸延伸された厚さ５０μｍのポリエチレンテレ
フタシー１〜フイルム（東しく株）製“ルミラー″）を
使用した。

真空槽内をｌＸ１０’ｌヘールまで排気した後、分圧が
４０：６０め酸素と窒素の混合ガスを導入し、真空槽内
圧力を８Ｘ１０−４１〜−ルとして、電子ビーム真空蒸
着により鉄を蒸発させ、１０μｍ／分の付着速度で厚さ
約０．２５μｍの鉄および酸化鉄から主として成る垂直
磁化膜を基体上に形成した。

この時、るつぼ近傍にタングステンフィラメン１〜を設
置、加熱し、このフィラメン１へを一５０Ｖにバイアス
覆ることにより、フィラメン１〜から電子を照射して混
合ガスと蒸発物の一部をイオン化した。

基体は５°Ｃに冷却されたホルダーに密着して設置し、
鉄蒸気と基体面の法線の成す角が４５度以下となるよう
、４５度を越える入射粒子を遮蔽する水冷された遮蔽板
を基体前面に設置する。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面に、先端とかり角７０度、密度６Ｘ１０９個／ｍ
ｍ２の円錐形の微細な突起が得られた。また、磁気異方
性は１．６であった。

この媒体を５．２５インチ径のフロッピーディスク状に
打ち仇き、フルオロカーボン系の潤滑剤を約２００人厚
に塗布し、ジャケラ１〜に納め、耐久性試験を行なった
。（Ｆ　ｐｌ／　Ｅ　ｐｏ）は１であった。実施例２ 酸素と窒素の分圧を８０　：　２０とし、蒸発材料をコ
バルトとした以外は、実施例１と同様にしてコバルトお
よび酸化コバルトから成る厚さ約０゜２５μｍの垂直磁
化膜を基体上に形成した。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面に先端とがり角１００度、密度８ＸＩＱ８ｍｍ２
のややドーム状をした円鍾形の微細な突起が得られた。

また、磁気異方↑１係数は１゜７５であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なったところ、
（Ｆ　ｐ１／　Ｆ　Ｉ）０）は０．９５であった。

実施例３ 酸素と窒素の分圧を７０：３０．真空槽内圧力を７Ｘ１
０−４１−−ル、蒸発材料をコバルトと鉄が重量比で８
０：　２０の合金とした以外は、実施例１と同様にして
、コバルト、鉄およびこれらの酸化物から主として成る
厚さ約０．２５μｍの垂直磁化膜を基体上に形成した。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端とがり角８０度、密度１．９Ｘ１０９
個／ｍｍ２の円錐形の微細な突起が得られた。また、磁
気異方性係数は１．６８であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なった。

（Ｅ　ｌ）１／Ｉ）０）は０．９８であった。

実施例４ 真空槽内へ導入するガスを酸素１００％としたことと蒸
発物およびガスをイオン化しなかったことと、基体に二
軸延伸された厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（デュ
ポン（株）製”　Ｋ　Ａ　Ｐ　Ｔ　ＯＮ″）を使用した
こと以外は、実施例２と同様にしてコバルトおよび酸化
コバルトから主として成る厚さ約０．２５μｍの垂直磁
化膜を基体上に形成した。この垂直磁化・膜の表面には
、先端のとがり角１４５度、密度１　Ｘ　１０１０個／
ｍｍ２の不明瞭な突起が得られた。また、磁気異方性係
数は１゜３６であった。

この垂直磁化膜試料を高周波スパッタ装置（日電アネル
バ（株）製ＥＶＰ−１０７５８＞の陰極上に設置し、真
空槽内に２Ｘ１０−２１〜−ルまでアルゴンガスを導入
し、１３．５６ＭＨ２，３０Ｗの電流を投入して約１０
分間磁化膜表面のアルゴンイオンでスバツタエツヂング
を施した。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端のとかり角１００度、密度Ｉ　Ｘ　１
０　ＩＯ個／ｍｍ２のやや丸みを帯びた円錐状の微細な
突起が得られた。

実施例１ど同様に１ノで、耐久性試験を行なったどころ
、（Ｆ　ｐｌ／　ｌ閣ｐＯ）は０．９３であつｌこ。

スパッタ］■ツチングリ−る前の媒体についで、耐久性
試験を行なったところ、（Ｅ　ｐ１／　Ｅ　ｐｏ）は０
゜７′ｃ゛あった。

比較例１ 酸素と窒素の分圧を９０：１０、真空槽内圧力を９Ｘ１
０’１〜−ルとした以外は、実施例１と同様にして、鉄
および酸化鉄から主として成る垂直磁化膜を基体上に形
成した。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端のとかり角１２５度、密１宴１．６Ｘ
１０９個／ｍｍ２のドーム状の凹凸か得られた。また、
磁気異方１」係数は１．０６であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なったところ、
（Ｅ　ｐｉ／　Ｆ　ｐｏ）は０．７８であった。

比較例２ 真空槽内へ導入するカスを酸素コＯＯ％とした以外は、
実施例２と同様にしてコパル１へおよび酸化コバルトか
ら主として成る厚さ約０．２５μｍの垂直磁化膜を基体
上に形成した。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端とがり角１４０度、密度Ｉ　Ｘ　１０
１０個／ｍｍ２の不明瞭な突起が得られた。また、磁気
異方性係数は１．３６であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なったところ、
（Ｆ　ｌ）１／　Ｆ　ｐｏ）は０．６５であった。

比較例３ 真空槽内へ導入するガスを酸素１００％、真空槽内圧力
を９Ｘ１０”４１〜−ルとした以外は、実施例３と同様
にして、ボルト、鉄およびこれらの酸化物から主として
成る厚さ約０．２５μｍの垂直磁化膜を基体上に形成し
た。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面に（′Ａ１、先端のとがり角１３０度、密匪２．
５Ｘ１０９個／ｍｍ２の不明瞭な突起が得られた。また
磁気異方性係数は１．１５であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なったところ、
（Ｆ　Ｄｉ／　Ｅ　１）０）は０．７５でめった。

比較例４ イオン化を行なわなかった以外は実施例２と同様にして
、コバル］〜および酸化コバルトからなる厚さ約０．２
５μｍの垂直磁化膜を基体上に形成し、１こ。

かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端とがり角１４５度、密度１Ｘ１０９個
／ｍｍ２のドーム状の凹凸が１ｑられた。また磁気異方
性係数は１．７であった。

実施例１と同様にして、耐久性試験を行なったところ、
（Ｆ　ｌ）Ｏ／　Ｅ　ｒ）１　）は０．７であった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る垂直磁気記録媒体断面のモデル
図、第２図イ１口、ハは、突起の先端とがり角の測定法
の説明図、第３図は、ヒステリシスループの測定例であ
る。 １：媒体 ２二垂直磁化膜 ３：突起 ４：突起先端 θ：先端とがり角 特訂出願人　東し株式会社 手続補正書 特ｒＥ庁長官　　志　賀　学　殿 １、事件の表示 昭和６０　年　特許願　第９１００８号２、発明の名称 垂直磁気記録媒体 （１）明細書第２頁第２行および第１２頁５行のの１バ
ナジウム」をそれぞれ「バナジウム」と補正する。 （２）同書第７頁第１６行〜第８頁５行を次の通り補正
する。 ［突起先端のとがり角が３０度未満の場合は、媒体を構
成づ−る薄膜が破壊し易くなり、また磁気ヘッドと媒体
間距ｌｉｌ＋によるスペーシングロスが増加するため好
ましくない。一方、突起先端のとがり角が１２０度を上
回る場合は、媒体の耐摩耗性が低下するとともに走行性
が不良となるため好ましくない。 また微細突起の密度が１０８個／ｍｍ２未満では突起形
状に関係なく耐摩耗性が低下する。微細突起の密度が２
×１０　個／ｍｍ２を越える場合は垂直磁化膜自体が非
磁性化し易くなるため好ましくない。」 （３）同書第２０頁第１９行の「た。実施例２」を次の
通り補正する。 ［ｌこ　。 実施例２」 （４）同書第２２頁第２０行のｒ３０ＷＪを「１００Ｗ
Ｊと補正する。 （５）同書第２５頁第１８行と第１９行の間に次の文を
挿入する。 ［比較例５ 真空槽内圧力を２×１０　トールとしたことと基体上に
二輪延伸された厚さ５０μ川のポリイミドフィルム（デ
ュポン（株）製“’ＫＡＰＴＯＮ”）を使用したこと以
外は実施例１と同様にして、鉄および酸化鉄から主とし
てなる垂直磁化膜を基体上に形成した。かくして得られ
た垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側の表面には、先
端とがり角５０１１ｉ（、密１１Ｘ１０”　　個／ｍｍ
２（７）鋭り細カイ突起が得られた。 この垂直磁化膜試料をスパッタエツチング時間を２０分
間とした以外は実施例４と同様にしてスパッタエツチン
グした。 かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には、先端とがり角２５度、密度１　Ｘ　１０”
個／ｍｍ２の非常に鋭い突起が得られた。 磁気異方性係数は１，１であった。この試料に実施例１
と同様に耐久性試験を施したところ、（ＥＩｌｌ　　／
Ｅｐｏ　　は０．６５と不満足な結果であった。 比較例６ 真空槽内圧力を２Ｘ１０　１−−ルした以外は実施例４
と同様にして、コバルトおよび酸化コバルトから主とし
てなる厚；０．２５μｍの垂直磁化膜を基体上に形成し
た。該垂直磁化膜の表面には、先端とがり角１５５度、
密度７Ｘ１０７個／ｍｍ２の不明瞭な突起が得られた。 また磁気異方性係数は１．０であった。 この垂直磁化膜試料を実施例４と同様にして高周波スパ
ッタ装置を用いて３０分間垂直磁化膜表面をスパッタエ
ツチングした。 かくして得られた垂直磁気記録媒体の垂直磁化膜形成側
の表面には先端とがり角１２０度、密度７Ｘ１０７個／
１ＩＩＩＩ１２のドーム状の突起が得られた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）コバルトおよび酸化コバルトおよび／または鉄お
   よび酸化鉄から主として成る膜面に垂直方向に磁気異方
   性を有する垂直磁化膜を備えた垂直磁気記録媒体であっ
   て、該垂直磁化膜はその表面に、３０度以上１２０度以
   下の先端とがり角を有する微細突起を１０＾８個／ｍｍ
   ＾２以上２×１０＾１＾０個／ｍｍ＾２以下有している
   ことを特徴とする垂直磁気記録媒体。