JPS6125027B2 - - Google Patents
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- JPS6125027B2 JPS6125027B2 JP13779778A JP13779778A JPS6125027B2 JP S6125027 B2 JPS6125027 B2 JP S6125027B2 JP 13779778 A JP13779778 A JP 13779778A JP 13779778 A JP13779778 A JP 13779778A JP S6125027 B2 JPS6125027 B2 JP S6125027B2
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- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical group N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 claims description 23
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 claims description 16
- 239000011593 sulfur Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 claims 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 6
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- GHXZTYHSJHQHIJ-UHFFFAOYSA-N Chlorhexidine Chemical compound C=1C=C(Cl)C=CC=1NC(N)=NC(N)=NCCCCCCN=C(N)N=C(N)NC1=CC=C(Cl)C=C1 GHXZTYHSJHQHIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VRIFPEPYORJLHN-UHFFFAOYSA-N NC#N.COC(=S)SC Chemical compound NC#N.COC(=S)SC VRIFPEPYORJLHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PHKAAMFBQKLUDI-UHFFFAOYSA-N carbonodithioic S,S-acid cyanamide Chemical compound NC#N.SC(S)=O PHKAAMFBQKLUDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960003260 chlorhexidine Drugs 0.000 description 4
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N glycolonitrile Natural products N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QSNSCYSYFYORTR-UHFFFAOYSA-N 4-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=C(Cl)C=C1 QSNSCYSYFYORTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISJBQSJDQZLCSF-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].[NH3+]C1=CC=C(Cl)C=C1 ISJBQSJDQZLCSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMVQMBLTFKAIOX-UHFFFAOYSA-N 6-azaniumylhexylazanium;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[NH3+]CCCCCC[NH3+] XMVQMBLTFKAIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WJLVQTJZDCGNJN-UHFFFAOYSA-N Chlorhexidine hydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C=1C=C(Cl)C=CC=1NC(N)=NC(N)=NCCCCCCN=C(N)N=C(N)NC1=CC=C(Cl)C=C1 WJLVQTJZDCGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N Diethyl carbonate Chemical compound CCOC(=O)OCC OIFBSDVPJOWBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- WTIPAEZBQUGMBT-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;cyanamide Chemical compound NC#N.OC(O)=O WTIPAEZBQUGMBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229960004504 chlorhexidine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000001912 cyanamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- LIFQNDHZCABWSO-UHFFFAOYSA-N cyanomethanedithioic acid Chemical class SC(=S)C#N LIFQNDHZCABWSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- RARSHUDCJQSEFJ-UHFFFAOYSA-N p-Hydroxypropiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RARSHUDCJQSEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は、有毒物質を使用することなく、しか
も高純度、高収率でヘキサメチレン・ビス−ジシ
アンアミドを製造するための全く新規な方法に関
する。 ヘキサメチレン・ビス・ジシアンジアミド はグラム陽性、陰性両菌に対して有効な強力殺菌
消毒剤である式〔〕で示される1,6−ジ
(N5−p−クロロフエニル−N1−ジグアニド)ヘ
キサン(一般名クロルヘキシジン) の原料物質又は中間体として使用される有用な化
合物である。 従来、このヘキサメチレン・ビス−ジシアンジ
アミド〔〕は、ジシアンイミド・アルカリ塩と
ヘキサメチレンジアミン・二塩酸塩を反応させて
製造していた。しかしながら、この一方の原料で
あるジシアンイミド・アルカリ塩はハロゲン化シ
アンとシアナミド・アルカリ塩との反応によつて
製造するため、次のような極めて重大な欠点があ
つた。 つまり、第一に、ハロゲン化シアンが有する猛
毒性の故に、その取扱いが非常に困難であり、危
険性が高いので、ジシアンイミド・アルカリ塩
は、これを入手するのが極めて困難である。第二
に、ハロゲン化シアンとシアナミドアルカリ塩と
の反応の際に、ハロゲン化アルカリが副生する
が、この分離が極めて困難である。即ち、ハロゲ
ン化アルカリを含まない純度の高いジシアンイミ
ド・アルカリ塩の入手が極めて困難なのである。 また、第三に、ジシアンイミド・アルカリ塩の
純度が低いために、ヘキサメチレン・ビス−ジシ
アンジアミド〔〕の収率が低下し、ひいてはク
ロルヘキシジン〔〕の収率が低下する。 本発明は、これらの欠点、即ち、危険性、原料
の入手困難性、低収率を克服するためになされた
ものである。 そのために、先ず危険性が非常に高いハロゲン
化シアンを使用することのない原料及びその処理
について研究を続けたところ、 (式中、R1,R2はC=1〜10のアルキル基を
X1,X2は酸素又は硫黄を表わす。R1とR2,X1と
X2が同じでも又は異なつてもよい。X1,X2が硫
黄の場合、R1X1−,R2R2−の一方がチオアルキ
ル基を表わし、他方はチオールのアルカリ金属塩
をとることがある。) で示されるシアナミド炭酸エステルを原料とし、
これにヘキサメチレンジアミン、次いでアンモニ
アを反応させれば、目的化合物であるヘキサメチ
レン・ビス−ジシアンジアミド〔〕が、上記し
た欠点を伴うことなく得れるという新知見を得、
これを基にして本発明が完成されたのである。 そして更に、上記反応機構について研究を行な
つたところ、上記新知見の外に、次のような非常
に有利な知見も新たに得られ、これらを総合し
て、本発明の完成に到つたのである。つまり、式
〔′〕の化合物のS(又はO)−アルキル基の部
分のみにヘキサメチレンジアミン、アンモニアは
反応し、〔′〕のシアノ基には全く反応しないと
いう極めて高度な選択性が存在するのみでなく、
この高度選択性は、ヘキサメチレンジアミン、ア
ンモニアが遊離体の場合にのみ得られるものであ
つて、これらが塩の形になつた場合にはこの高度
選択性が失なわれ、全く反応しないという特異性
のあることも同時に判明し、これらの新知見を有
機的に総合して本発明の完成に到達したのであ
る。 従つて、本発明は特定の原料を新たに開発し、
これにヘキサメチレンジアミン、次いでアンモニ
アを反応させるという新規な方法に特徴があるの
みでなく、更に、その反応機構についても究明し
て、ヘキサメチレンジアミン、アンモニアは塩の
形にしたのでは所期の目的は達成されず、これら
はいずれも遊離のものであることが必須の要件で
あることをつきとめた点にも重要な特徴が存在す
のである。原料化合物であるシアナミド炭酸エス
テル〔′〕としては、次のものがあるが、 (式中、RはC=1〜10のアルキル基) シアナミドチオ炭酸ジアルキルエステル〔〕
は、シアノジチオ炭酸二アルカリ塩より容易に得
られ、シアナミドチオ炭酸O−アルキル−S−ア
ルキルエステル〔〕は、キサトゲン酸より容易
に得られる。 又、N−シアノイミド炭酸ジアルキルエステル
〔〕も、比較的容易に得られる(Chem.Ber.100
2604(1967))ものであつて、いづれも入手が容
易な化合物であるうえ、危険性もなく安全であ
る。 本発明方法では式〔′〕で示されるシアナミ
ド炭酸エステルをヘキサメチレンジアミンと反応
させて、式〔′〕 (式中、Xは酸素又は硫黄を表わす。RはC=
1〜10のアルキル基であり、Xが硫黄の場合に限
り、Rはアルカリ金属を表わすことがある。)で
示わされるヘキサメチレン・ビス−Nシアノ−O
(又はS)−アルキルイソ(又はイソチオ)尿素を
製造するのであるが、この場合の反応温度は0〜
50℃、好ましくは室温である。 化合物〔′〕で、X1,X2が硫黄、R1X1−,
R2X2−の一方がチオアルキル基、他方はチオー
ルのアルカリ金属塩(シアナミドジチオ炭酸二ア
ルカリ塩のアルキル化により得られる)の場合、
ヘキサメチレンジアミンとチオアルキル基との反
応により、ヘキサメチレン・ビス−N−シアノイ
ソチオ尿素アルカリ塩(化合物〔′〕でXがイ
オウ、Rがアルカリ金属)を得た、更にアルキル
化剤でS−アルキル化すれば、化合物〔′〕を
得る。 この場合のヘキサメチレンジアミンとチオアル
キル基との反応温度は室温〜150℃、好ましくは
100〜130℃である。 次に、このヘキサメチレン・ビス−N−シアノ
−O(又はS)−アルキルイソ(又はイソチオ)
尿素〔′〕にアンモニアを反応させて、ヘキサ
メチレン・ビス−ジシアンジアミド〔〕を得る
のであるが、その反応温度は室温〜170℃、好ま
しくは50〜130℃である。反応時間は、各反応段
階に応じて異なるが、1〜24時間の範囲内が適当
である。反応溶媒は、広く各種の溶媒が使用でき
るが、特に水、アルコール類が好適である。 次に本発明の実施例について述べるが、更に参
考例として、本発明によつて得られたジアミド
〔〕をp−クロリアニリン鉱酸塩と反応させ
て、クロルヘキシジン〔〕鉱酸塩を製造する方
法についても述べる。 なお、ヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミ
ド〔〕とp−クロルアニリン鉱酸塩(一般には
塩酸塩)との反応は常法によつて行なうが、本法
によれば前述したようにヘキサメチレン・ビス−
ジシアンジアミド〔〕の製造が、安全性、入手
容易性、純粋性のいずれにおいても従来法に比し
て極めて卓越しているため、クロルヘキシジン鉱
酸塩を高収率且つ高純度で得ることができるとい
う顕著な効果が奏される。この鉱酸塩をアルカリ
で処理して遊離体となし、一般的にはこれを水溶
性のクロルヘキシジン・ジグルコネートとし、殺
菌消毒剤として使用する。 実施例 1 (i) シアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル(融
点49.0〜51.0℃)7.3gのメタノール20ml溶液に
ヘキサメチレンジアミン2.9gのメタノール10
ml溶液を加え、室温で3時間撹拌反応すること
により白色のヘキサメチレン・ビス−N−シア
ノ−Sメチルイソチオ尿素(融点210〜212℃)
7.3g(収率93.6%)を得た。 (ii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−S−メ
チルイソチオ尿素7.3gと13%アルコール性ア
ンモニア20mlを封管中で120℃、3時間反応さ
せる。反応液を濃縮乾固すると、ヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203
℃)5.5g(収率95.5%)を得た。 実施例 2 実施例1の(i)シアナミドジチオ炭酸ジメチルエ
ステルの代りにシアナミドジチオ炭酸ジエチルエ
ステルより同様な操作で、ヘキサメチレン・ビス
−N−シアノ−S−エチルイソチオ尿素(融点
180.6〜182.2℃)を収率72.7(%)で得た。これ
を実施例1の(ii)の方法に準じてアルコール性アン
モニアと反応させるとヘキサメチレン・ビス−ジ
シアンジアミド(融点202〜203℃)を収率88.3
(%)で得た。 実施例 3 実施例1の(i)シアナミドジチオ炭酸ジメチルエ
ステルの代りにシアナミドジチオ炭酸O−エチル
−S−メチルエステルより同様な操作で、ヘキサ
メチレン・ビス−N−シアノ−O−エチルイソ尿
素を収率95.0%で得た。これを実施例1の(ii)の方
法に準じてアルコール性アンモニアと反応させる
とヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミド(融
点202〜203℃)を収率86.5%で得た。 実施例 4 実施例1のシアナミドジチオ炭酸ジメチルエス
テルの代りにシアナミドジチオ炭酸O−イソプロ
ピル−S−メチルエステル、シアナミドジチオ炭
酸O−ノルマルプブチル−S−メチルエステル、
シアナミドジチオ炭酸O−ノルマルアミル−S−
メチルエステル、及びシアナミドジチオ炭酸O−
ノルマルオクチル−S−メチルエステルより同様
な操作で室温−3時間撹拌反応すことにより各々
のヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−O−アル
キルイソ尿素を得た。これを実施例1の(ii)の方法
に準じてアルコール性アンモニアと封管中で110
℃、3時間反応させるヘキサメチレン・ビス−ジ
シアンジアミド(融点202〜203℃)を得た。各段
階の収率を次表に示す。
も高純度、高収率でヘキサメチレン・ビス−ジシ
アンアミドを製造するための全く新規な方法に関
する。 ヘキサメチレン・ビス・ジシアンジアミド はグラム陽性、陰性両菌に対して有効な強力殺菌
消毒剤である式〔〕で示される1,6−ジ
(N5−p−クロロフエニル−N1−ジグアニド)ヘ
キサン(一般名クロルヘキシジン) の原料物質又は中間体として使用される有用な化
合物である。 従来、このヘキサメチレン・ビス−ジシアンジ
アミド〔〕は、ジシアンイミド・アルカリ塩と
ヘキサメチレンジアミン・二塩酸塩を反応させて
製造していた。しかしながら、この一方の原料で
あるジシアンイミド・アルカリ塩はハロゲン化シ
アンとシアナミド・アルカリ塩との反応によつて
製造するため、次のような極めて重大な欠点があ
つた。 つまり、第一に、ハロゲン化シアンが有する猛
毒性の故に、その取扱いが非常に困難であり、危
険性が高いので、ジシアンイミド・アルカリ塩
は、これを入手するのが極めて困難である。第二
に、ハロゲン化シアンとシアナミドアルカリ塩と
の反応の際に、ハロゲン化アルカリが副生する
が、この分離が極めて困難である。即ち、ハロゲ
ン化アルカリを含まない純度の高いジシアンイミ
ド・アルカリ塩の入手が極めて困難なのである。 また、第三に、ジシアンイミド・アルカリ塩の
純度が低いために、ヘキサメチレン・ビス−ジシ
アンジアミド〔〕の収率が低下し、ひいてはク
ロルヘキシジン〔〕の収率が低下する。 本発明は、これらの欠点、即ち、危険性、原料
の入手困難性、低収率を克服するためになされた
ものである。 そのために、先ず危険性が非常に高いハロゲン
化シアンを使用することのない原料及びその処理
について研究を続けたところ、 (式中、R1,R2はC=1〜10のアルキル基を
X1,X2は酸素又は硫黄を表わす。R1とR2,X1と
X2が同じでも又は異なつてもよい。X1,X2が硫
黄の場合、R1X1−,R2R2−の一方がチオアルキ
ル基を表わし、他方はチオールのアルカリ金属塩
をとることがある。) で示されるシアナミド炭酸エステルを原料とし、
これにヘキサメチレンジアミン、次いでアンモニ
アを反応させれば、目的化合物であるヘキサメチ
レン・ビス−ジシアンジアミド〔〕が、上記し
た欠点を伴うことなく得れるという新知見を得、
これを基にして本発明が完成されたのである。 そして更に、上記反応機構について研究を行な
つたところ、上記新知見の外に、次のような非常
に有利な知見も新たに得られ、これらを総合し
て、本発明の完成に到つたのである。つまり、式
〔′〕の化合物のS(又はO)−アルキル基の部
分のみにヘキサメチレンジアミン、アンモニアは
反応し、〔′〕のシアノ基には全く反応しないと
いう極めて高度な選択性が存在するのみでなく、
この高度選択性は、ヘキサメチレンジアミン、ア
ンモニアが遊離体の場合にのみ得られるものであ
つて、これらが塩の形になつた場合にはこの高度
選択性が失なわれ、全く反応しないという特異性
のあることも同時に判明し、これらの新知見を有
機的に総合して本発明の完成に到達したのであ
る。 従つて、本発明は特定の原料を新たに開発し、
これにヘキサメチレンジアミン、次いでアンモニ
アを反応させるという新規な方法に特徴があるの
みでなく、更に、その反応機構についても究明し
て、ヘキサメチレンジアミン、アンモニアは塩の
形にしたのでは所期の目的は達成されず、これら
はいずれも遊離のものであることが必須の要件で
あることをつきとめた点にも重要な特徴が存在す
のである。原料化合物であるシアナミド炭酸エス
テル〔′〕としては、次のものがあるが、 (式中、RはC=1〜10のアルキル基) シアナミドチオ炭酸ジアルキルエステル〔〕
は、シアノジチオ炭酸二アルカリ塩より容易に得
られ、シアナミドチオ炭酸O−アルキル−S−ア
ルキルエステル〔〕は、キサトゲン酸より容易
に得られる。 又、N−シアノイミド炭酸ジアルキルエステル
〔〕も、比較的容易に得られる(Chem.Ber.100
2604(1967))ものであつて、いづれも入手が容
易な化合物であるうえ、危険性もなく安全であ
る。 本発明方法では式〔′〕で示されるシアナミ
ド炭酸エステルをヘキサメチレンジアミンと反応
させて、式〔′〕 (式中、Xは酸素又は硫黄を表わす。RはC=
1〜10のアルキル基であり、Xが硫黄の場合に限
り、Rはアルカリ金属を表わすことがある。)で
示わされるヘキサメチレン・ビス−Nシアノ−O
(又はS)−アルキルイソ(又はイソチオ)尿素を
製造するのであるが、この場合の反応温度は0〜
50℃、好ましくは室温である。 化合物〔′〕で、X1,X2が硫黄、R1X1−,
R2X2−の一方がチオアルキル基、他方はチオー
ルのアルカリ金属塩(シアナミドジチオ炭酸二ア
ルカリ塩のアルキル化により得られる)の場合、
ヘキサメチレンジアミンとチオアルキル基との反
応により、ヘキサメチレン・ビス−N−シアノイ
ソチオ尿素アルカリ塩(化合物〔′〕でXがイ
オウ、Rがアルカリ金属)を得た、更にアルキル
化剤でS−アルキル化すれば、化合物〔′〕を
得る。 この場合のヘキサメチレンジアミンとチオアル
キル基との反応温度は室温〜150℃、好ましくは
100〜130℃である。 次に、このヘキサメチレン・ビス−N−シアノ
−O(又はS)−アルキルイソ(又はイソチオ)
尿素〔′〕にアンモニアを反応させて、ヘキサ
メチレン・ビス−ジシアンジアミド〔〕を得る
のであるが、その反応温度は室温〜170℃、好ま
しくは50〜130℃である。反応時間は、各反応段
階に応じて異なるが、1〜24時間の範囲内が適当
である。反応溶媒は、広く各種の溶媒が使用でき
るが、特に水、アルコール類が好適である。 次に本発明の実施例について述べるが、更に参
考例として、本発明によつて得られたジアミド
〔〕をp−クロリアニリン鉱酸塩と反応させ
て、クロルヘキシジン〔〕鉱酸塩を製造する方
法についても述べる。 なお、ヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミ
ド〔〕とp−クロルアニリン鉱酸塩(一般には
塩酸塩)との反応は常法によつて行なうが、本法
によれば前述したようにヘキサメチレン・ビス−
ジシアンジアミド〔〕の製造が、安全性、入手
容易性、純粋性のいずれにおいても従来法に比し
て極めて卓越しているため、クロルヘキシジン鉱
酸塩を高収率且つ高純度で得ることができるとい
う顕著な効果が奏される。この鉱酸塩をアルカリ
で処理して遊離体となし、一般的にはこれを水溶
性のクロルヘキシジン・ジグルコネートとし、殺
菌消毒剤として使用する。 実施例 1 (i) シアナミドジチオ炭酸ジメチルエステル(融
点49.0〜51.0℃)7.3gのメタノール20ml溶液に
ヘキサメチレンジアミン2.9gのメタノール10
ml溶液を加え、室温で3時間撹拌反応すること
により白色のヘキサメチレン・ビス−N−シア
ノ−Sメチルイソチオ尿素(融点210〜212℃)
7.3g(収率93.6%)を得た。 (ii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−S−メ
チルイソチオ尿素7.3gと13%アルコール性ア
ンモニア20mlを封管中で120℃、3時間反応さ
せる。反応液を濃縮乾固すると、ヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203
℃)5.5g(収率95.5%)を得た。 実施例 2 実施例1の(i)シアナミドジチオ炭酸ジメチルエ
ステルの代りにシアナミドジチオ炭酸ジエチルエ
ステルより同様な操作で、ヘキサメチレン・ビス
−N−シアノ−S−エチルイソチオ尿素(融点
180.6〜182.2℃)を収率72.7(%)で得た。これ
を実施例1の(ii)の方法に準じてアルコール性アン
モニアと反応させるとヘキサメチレン・ビス−ジ
シアンジアミド(融点202〜203℃)を収率88.3
(%)で得た。 実施例 3 実施例1の(i)シアナミドジチオ炭酸ジメチルエ
ステルの代りにシアナミドジチオ炭酸O−エチル
−S−メチルエステルより同様な操作で、ヘキサ
メチレン・ビス−N−シアノ−O−エチルイソ尿
素を収率95.0%で得た。これを実施例1の(ii)の方
法に準じてアルコール性アンモニアと反応させる
とヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミド(融
点202〜203℃)を収率86.5%で得た。 実施例 4 実施例1のシアナミドジチオ炭酸ジメチルエス
テルの代りにシアナミドジチオ炭酸O−イソプロ
ピル−S−メチルエステル、シアナミドジチオ炭
酸O−ノルマルプブチル−S−メチルエステル、
シアナミドジチオ炭酸O−ノルマルアミル−S−
メチルエステル、及びシアナミドジチオ炭酸O−
ノルマルオクチル−S−メチルエステルより同様
な操作で室温−3時間撹拌反応すことにより各々
のヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−O−アル
キルイソ尿素を得た。これを実施例1の(ii)の方法
に準じてアルコール性アンモニアと封管中で110
℃、3時間反応させるヘキサメチレン・ビス−ジ
シアンジアミド(融点202〜203℃)を得た。各段
階の収率を次表に示す。
【表】
実施例 5
実施例1の(i)シアナミドジチオ炭酸ジメチルエ
ステルの代りにN−シアノ−イミド炭酸ジエチル
エステルより同様な操作でヘキサメチレン・ビス
−N−シアノ−O−エチルイソ尿素を収率93.6%
で得た。これを実施例1の(ii)の方法に準じてアル
コール性アンモニアと反応させるとヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203℃)
を収率87.2%で得た。 実施例 6 (i) シアナミドチオ炭酸S−メチルカリウム塩17
gとヘキサメチレンジアミン5.8gを封管中で
105℃、3時間反応させることにより白色のヘ
キサメチレン・ビス−N−シアノイソチオ尿素
カリウム塩17.2g(収率95.5%)を得た。 (ii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノイソチオ
尿素カリウム塩10.8gの水30ml−アセトン30ml
溶液にヨウ化メチル9gを加え、室温で2時間
撹拌反応することにより白色のヘキサメチレ
ン・ビス−N−シアノ−S−メチルイソチオ尿
素4.3g(収率45.7%)を得た。 (iii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−S−メ
チルイソチオ尿素3.1gと25%アルコール性ア
ンモニア10mlを封管中で120℃、3時間反応さ
せる。反応液を濃縮晶出すると、ヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203
℃)2.2g(収率87.7%)を得た。 参考例 ヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミド5.5
gとp−クロルアニリン−塩酸塩7.2gをエチル
アルコール40mlに加温溶解させたのち、撹拌還流
させ5時間反応させる。次に反応物を冷却し析出
結晶を別して乾燥すると塩酸クロルヘキシジン
(融点250.8℃)11.5g(収率90.8%)を得た。こ
れを50%酢酸水溶液で再結することにより、融点
260.2℃を得た。融点、IRより標準品と一致し
た。
ステルの代りにN−シアノ−イミド炭酸ジエチル
エステルより同様な操作でヘキサメチレン・ビス
−N−シアノ−O−エチルイソ尿素を収率93.6%
で得た。これを実施例1の(ii)の方法に準じてアル
コール性アンモニアと反応させるとヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203℃)
を収率87.2%で得た。 実施例 6 (i) シアナミドチオ炭酸S−メチルカリウム塩17
gとヘキサメチレンジアミン5.8gを封管中で
105℃、3時間反応させることにより白色のヘ
キサメチレン・ビス−N−シアノイソチオ尿素
カリウム塩17.2g(収率95.5%)を得た。 (ii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノイソチオ
尿素カリウム塩10.8gの水30ml−アセトン30ml
溶液にヨウ化メチル9gを加え、室温で2時間
撹拌反応することにより白色のヘキサメチレ
ン・ビス−N−シアノ−S−メチルイソチオ尿
素4.3g(収率45.7%)を得た。 (iii) ヘキサメチレン・ビス−N−シアノ−S−メ
チルイソチオ尿素3.1gと25%アルコール性ア
ンモニア10mlを封管中で120℃、3時間反応さ
せる。反応液を濃縮晶出すると、ヘキサメチレ
ン・ビス−ジシアンジアミド(融点202〜203
℃)2.2g(収率87.7%)を得た。 参考例 ヘキサメチレン・ビス−ジシアンジアミド5.5
gとp−クロルアニリン−塩酸塩7.2gをエチル
アルコール40mlに加温溶解させたのち、撹拌還流
させ5時間反応させる。次に反応物を冷却し析出
結晶を別して乾燥すると塩酸クロルヘキシジン
(融点250.8℃)11.5g(収率90.8%)を得た。こ
れを50%酢酸水溶液で再結することにより、融点
260.2℃を得た。融点、IRより標準品と一致し
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の式〔′〕で示される化合物に (式中、Xは酸素又は硫黄を表わす。RはC=
1〜10のアルキル基であり、Xが硫黄の場合に限
り、Rはアルカリ金属を表わすことがある。) Xが酸素又は硫黄で、Rがアルキル基の場合、
アンモニアを反応させるが、Xが硫黄でRがアル
カリ金属の場合、あらかじめアルキル化した後、
アンモニアを反応させることを特徴とする式
〔〕で示されるヘキサメチレン・ビス−ジシア
ンジアミド の製法。 2 式〔′〕で示される化合物に (式中、R1,R2は、C=1〜10のアルキル基
であり、X1,X2は酸素又は硫黄を表わす。R1と
R2,X1とX2が同じでも又は異なつてもよい。
X1,X2が硫黄の場合、R1X1−,R2X2−の一方が
チオアルキル基を表わし、他方はチオールのアル
カリ金属塩をとることがある。) ヘキサメチレンジアミンを反応させて次の式
〔′〕で示される化合物を得、 (式中、Xは酸素又は硫黄を表わす。RはC=
1〜10のアルキル基であり、Xが硫黄の場合に限
りRはアルカリ金属を表わすことがある。) 次いで、Xが酸素又は硫黄で、Rがアルキル基
の場合、アンモニアを反応させるが、Xが硫黄で
Rがアルカリ金属の場合、あらかじめアルキル化
した後、アンモニアと反応させることを特徴とす
る式〔〕で示されるヘキサメチレン・ビス−ジ
シアンジアミド の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13779778A JPS5564562A (en) | 1978-11-10 | 1978-11-10 | Preparation of hexamethylene bis-dicyandiamide |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13779778A JPS5564562A (en) | 1978-11-10 | 1978-11-10 | Preparation of hexamethylene bis-dicyandiamide |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5564562A JPS5564562A (en) | 1980-05-15 |
JPS6125027B2 true JPS6125027B2 (ja) | 1986-06-13 |
Family
ID=15207067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13779778A Granted JPS5564562A (en) | 1978-11-10 | 1978-11-10 | Preparation of hexamethylene bis-dicyandiamide |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5564562A (ja) |
-
1978
- 1978-11-10 JP JP13779778A patent/JPS5564562A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5564562A (en) | 1980-05-15 |
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