JPS61246381A - Vacuum treatment device - Google Patents

Vacuum treatment device

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JPS61246381A
JPS61246381A JP8632085A JP8632085A JPS61246381A JP S61246381 A JPS61246381 A JP S61246381A JP 8632085 A JP8632085 A JP 8632085A JP 8632085 A JP8632085 A JP 8632085A JP S61246381 A JPS61246381 A JP S61246381A
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JP
Japan
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sample
chamber
vacuum
buffer
processing
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山本 則明
Masaharu Saikai
西海 正治
Hironori Kawahara
川原 博宣
Takashi Fujii
敬 藤井
Tsuyoshi Takahashi
強 高橋
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Abstract

PURPOSE:To make system constitution possible by the constitution consisting in carrying a sample carried into a buffer chamber into a treatment chamber, treating the same therein, transferring the treated sample into the other buffer chamber provided successively therewith and treating further the sample thereby changing freely the number of the treatment chambers. CONSTITUTION:The sample 60 placed in a cassette 90 and carried into a vacuum preliminary chamber 50 of a vacuum treatment unit 10 is carried by a conveying belt 70 into the buffer chamber 20 the inside of which is made evacuatable through a gate valve 40. The above-mentioned sample 60 is then carried into the treatment chamber 30 provided with a sample electrode 31 by a rotary arm conveyor 80 consisting of an arm 82 and a holder 84 so that the sample is subjected to the prescribed vacuum treatment. The sample 60 after the treatment is transferred onto the conveying belt 110 by using the other arm 83 and holder 85 of the conveyor 80 and is carried into the buffer chamber 20 of the other vacuum treatment unit 10 provided successively therewith via a gate valve 100. The sample is further treated in the treatment chamber 30 in said chamber.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、真空処理装置に係り、特にドライエツチング
装嘗、プラズマCVD装置等の半導体製造工程における
真空処理装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a vacuum processing apparatus, and particularly to a vacuum processing apparatus used in a semiconductor manufacturing process such as a dry etching apparatus or a plasma CVD apparatus.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

最近の半導体製造プロセス技術の進歩は著しく、ドライ
エツチング装置においても1μmパターンを処理する機
種が現われ、注目を浴びている。このような微細化が進
むにつれ、試料は大工径化し、それに伴って半導体製造
装置の占有床面8Ilあたりのスループット(時間あた
りの試料処理枚数)を向上させることおよび製造プロセ
ス技術の多様化に応えることが大きな課題となりでいる
。このような要求を解決するためには装置を小形化する
とともに、種数の処理室を用いて多目的処理を行うこと
が必要で、しかも、プロセス変更やライン変更に対応し
て処理室数を目出に変えてシステムが構成あるいは編成
できる真空処理モジュールが要求されるようになりでき
た。これに対して、従来の、例えば、特開昭57−12
8928号公報に開示されているような処理室と大気中
での試料搬送ラインを結合したモジュールを増設できる
タイプでは清浄度の悪い大気中を経て試料が次の処理室
に搬送されるので、処理途中で次の処理室に処理を引き
継く゛ようなプロセス工程への適用にはむかない。また
、実開昭57−39430号公報に開示されているよう
ないくつかの処理室と一つのバッファ室との間を試料が
搬送されて連続的に処理されるようなタイプでは処理室
数が固定され、プロセス変更やライン変更に対応して処
理室数を変更したりする自由度がなく、使用しすらいと
いう問題点を有している。
Recent advances in semiconductor manufacturing process technology have been remarkable, and even dry etching devices that can process 1 μm patterns have appeared and are attracting attention. As such miniaturization progresses, samples are becoming larger in size, and as a result, it is necessary to improve the throughput (number of samples processed per hour) per 8 Il of occupied floor space of semiconductor manufacturing equipment and respond to the diversification of manufacturing process technology. This has become a major issue. In order to meet these demands, it is necessary to downsize the equipment and perform multi-purpose processing using a variety of processing chambers.Moreover, it is necessary to reduce the number of processing chambers in response to process changes and line changes. A need has arisen for vacuum processing modules that can be configured or organized into systems. In contrast, conventional methods such as JP-A-57-12
In the type disclosed in Publication No. 8928, in which a module can be added that combines a processing chamber and a sample transport line in the atmosphere, the sample is transported to the next processing chamber through an atmosphere with poor cleanliness. It is not suitable for application to process steps where processing is handed over to the next processing chamber midway through. In addition, in the type disclosed in Japanese Utility Model Application Publication No. 57-39430, in which a sample is transported between several processing chambers and one buffer chamber and is continuously processed, the number of processing chambers increases. The problem is that it is fixed and there is no flexibility to change the number of processing chambers in response to process changes or line changes, making it difficult to use.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、プロセス変更やライン変更に対応して
処理室数を自由に変えてシステム構成あるいは編成が。
An object of the present invention is to freely change the number of processing chambers in response to process changes or line changes, and to configure or organize the system.

できる真空処理装置を提供することにある。Our goal is to provide a vacuum processing device that can.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、真空排気可能なバッファ室と、該室に設けら
れた処理室と、前記バッファ室に真空間開閉手段を介し
て具設された真空予備室と、該室と前記バッファ室との
間で前記真空間開閉手段を介して試料を搬送する第1の
試料搬送手段と、該手段と前記処理室との間で前記バッ
ファ室内を通り試料を搬送する第2の試料搬送手段とを
具備した真空処理ユニットを1ユニットとして前記バッ
ファ空間若しくは前記真空予備室間を連通可能に少なく
とも2ユニット連設すると共に、前記バッファ室間若し
くは前記真空予備室間で試料を搬送する第3の試料搬送
手段を設けたことを特徴とするもので、真空処理装置を
プロセス変更やライン変更に対応して処理室数を自由に
変えてシステム構成あるいは編成ができる装置としよう
としたものである。
The present invention provides a buffer chamber that can be evacuated, a processing chamber provided in the chamber, a vacuum preliminary chamber provided in the buffer chamber via a vacuum opening/closing means, and a connection between the chamber and the buffer chamber. A first sample transport means for transporting the sample between the means and the processing chamber via the vacuum space opening/closing means, and a second sample transport means for transporting the sample through the buffer chamber between the means and the processing chamber. a third sample transport means for transporting the sample between the buffer spaces or the vacuum preparatory chambers, in which at least two vacuum processing units are connected as one unit so that the buffer spaces or the vacuum preparatory chambers can communicate with each other; This system is characterized by the provision of a vacuum processing apparatus, which allows the system configuration or organization to be configured by freely changing the number of processing chambers in response to process changes or line changes.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明の一実施例を第1図、第2図により説明する。 An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

第115!IIで、真空処理ユニット10は、真空排気
系(図示省略)が連結されたバッファ室mと、バラ  
     。
115th! In II, the vacuum processing unit 10 includes a buffer chamber m to which a vacuum exhaust system (not shown) is connected, and a
.

ファ室美に設けられた処理室(資)と、バッファ室(9
)に真空間開閉手段、例えば、ゲート弁明、41を介し
て具設された真空予備室50.51と、真空予備室間、
51とバッファ室(9)との間でゲート弁明、41を令
して試料ωを搬送する第1の試料搬送手段、例えば、搬
送ベルト70.71と、搬送ベルト70. nと処理霊
菌との間でバッファ室に内を通り試料ωを搬送する第2
の試料搬送手段、例えば、回転アーム搬送装置t8oと
を具備している。
The processing room (capital) and buffer room (9
) between a vacuum preliminary chamber 50 and 51 provided via a vacuum space opening/closing means, such as a gate valve 41, and a vacuum preliminary chamber 50,51,
51 and the buffer chamber (9), a first sample transport means for transporting the sample ω, for example, a transport belt 70.71 and a transport belt 70. A second tube transports the sample ω through the buffer chamber between n and the treated bacteria.
The apparatus is equipped with a sample transport means, for example, a rotary arm transport device t8o.

第1図で、処理室(9)内には、この場合、対向型f!
(図示省略)が略水平に内設されている。対向電極は接
地されている。対向電極の下方位置には試料電極31が
対向して設けられている。試料電極mには、バッファ■
外にある電源、例えば、高周波電源(図示省略)が接続
されている。試料電極31は、この場合、昇降動可能に
設けられており、上昇することで処理室(内をバッファ
霊菌内と気密に遮断する機能を有している。処理室(9
)には。
In FIG. 1, in the processing chamber (9), in this case, there is a facing type f!
(not shown) is installed substantially horizontally. The counter electrode is grounded. A sample electrode 31 is provided below the counter electrode to face it. The sample electrode m has a buffer ■
An external power source, for example, a high frequency power source (not shown) is connected. In this case, the sample electrode 31 is provided so as to be movable up and down, and has the function of airtightly isolating the inside of the processing chamber (9) from the buffer S. marcescens by rising.
)for.

気密封止された処理室菌内を真空排気する真空排気系(
図示省略)と気密封止された処理室(9)内に処理ガス
を供給するガス供給系(図示省略)とが連結されている
。試料電極31は、この場合、冷媒。
A vacuum exhaust system that evacuates the inside of the hermetically sealed processing chamber (
(not shown) is connected to a gas supply system (not shown) that supplies processing gas into the hermetically sealed processing chamber (9). In this case, the sample electrode 31 is a refrigerant.

例えば、冷却水にて冷却され、これにより、処理中の試
料ωを冷却する機能を有している。試料電極31の中央
部には、テーブルnが試料電極mの試料設置面以上の高
さレベルと試料設置面以下若しくは同等高さレベルとの
間で昇降可能に設けられている。テーブル(の大きさは
、試料ωの大きさよりも小さく・なっている。
For example, it is cooled with cooling water, thereby having the function of cooling the sample ω being processed. A table n is provided at the center of the sample electrode 31 so as to be movable up and down between a height level above the sample installation surface of the sample electrode m and a height level below or equivalent to the sample installation surface. The size of the table (is smaller than the size of the sample ω.

第1図で、ゲート弁明、41は、バッファ室(9)の処
理室加と対応する側壁に設けられている。真空予備室5
0.51は、この場合、分離独立させられている。つま
り、真空予備室間は、ゲート弁明を介してバッファ室題
に具設され、真空予備室51は、ゲート弁41を介して
バッファ室美に具設されている。真空予備室50.51
は、この場合、水平方向に併設されている。真空予備室
[株]、51には、真空排気系(図示省略)が連結され
ると共に、真空予備室間、51内を大気圧に戻すリーク
ガス供給系(図示省略)が連結されている。真空予備室
(資)、 51内の容積は、カセット90.91を収容
可能で該カセット90.91が間欠的に昇降動可能な大
きさとなっている。真空予備室50.51には、カセッ
ト搬入出用の扉(図示省略)が設けられている。
In FIG. 1, the gate valve 41 is provided on the side wall of the buffer chamber (9) corresponding to the processing chamber. Vacuum preliminary chamber 5
0.51 are separated and independent in this case. That is, the vacuum preliminary chamber 51 is connected to the buffer chamber through the gate valve 41, and the vacuum preliminary chamber 51 is connected to the buffer chamber through the gate valve 41. Vacuum preliminary chamber 50.51
In this case, they are arranged horizontally. A vacuum exhaust system (not shown) is connected to the vacuum preparatory chamber 51, and a leak gas supply system (not shown) is connected to return the inside of the vacuum preparatory chamber 51 to atmospheric pressure. The volume of the vacuum preliminary chamber 51 is large enough to accommodate a cassette 90.91 and to allow the cassette 90.91 to be moved up and down intermittently. The vacuum preliminary chamber 50, 51 is provided with a door (not shown) for loading and unloading the cassette.

第1図で、搬送ベルト70,71は、ベルト面を略水平
として併設されている。搬送ベルト70の一端は、真空
予備室器内でカセット匍との間で試料ωを受は渡し可能
な位置にあり、搬送ベルトnの一端は、真空予備室51
内でカセット91との間で試料ωを受は渡し可能な位置
にある。搬送ベルト70゜71の他端つオリバッファ室
り内端には、テーブルn、73が、搬送ベルト70.7
1のベルト面以上の高さレベルとそれ以下の高さレベル
との間で昇降動可能に設けられている。テーブルn、7
3の大きさは、給料ωの大きさよりも小さくなっている
。テーブル72.73とテーブルnとは、この場合、同
一円周上に配設されている。
In FIG. 1, conveyor belts 70 and 71 are placed side by side with their belt surfaces substantially horizontal. One end of the conveyor belt 70 is in a position where it can receive and pass the sample ω between it and the cassette cassette in the vacuum preliminary chamber, and one end of the conveyor belt n is located in the vacuum preliminary chamber 51.
The sample ω can be transferred between the sample ω and the cassette 91 within the cassette 91. At the other end of the conveyor belt 70.71 and at the inner end of the buffer chamber, a table n, 73 is attached to the conveyor belt 70.7.
It is provided so as to be movable up and down between a height level above the first belt surface and a height level below it. table n, 7
The size of 3 is smaller than the size of salary ω. Tables 72, 73 and table n are arranged on the same circumference in this case.

第1図で、回転アーム搬送装置soは、駆動装置(図示
省略)と回転軸81とアーム羽、0と保持真鯛、85と
で構成されている。回転軸81は、テーブル32.72
.73の配役中心を軸心としてバッファ室(9)に回転
自在を二設けられている。この場合、回転軸81は、そ
の下部をバッファ室(9)外1こ突出してバッファ霊菌
の底壁に気密を保持し回転自在に設けられている。駆動
装置は、バッファ霊菌外に設置され、回転軸81の下端
は、駆動装置に連接されている。アーム82.83は、
同一面内で回転作動可能に回転軸81の上部に片持ち支
持されている。保持真鯛、85は、この場合、試料ωを
裏面よりすくい保持するもので、アーム82. &lの
回転端に設けられている。アーム羽、83の回転軸81
への取付は間隔は、この場合、テーブル32.72.7
3の内のいずれか二つのテーブルに保持具84.85が
対応するような間隔となっている。
In FIG. 1, the rotary arm transport device so is composed of a drive device (not shown), a rotating shaft 81, an arm wing 0, and a holding red sea bream 85. The rotation axis 81 is connected to the table 32.72.
.. Two rotatable chambers are provided in the buffer chamber (9) with the center of the cast 73 as the axis. In this case, the rotary shaft 81 is rotatably provided in an airtight manner on the bottom wall of the buffer chamber (9) with its lower part protruding one step outside the buffer chamber (9). The driving device is installed outside the buffer S. marcescens, and the lower end of the rotating shaft 81 is connected to the driving device. Arm 82.83 is
It is supported in a cantilever manner on the upper part of the rotating shaft 81 so that it can rotate within the same plane. In this case, the holding red sea bream 85 holds the sample ω from the back side, and is attached to the arm 82. &l is provided at the rotating end. Arm wing, rotation axis 81 of 83
The mounting distance is in this case table 32.72.7
The spacing is such that the holders 84 and 85 correspond to any two of the tables.

第2因で、真空処理ユニット10が2ユニット用いられ
、この場合、バッファ室囚間を連通可能にゲート弁、仕
切具等の真空間開閉手段10Gを介して連設されている
。真空間開閉手段100は、バッファ室美の、この場合
、真空予備室間、51が具設された側壁と略直角をなす
側壁に設けられている。
For the second reason, two vacuum processing units 10 are used, and in this case, the buffer chambers are connected to each other via a vacuum space opening/closing means 10G such as a gate valve or a partition to enable communication between the buffer chambers. The vacuum space opening/closing means 100 is provided on a side wall of the buffer chamber, which in this case is approximately perpendicular to the side wall on which the vacuum preliminary chamber 51 is provided.

バッファ室旬間で真空間開閉手段100を介して試料ω
を搬送する第3の試料搬送手段が設けられている。第3
の試料搬送手段は、例えば、搬送ベルと110である。
The sample ω is passed through the vacuum space opening/closing means 100 in the buffer chamber.
A third sample transport means is provided for transporting the sample. Third
The sample transport means is, for example, a transport bell 110.

搬送ベルト110の、第2図では、左側のバッファ霊菌
内にある端には、テーブル111が搬送ベルト110の
ベルト面以上の高さレベルとそれ以下の高さレベルとの
間で昇降可能に設けられている。テーブル111は、テ
ーブル32.72.73と同一円周上でテーブルごとテ
ーブル73との間に配設されている。搬送ベルト110
の、′@2図では、右側のバッファ室美内各こある端に
は、テーブル112が搬送ベルト1)0のベルト面以上
の高さレベルとそれ以下の高さレベルとの間で昇降動可
能に設けられている。テーブル112は、テーブル32
,72゜73と同一円周上でテーブル72とテーブル7
3との間に配設されている。なお、男2図で、その他用
1図と同−装置等は同一符号で示し説明を省略する。
At the end of the conveyor belt 110, which is located inside the buffer on the left side in FIG. It is provided. The table 111 is disposed on the same circumference as the tables 32, 72, and 73, and between the table 73 and the table 73. Conveyor belt 110
In Figure 2, there is a table 112 at each end of the buffer chamber on the right that moves up and down between the height level above the belt surface of the conveyor belt 1) and the height level below. possible. Table 112 is table 32
, 72° and table 7 on the same circumference as 73.
It is located between 3 and 3. Note that the same devices and the like in Figure 2 for men and Figure 1 for others are designated by the same reference numerals and their explanations will be omitted.

第2図で、例えば、左側の真空処理ユニット10の真空
予備室関門にカセット美が搬入され、右側の真空処理ユ
ニット10の真空予備室51内にカセット91が搬入さ
れる。カセット匍には、試料(イ)が所定枚数収納され
ており、カセット91は、空である。
In FIG. 2, for example, a cassette is carried into the vacuum preliminary chamber barrier of the vacuum processing unit 10 on the left, and a cassette 91 is carried into the vacuum preliminary chamber 51 of the vacuum processing unit 10 on the right. A predetermined number of samples (a) are stored in the cassette holder, and the cassette 91 is empty.

真空予備室50.51はそれぞれのバッファ霊菌の圧力
と同圧力に真空排気される。その後、左側の真空処理ユ
ニット10のゲート弁φが開けられ、カセット匍を1ピ
ツチ下降させることで、搬送ベルト70の一端には、試
料ωが渡される。この試料ωは、搬送ベルト70を作動
させることで、ゲート弁菊を介して真空予備室間からバ
ッファ室(9)内に搬送され、テーブル72に対応した
位置でその搬送を停止される。その後、この試料ωは、
テーブル72を上昇させることで、搬送ベルト70から
テーブルnに渡される。その後、この試料ωは、回転ア
ーム搬送装置1lf80る作動させることで、テーブル
72から、例えば、保持具δに渡され、保持具めですく
い保持された状態でテーブル(に対応する位置まで搬送
される。その後、この試料ωは、テーブル!を上昇サセ
ルコとで、保持具おからテーブル(に渡される。試料ω
をテーブルにに渡した回転アーム搬送装置(資)の保持
具δは、試料電極31の上昇を阻害しない位置に待機さ
せられる。試料ωを受は取った後、テーブルβを下降さ
せることで、この試料ωは、テーブル鵠から試料型[i
31に渡され、これにより、試料ωは、被処理面上向姿
勢にて試料電極31の試料設置面に設置される。その後
、試料電極31を上昇させる千とで、処理室(9)内は
、ペッ7ア室前と気密に遮断される。この状態で、試料
ωの被処理面は、ガスプラズマにより、例えば、ドライ
エツチング−次処理(荒加工)される。この処理完了後
、試料電極註は下降させられ、これにより、処理室(資
)内はバッファ室I内と再び連通状態となる。その後、
テーブル(を上昇させることで、−次処理済みの試料ω
は、試料電極31から除去されてテーブル(に渡される
。その後、この−次処理済みの試料ωは、回転アーム搬
送装aI80の作動によりテーブル&から1例えば、保
持真田に渡されてテーブル111に対応する位lまで搬
送される。その後、この−次処理済みの試料ωは、テー
ブル111を上昇させることで、保持具δからテーブル
lllに渡され、テーブル111を下降させることで、
テーブル111から搬送ベルト11Gに渡される。その
後、この−次処理済ゑの試料■は、搬送ベルト11Gを
作動させる二とで、開放している真空間開閉手段100
を介して左側の真空処理ユニット10のバッファ室■内
から右側の真空処理ユニット10のバッファ室m内へと
搬送され、テーブル112に対応した位置でその搬送を
停止される。
The vacuum preliminary chambers 50 and 51 are evacuated to the same pressure as the pressure of each buffer S. marcescens. Thereafter, the gate valve φ of the left vacuum processing unit 10 is opened, and the cassette cassette is lowered one pitch, thereby transferring the sample ω to one end of the conveyor belt 70. By operating the conveyor belt 70, this sample ω is conveyed from the vacuum preliminary chamber to the buffer chamber (9) via the gate valve, and its conveyance is stopped at a position corresponding to the table 72. After that, this sample ω is
By raising the table 72, the material is transferred from the conveyor belt 70 to the table n. Thereafter, by operating the rotary arm transport device 1lf80, the sample ω is transferred from the table 72 to, for example, a holder δ, and is conveyed to a position corresponding to the table while being scooped and held by the holder. .Then, this sample ω is passed to the holder okara table (sacerco) and the table is raised.Sample ω
The holder δ of the rotary arm transfer device (equipment), which has passed the sample electrode 31 onto the table, is placed on standby at a position where it does not inhibit the rise of the sample electrode 31. After receiving the sample ω, by lowering the table β, the sample ω is transferred from the table to the sample type [i
31, and as a result, the sample ω is placed on the sample installation surface of the sample electrode 31 with the surface to be processed facing upward. Thereafter, when the sample electrode 31 is raised, the inside of the processing chamber (9) is hermetically sealed off from the front of the processing chamber. In this state, the surface of the sample ω to be processed is subjected to, for example, a dry etching process (rough processing) using gas plasma. After this process is completed, the sample electrode is lowered, thereby bringing the inside of the process chamber into communication with the inside of the buffer chamber I again. after that,
By raising the table (), - next processed sample ω
is removed from the sample electrode 31 and passed to the table. Thereafter, this next-processed sample ω is transferred from the table &1, for example, to a holding Sanada, by the operation of the rotary arm transfer device aI80 and transferred to the table 111. The next-processed sample ω is then transferred from the holder δ to the table Ill by raising the table 111, and by lowering the table 111,
It is passed from the table 111 to the conveyor belt 11G. Thereafter, this next-processed sample (2) is transferred to the opened vacuum space opening/closing means 100 by operating the conveyor belt 11G.
It is transported from the buffer chamber 1 of the left vacuum processing unit 10 to the buffer chamber m of the right vacuum processing unit 10 through the buffer chamber 10, and the transport is stopped at a position corresponding to the table 112.

このように、右側の真空処理ユニット10のバッファ内
に搬送されてきた一次処理済みの試料ωは、テーブル1
12を上昇させることで、搬送ベルト110からテーブ
ル112に渡される。その後、この−次処理済みの試料
印は、回転アーム搬送g!!(資)を作動させることで
、テーブル112から1例えば、保持具あに渡され、保
持真鯛ですくい保持された状態でテーブルnに対応する
位置まで搬送される。
In this way, the sample ω that has undergone the primary processing and has been transported into the buffer of the vacuum processing unit 10 on the right side is transferred to the table 1.
12 is raised, the paper is transferred from the conveyor belt 110 to the table 112. After that, this next processed sample mark is transported by the rotating arm g! ! By activating (capital), the fish is transferred from the table 112 to, for example, a holder, and transported to a position corresponding to the table n while being scooped and held by the holding red sea bream.

その後、この−次処理済みの試料ωは、テーブル諺を上
昇させることで、保持具網からテーブル諺に渡される。
Thereafter, this next-processed sample ω is transferred from the holder net to the table by raising the table.

−次処理済みの試料ωを渡した回転アーム搬送装置(資
)の保持具滉は、試料電極31の上昇を阻害しない位置
に待機させられる。一方、テ      1−プル冨を
下降させることで、−次処理済みの試料釦は、テーブル
nから試料電極阻に渡され、これにより、−次処理済み
の試料ωは、被処理面上向姿勢にて試料電極31の試料
設置面に設置される・その後・試料電極類を上昇させる
ことで、処理室(9)内は、バッファ室々内と気密に遮
断されろ。この状態で、−次処理済みの試料ωの被処理
面は、ガスプラズマにより仕上げ処理される。この処理
完了後、試料電f!31は下降させられ、これにより、
処理室(9)内はバッファ室り内と再び連通状態となる
。その後、テーブル諺な上昇させることで、仕上げ処理
済みの試料印は、試料電極類から除去されてテーブル冨
に渡される。その後、この仕上げ処理済みの試料ωは、
回転アーム搬送装置(資)の作動によりテーブル翌から
、例えば、保持具Uに渡されてテーブルnに対応する位
置まで搬送される。
- The holder of the rotary arm transfer device (equipment) to which the next processed sample ω was delivered is kept on standby at a position that does not inhibit the rise of the sample electrode 31. On the other hand, by lowering the table 1-pull, the -next-processed sample button is transferred from the table n to the sample electrode block, and as a result, the -next-processed sample ω is placed in an upward position on the surface to be processed. The inside of the processing chamber (9) is airtightly isolated from the inside of the buffer chambers by raising the sample electrodes that are installed on the sample installation surface of the sample electrode 31. In this state, the surface of the sample ω that has been subjected to the subsequent treatment is subjected to finishing treatment using gas plasma. After completing this process, the sample voltage f! 31 is lowered, thereby
The inside of the processing chamber (9) is brought into communication with the inside of the buffer chamber again. Thereafter, by raising the table, the finished sample mark is removed from the sample electrodes and transferred to the table. After that, this finished sample ω is
By the operation of the rotary arm conveyance device (equipment), the table is transferred to, for example, a holder U and conveyed to a position corresponding to table n.

その後、テーブルnを上昇させることで、この仕上げ処
理済みの試料ωは、保持真鯛からテーブルnに渡され、
テーブルnを下降させることで、テーブルnから搬送ベ
ルトnに渡される。その後、ゲート弁41が開放され、
搬送ベルト71を作動させることで、この仕上げ処理済
みの試料ωは、バッファ室(9)から真空予備室51ヘ
ゲート弁41を介して搬送される。真空予備室51内に
搬入された仕上げ処理済みの試料ωは、搬送ベルトnか
らカセット91に渡され回収される。
After that, by raising table n, this finished sample ω is passed from the holding red sea bream to table n,
By lowering table n, it is passed from table n to conveyor belt n. After that, the gate valve 41 is opened,
By operating the conveyor belt 71, the finished sample ω is conveyed from the buffer chamber (9) to the vacuum preliminary chamber 51 via the gate valve 41. The finished sample ω carried into the vacuum preliminary chamber 51 is transferred from the conveyor belt n to the cassette 91 and collected.

本実施例では、次のような効果を得ることができる。In this embodiment, the following effects can be obtained.

(1)  プロセス変更やライン変更に対応して処理室
数を自由に変えてシステム構成あるいは編成ができる。
(1) The system can be configured or organized by freely changing the number of processing chambers in response to process changes or line changes.

(2)  試料は、真空排気されているバッファ室を経
て次の処理室に搬送されるため、処理途中で次の処理室
へ処理を引継く゛ようなプロセス工程にも問題なく適用
できる。
(2) Since the sample is transported to the next processing chamber via the evacuated buffer chamber, it can be applied without any problem to process steps where the processing is taken over to the next processing chamber midway through processing.

(3)回転アーム搬送装置を1台設けるだけで、各搬送
ベルトと処理室との間の試料搬送を行うことができるた
め、装置構成を簡素化でき装置価格を低減できる。
(3) Since the sample can be transported between each transport belt and the processing chamber by providing only one rotary arm transport device, the device configuration can be simplified and the cost of the device can be reduced.

1E3図は、本発明の他の実施例を示すもので、上記一
実施例を示すjl!2図と興なる点は、真空処理ユニッ
トlOが2ユニット用いられ、二の場合、真空予備室5
1.50間を連通可能暑こ真空間開閉手段100′を介
して連設されると共に、真空予備室間。
Figure 1E3 shows another embodiment of the present invention, and Figure 1E3 shows the above embodiment. What is different from Figure 2 is that two vacuum processing units IO are used, and in the case of Figure 2, the vacuum preliminary chamber 5 is used.
1.50mm can be communicated between the vacuum chamber and the vacuum preliminary chamber.

51で真空間開閉手段100′を介して試料ωを搬送す
る第3の試料搬送手段、例えば、搬送ベルト110’が
設けられている点である。したがって、この場合、上記
の一次処理済みの試料ωは、左側の真空処理ユニツl−
10の真空予備室51かも真空間開閉手段100′を介
して右側の真空処理ユニット1oの真空予備室間に搬送
される。真空予備室間に搬入された一次処理済みの試料
ωは、バッファ室温を通って処理室間に搬入され、ここ
で仕上げ処理された後にバッファ室□□□を通って真空
予備室51に搬入されカセット91に回収される。なお
、第3図で、第2図と同−装置等は、同一符号で示し説
明を省略する。
51, a third sample transport means, for example, a transport belt 110', is provided to transport the sample ω via the vacuum space opening/closing means 100'. Therefore, in this case, the sample ω that has been subjected to the primary treatment is transferred to the left vacuum processing unit l-
The 10 vacuum preparatory chambers 51 are also transferred between the vacuum preparatory chambers of the right vacuum processing unit 1o via the vacuum space opening/closing means 100'. The sample ω that has undergone the primary processing and is carried between the vacuum preliminary chambers is carried between the processing chambers through the buffer room temperature, where it is subjected to finishing treatment, and then carried into the vacuum preliminary chamber 51 through the buffer chamber □□□. It is collected into a cassette 91. Note that in FIG. 3, the same devices as those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and the explanation thereof will be omitted.

本実施例では、上記実施例での効果と同様の効果を得る
ことができる。
In this embodiment, the same effects as those in the above embodiments can be obtained.

なお、上記一実施例でのテープnとテーブル111゜テ
ーブル72とテーブル112を一つのテーブルとし、例
えば、搬送ベルト110を昇降動可能に設けるようにし
ても良い。
Note that the tape n and the table 111, the table 72, and the table 112 in the above embodiment may be made into one table, and the conveyor belt 110 may be provided to be movable up and down, for example.

また、第1図に示す真空処理ユニットをそのまま1台の
真空処理装置として使用することもできる。このような
場合、例えば、真空予備室間には、試料ωを所定枚数収
納したカセット90が搬入され真空予備室51には、回
収用の空のカセットが搬入されると共に、搬送ベルト7
0が、ローディング用の試料搬送手段として使用され、
搬送ベルトnがアンミーディング用の試料搬送手段とし
て使用される。
Further, the vacuum processing unit shown in FIG. 1 can be used as is as one vacuum processing apparatus. In such a case, for example, a cassette 90 containing a predetermined number of samples ω is carried between the vacuum preliminary chambers, an empty cassette for collection is carried into the vacuum preliminary chamber 51, and the conveyor belt 7
0 is used as a sample transport means for loading,
A conveyor belt n is used as a sample conveyor for unmeading.

更に、バッファ室と真空予備室との間で試料を搬送する
第1の試料搬送手段およびバッファ室間若しくは真空予
備室間で試料を搬送するgJ3の搬送手段は、上記実施
例での搬送ベルトの他に保持具を直進若しくは部分回動
により往復動させるような手段であっても良い。また、
保持具は、試料を機械的に掴み保持するものや電磁力に
より掴み保持若しくは吸着保持するようなものであって
も良い。
Furthermore, the first sample transport means for transporting the sample between the buffer chamber and the vacuum preparatory chamber and the transport means of gJ3 for transporting the sample between the buffer chambers or the vacuum preparatory chamber are similar to the transport belt in the above embodiment. Alternatively, a means for reciprocating the holder by moving it straight or by partially rotating it may be used. Also,
The holder may be one that mechanically grips and holds the sample, or one that grips and holds the sample by electromagnetic force or holds it by suction.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、以上説明したように、プロセス変更やライン
変更に対応して処理室数を自由に変えてシステム構成あ
るいは編成ができる真空処理装置を提供できるという効
果がある。
As explained above, the present invention has the advantage of providing a vacuum processing apparatus that can freely change the number of processing chambers and configure or organize the system in response to process changes or line changes.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図、第2図は、本発明による真空処理装置の一実施
例を示すもので、第1図は、真空処理ユニットの平面図
、第2図は、第1図の真空処理ユニットを2ユニット連
設した真空処理装置の平面図、′@3図は、本発明によ
る真空処理装置の他の実施例を示す平面図である。 加・・・・・・バッファ室、(資)・・・・・・処理室
、旬、41・・曲ゲート弁、(資)、51・・・・・・
真空予備室、70.71. 110゜110’・・・・
・・搬送ベルト、ω・・・・・・回転アーム搬送*f、
牙l圀 1lO−・−一−・祷映迫(ペクレト 才3図
1 and 2 show an embodiment of the vacuum processing apparatus according to the present invention. FIG. 1 is a plan view of the vacuum processing unit, and FIG. A plan view of a vacuum processing apparatus in which units are connected in series, FIG. 3 is a plan view showing another embodiment of the vacuum processing apparatus according to the present invention. Add...Buffer room, (fund)...Processing room, 41...Curved gate valve, (fund), 51...
Vacuum preliminary chamber, 70.71. 110°110'...
...Transport belt, ω...Rotating arm transport *f,
Fang Ikuni 11O-・-1-・Yeieisako (Pekreto Sai 3rd figure)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、真空排気可能なバッファ室と、該室に設けられた処
理室と、前記バッファ室に真空開閉手段を介して具設さ
れた真空予備室と、該室と前記バッファ室との間で前記
真空開閉手段を介して試料を搬送する第1の試料搬送手
段と、該手段と前記処理室との間で前記バッファ室内を
通り試料を搬送する第2の試料搬送手段とを具備した真
空処理ユニットを1ユニットとして前記バッファ室間若
しくは前記真空予備室間を連通可能に少なくとも2ユニ
ット連設すると共に、前記バッファ室間若しくは前記真
空予備室間で試料を搬送する第3の試料搬送手段を設け
たことを特徴とする真空処理装置。
1. A buffer chamber that can be evacuated, a processing chamber provided in the chamber, a vacuum preliminary chamber provided in the buffer chamber via a vacuum opening/closing means, and a A vacuum processing unit comprising a first sample transport means for transporting a sample via a vacuum opening/closing means, and a second sample transport means for transporting the sample through the buffer chamber between the means and the processing chamber. At least two units are connected as one unit so that the buffer chambers or the vacuum preparatory chambers can communicate with each other, and a third sample transport means for transporting the sample between the buffer chambers or the vacuum preparatory chambers is provided. A vacuum processing device characterized by:
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Cited By (7)

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