JPS61245488A - 薄膜ｅｌデイスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は薄膜ＩＬＬパネルの製造方法に関し、特ニマ
トリックス型薄膜ＫＬパネルのＥＬ層を形成す・る場合
に利用されるものである。

従来の技術 従来、交流動作の薄膜ＫＬ素子に関して、発光層に規則
的に高い電界（１０’Ｖ／ｃｒｎ程度）を印加し、絶縁
耐圧、発光効率及び動作の安定性等を高めるために、０
．１〜１．　Ｏωｔ％のＭｎ（あるいはＣｕ％Ａｔ、Ｂ
ｒ等）をドープしたＺｎＳ、Ｚｎ５ｓ等の発光層をＹ、
０３、Ｔ１２，０．等の誘電体薄膜でサントイ・フチし
た三層構造ｚｎＳ：Ｍｎ（又はＺｎ５ｅ：Ｍｎ）ＫＬ素
子が開発され、発光緒特性の向上が確かめられている。

この薄膜ＥＬ素子は数ＫＨｚの交流電界印加によって高
輝度発光し、しかも長寿命であるという特徴を有してい
る。

薄膜ＫＬ素子・を用いたディヌデレイパネルの１例の基
本的構造を第２図に示す。なお、第２図の左半分は透明
電［２に平行なＸ方向の断面図を示し。右半分は透明電
極２に直交するＹ方向の断面図を示す。

第２図に基いて薄膜１１ｍＬディスプレイパネルの構造
を具体的に説明すると、硬質かつ透明の前面ガラヌ基板
１上に、Ｘ方向に所定ピ・フチでＩｎ、Ｏ。

ＳｎＯ，等のストライプ状の透明電極２を形成し、その
上に８５層３が形成されている。この８５層３は、前記
透明電極２の上に積層してｙｓ　ｏ、　、”ｔ○１、Ａ
ｌ１　Ｏ，、Ｂｉ、ａ　Ｎａ、Ｓｉｎ、等からなる第１
の誘電体層４がスバ、ツタあるいは電子ビーム蒸着法等
により形成されている。第１の誘電体層４上にはＺｎＳ
：Ｍｎ焼結ベレ、ソトを電子ビーム蒸着することにより
得られるＺｎＳ発光層５が形成されている。この時蒸着
用のＺｎ　Ｓ　：　Ｍｎ焼結ベレ、ソトには活性物質と
なるＭｎが目的に応じた濃度に設定されたベレットが使
用される。ＺｎＳ発光層５上には第１の誘電体層４と同
様または異質の材質から成る第２の誘電体層６が積層さ
れ、更にその上にＡｔ等から成るストライプ状の背面電
４Ｍ７が、Ｙ方向に所定ピ、ソチで平行状に蒸着形成さ
れている。透明電極２と背面電極７は互いに直交する如
く複数本配列されたマトリックス電極構造が採用されて
おり、透明電極２と背面電極７が平面図的に見て交叉し
た位置がパネルの１画素に相当する。８は前記透明電極
２および背面電極７に重畳して形成された端子部で、例
えばＴｉ層、　Ａ４層およびＮｉ層を順次積層して蒸着
することにより形成されている（特開昭５９−１８２４
２８号）。前記ＥＬ層８を収納する如く、皿状のカバー
ガラス９がガラス基板１上に重畳され、その内部間隙に
８５層３が内蔵される。ガラス基板１とカバーガラス９
の接合部はエポキシ樹脂、光硬化性樹脂（フォトボンド
）等の接着剤で密閉されている。即ち、ガラス基板１と
カバーガラス９はＫＬ層３に対する外囲器を構成する。

そしてこの外囲器内には、注入孔１０からシリコンオイ
ル、真空グリース等の８５層３の保護用の絶縁性保護流
体１１が充填封入されて、前記注入孔ｌＯはガラス蓋板
１２等で閉止されている（特開昭５２−１２７７９０号
公報）。

前記透明電極２および背面電極７の端子部８には、それ
ぞれフレキシブルリード（図示せず）の端子部が半田付
けされ、このフレキシブルリードはそれぞれスイッチを
介して、駆動電源に接続される。

上記の構成において、スイッチを閉じて選択された透明
電極２および背面電極７間に駆動電圧を印加すると、発
光層５０両側の誘電体層２．６間に上記ＡＣ電圧が誘起
されることになり、従って発光層５内に発生した電界に
よって伝導体に励起され、かつ加速されて充分なエネル
ギーを得た電子が、直接Ｍｎ発光センターを励起し、励
起されたＭｎ発光センターが基底状態に戻る際に橙黄色
の発光を行う。即ち、高電界で加速された電子が発光層
４中の発光センターであるＺｎサイトに入ったＭｎ原子
の電子を励起し、基底状態に落ちる時、略々５８５０Ａ
をピークに幅広い波長領域で強い発光を呈する。

上記の如き構造を有する薄膜ＥＬディスプレイパネルは
、スペースファクタの利点を生かした平面薄型ディヌプ
レイデバイスとして、文字及び図形を含むコンピュータ
ーの出力表示端末機器その他種々の表示装置に文字、記
号、静止画像、動画像等の表示手段として利用すること
ができ非常に有効なものである。

絶縁性保護流体１１は、：ＥＬ層８の誘電体層に、製造
工程途中で発生した多数のピンホールやマイクロクラッ
ク等を含み、これらの欠陥を通して発光層４に湿気等が
侵入するため、ＫＬ発光損失による発熱、層間剥離、素
子特性の劣化等を招来するのを防止するとともに、ピン
ホール等によって通電時に生じるブレークダウンのため
起こる微小な熱損傷領域の拡大を防止、固定化し、大気
環境下で湿気保護、放熱効果に役立ち、さらにカバーガ
ラス９は、振動、たわみに対しても有効となる。

発明が解決しようとする問題点 ところで、上記の薄膜ＫＬディスプレイパネルを製造す
る場合、従来第８図に示すように、透明電極２を形成後
、端子部８を形成し、透明電極２上に１ｕＬ層８を形成
し、全体を加熱することにより製造していた。

しかしながら、上記の従来方法によれば、端子部８を形
成後のガラス基板１への密着強度が小さく、ＩＩ、層８
の形成前のマスクの目合せ時等に端子部８が剥離しやす
いし、また、ガラス基板１や透明電極２上にゴミ等の異
物が付着した状態でＥ５層３を形成すると、ピンホール
が形成されやすく、放電が発生し、背面電極７の断線等
も生じやすかった。一方、ＥＬ層３の形成前にガラス基
板１を洗浄すると、端子部８が剥離するという問題点が
あった。

そのため、この発明は上記の問題点にかんがみ、端子部
の剥離がなく、ＥＬ層にピンホールのない薄膜ディスプ
レイパネルの製造方法を提供することを目的とする。

問題点を解決するだめの手段 そこで、この発明は、絶縁基板に透明電極を形成する工
程と、絶縁基板を加熱しながら前記透明電極の端部上お
よび前記透明電極と直交する方向に複数の端子部を形成
する工程と、前記絶縁基板を洗浄する工程と、前記透明
電極上にＥＬ層を形成する工程とを含むことを特徴とす
るものである。

作用 上記の手段によれば、端子部の絶縁基板に対する密着強
度が増大し、後の加熱工程が不要になるばかりでなく、
洗浄しても端子部が剥落しないので、絶縁基板を積浄な
状態にしてＦｌｉＬ層を形成することが可能になり、ピ
ンホールの少ないＥＬ層が形成でき、放電による背面電
極の断線もなくなる。

実施例 以下、この発明の一実施例について、図面を参照して説
明する。

第１図はこの発明の製造方法の工程プロ・ツク図である
。まず、ガラス基板１の上面全面に工、　Ｔ、　ｏ。

等よりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜に周知
のフォトエ・フチングを行なって、幅０，２３■ピッチ
０．４６ｍのストライプ状でかつ平行状の多数の透明電
極２を形成する。

次に、ガラス基板１に所定パターンの開口部を有するマ
スクを重ね合せて、ガラス基板１を２００〜４００℃に
加熱しながら、Ｔ　ｉ、層を厚さ５００人程度に、Ａｔ
層を厚さＩＧＯＯＡ程度に、Ｎｉ層を厚さ１００ＯＡ程
度に順次積層して端子部８を形成する。

こののち、上記端子部８を形成したガラス基板１全体を
、水洗して表面を清浄化し、乾燥する。

次に、ガラス基板１にマスクを重ねて、ＥＬ層３、すな
わち第１の誘電体層４９発光層５．第２の誘電体層６を
順次積層して形成し、さらに第２の誘電体層６の上に、
前記透明電極２と直交する方向の幅０．２８　ｍでピ、
ソチ０．４６ｍのストライプ状の多数の背面電極７を、
その一端が前記端子部８に重畳するように形成する。

以下、従来と同様の方法で、第２図と同様の薄［Ｌディ
スプレイパネルを製作した。

上記の薄膜ＫＬディヌデレイパネルにおいては、ＥＬ層
３のピンホーｐがなく、放電による背面電：；極７の断
線が生じなかった。

発明の効果 この発明によれば、絶縁基板を加熱しながら端子部を形
成するので、端子部の形成後加熱工程を設けなくても、
絶縁基板に対する端子部の密着強度が大きくなシ、製造
工程が短縮でき、しかも洗浄しても端子部が剥落しない
ので、絶縁基板を清浄な状態でＥＬ層を形成することが
でき、ビンホーμのないＥＬ層を形成することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の薄膜ＥＬディスプレイパ
ネルの製造方法について説明するだめの工程ブロウク図
である。 第２図は薄膜ＶＬディスプレイパネルの断面図である。 第３図は従来の薄膜１１ＣＬデイスプレイパネルの製造
方法について説明するための工程プロ、ツク図である。 １・・・・・・・・・絶縁基板（ガラス基板）、２・・
・・・・・・・透明電極、 ３・・・・・・・・・ＥＬ層、 ４・・・・・・・・・第１の誘電体層、５・・・・・・
・・・発光層、 ６・・・・・・・・・第２の誘電体層、７・・・・・・
・・・背面電極、

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　（ａ）　絶縁基板に透明電極を形成する工程と、 （ｂ）　絶縁基板を加熱しながら、前記透明電極の端
   部上および前記透明電極と直交する方向に複数の端子部
   を形成する工程と、 　（ｃ）　前記絶縁基板を洗浄する工程と、 　（ｄ）　前記透明電極上にＥＬ層を形成する工程とを
   含むことを特徴とする薄膜ＥＬディスプレイパネルの製
   造方法。