JPS61244040A - ウエハ移載具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ウェハ移載具を以下の順序で説明する。

Ａ、産業上の利用分野 Ｂ０発明の概要 Ｃ０背景技術Ｃ第５図Ｊ Ｄ０発明が解決しようとする問題点 Ｅ９問題点を解決するための手段 ２９作用 Ｇ、実施例［第１図乃至第４図１ Ｈ０発明の効果 （Ａ、産業上の利用分野） 本発明はウェハ移載具、特にウェハカセット等とウェハ
ポート等との間で多数のウェハを同時に移送するウェハ
移載具に関するものである。

（Ｂ、発明の概要） 本発明は、垂直且つ平行に保持され互いの間隔が可変に
された一対の保持板から成り各保持板の対向面く形成さ
れた保持溝間にウェハを垂直に保持するウェハ移載具に
おいて、ウェハの保持される高さが一部のウェハと他の
ウェハとで異なるようにすることを特徴とするものであ
り、このようにすることにより従来においての全部のウ
ェハが同時にウェハボート上に置かれることによって生
じたウェハボートあるいは半導体ウェハのチッピング、
そして全ウェハをウェハポートから同時に離すことによ
ってウェハポートの喰い付きにより生じたウェハポート
の持ち上りを防止するものである。

（Ｃ，背景技術）［第５図］ ＩＣ，ＬＳＩ等を形成する半導体ウェハは、拡散、ＣＶ
Ｄ等の処理が為されていないときは第５図に示すウェハ
カセッ）ａに収納されている。１つのウニへカセットａ
に収納される半導体ウェハｂ、ｂ、・・・の枚数は例え
ば２５枚である。該ウニへカセットａは一対の保持板Ｃ
，Ｃを垂直且つ平行に対向させ、該保持板Ｃ，Ｃどうし
をその前後両端部にて連結片ｄ、ｄ（一方の連結片ｄは
図面に現われていない）により連結してなる。そして、
各保持板ｃ、ｃの対向面ｅ、ｅには保持板Ｃ，Ｃの上端
から下方へ中間部まで延びるウェハ保持溝ｆ、ｆ、・・
・が例えば２５ずつ形成されている。

このウニへカセットａに収納された２５枚の半導体ウェ
ハｂ、ｂ、−・・は例えば拡散等の処理をするとき例え
ば石英等の耐熱性の良い材料からなるウェハポートｇに
移しかえ、ウェハポートｇ上に保持された状態で拡散炉
等の炉内に入れて処理をする必要がある。又、その処理
を終えたら炉内からウェハポートｇを引き出し、そのウ
ェハポートｇ上の半導体ウェハｂ、ｂ、・・・をウェハ
カセツ）ａ内に戻さなければならない、ちなみに、該ウ
ェハポートｇは平行に配置された保持棒り、ｈの両端ど
うしを連結片ｉ、Ｉにて連結し、保持棒り、ｈに半導体
ウェハを保持する保持溝ｊ、ｊ、　　・拳・を形成して
なるものである。

ところで、拡散等の処理をするために上記ウェハカセッ
）ａからウェハポートｇへ半導体ウェハｂ、１）、ｓｅ
ｅを移しかえるには第５図に示すウェハ移、載具ｋが用
いられる。該ウェハ移載具には支持片ｔ、１を介して図
示しないウェハ移載機により垂直且つ互いに平行に支持
された一対の保持板ｍ、ｍからなる。該保持板ｍ、：ｍ
とは互いに同形同大に形成されており、その下側の略半
部ｎ、ｎはそれよりも上側の部分よりも薄く形成され、
その下半部ｎ、ｎの内側面０、Ｏが下側へ行く程内側に
寄るように弧状に凹曲せしめられている。そして、その
厚くされた部分ｎ、ｎの内側面ｏ、ｏに半導体ウェハｂ
をその周縁にて垂直に保持する保持溝ｐ、ｐ、・・・　
（尚、一方の保持板、即ち第５図における斜め右下側の
保持板ｍの保持溝ｐ、ｐ、　　ψ−・は図面に現われな
い、）が形成されている。＃保持溝ｐ、ｐ、・・・の底
面は半導体ウェハｂの周面に沿うように凹曲せしめられ
ている。そして、一対の保持板ｍ、ｍの保持溝ｐ、ｐ、
　　・・ψの間に半導体ウェハｂ、ｂ、　　・・・が垂
直に保持され得るようにされている。

このウェハ移載具にの保持板ｍ、ｍ間の間隔はそれを保
持するウェハ移載機によって広めたり、狭めたりするこ
とができるようにされており、狭められたとき半導体ウ
ェハｂ、ｂ、　　−・φを保持する保持状態になり、広
められたときウェハを開放する開放状態になるようにな
っている。

ところで、このようなウェハ移載具ｋによりウェハカセ
ッ）ａからウェハポートｇへの半導体ウェハｂ、ｂ、・
拳φの移送は次のようにして為される。

半導体ウェハｂ、ｂ、・・・を保持した状態のウェハカ
セッ）ａのすぐ上側にウェハ移載具ｋを開放状態にして
位置させ、リフト板ｑによりウェハカセットａ内の全半
導体ウェハｂ、ｂ、−−−を下側から上側に押して持ち
上げ、全半導体ウェハｂ、ｂ、　　φ・・が開放状態に
あるウェハ移載具にの保持板ｍ、ｍの互いに対向する保
持溝ｐとｐとの間に位置するようにする。その後、ウェ
ハ移載機により保持板ｍ、ｍ間を狭めてウェハ移載具ｋ
をウェハ保持状態にする。しかし、ウェハ移載具ｋがウ
ェハ保持状態にされても半導体ウェハｂ、ｂ、　　・・
・はウェハ移載具ｋによって保持される高さ、よりも稍
高いところに位置されているので、保持板ｍ、ｍ間に保
持された状態から稍浮いた状態になっている０次いで、
その状態でウェハ移載具ｋを上昇させる。すると、上昇
の途中で全半導体ウェハｂ、ｂ、・ΦΦがウェハ保持状
態にあるウェハ移載具にの保持溝ｐ、ｐによって完全に
保持された状態になり、その後はウェハ移載具の上昇に
伴って半導体ウェハｂ、ｂ、　　ψΦ・が上昇せしめら
れる。そして、やがて半導体ウニ／％ｂ、ｂ、・・Φが
ウェハカセッ）ａから完全に離脱した状態になる。する
とウェハ移載具ｋが上昇を停止し、次いで横方向に移動
してウェハボートｇ上に位置し、必要に応じて下降し、
半導体ウェハｂ、ｂ、・・・の下部をウェハポートｇの
保持溝５．１．番・・の稍上方に位置させ、その後、ウ
ェハ移載具ｋを開放状態にし、半導体ウェハｂ、ｂ、・
拳・が保持溝ｊ、ｊ、−・拳内に稍落ちて保持溝ｊ、ｊ
、・拳・により保持された状態にする。又、ウェハポー
トｇからウェハカセットａへ半導体ウェハｂ、ｂ・拳争
を移送するときは上記の一例の動作と全く逆の動作を行
う。

ところで、半導体ウェハｂ、ｂ、・拳・を移送する従来
のウェハ移載具には半導体ウェハｂ。

ｂ、・・壷を保持する保持溝ｐ、ｐ、・拳・の深さがす
べて同じにされ、それによって保持される半導体ウェハ
ｂ、ｂ、・・参の高さがすべて同じになるようにされて
いた。

（Ｄ、発明が解決しようとする問題点）上述した従来の
ウェハ移載具ｋによれば、ウェハカセットａからウェハ
ポートｇへ、そしてウェハポートｇからウェハカセッ）
ａへ半導体ウェハｂ、ｂ、・・・を移送するときに次の
ような問題が発生した。先ず、ウェハカセッ）ａからの
半導体ウェハｂ、ｂ、・・・をウェハポー１−ｇ上に移
すときにはウェハ移載具ｋによって保持された例えば２
５枚のウェハカセッ）ａ、ａ、　　φ◆・がすべて同時
にウェハボートｇ上に落されるので、そのときの衝撃が
無視でないほど大きくなり、半導体ウェハｂ、ｂ、・・
拳あるいはウェハポートｇにチッピングを起す可能性が
あった。又、ウェハポートｇに保持された状態の半導体
ウエノ＼ｂ、ｂ、・・拳をウェハ移載具ｋによって持ち
上げてウェハポートｇから離そうとするときも全部の半
導体ウェハｂ、ｂ、・・・が同時に持ち上げられるので
半導体ウェハｂ、ｂ、・・・に保持溝Ｊ、ｊ、・・・に
対する喰い付きがある場合、喰い付き力が大きくなり、
ウェハポートｇがその喰い付き力によって持ち上げられ
る慣れがあった。特に、ウェハポートｇは半導体ウェハ
ｂ、ｂ、・・φとの接触面積をできるだけ少なくしつつ
、その半導体ウェハｂ、ｂ、・争・を略垂直に保持でき
るようにするためのその保持溝Ｊ、Ｊ、・・・と半導体
ウェハｂ、ｂ、−−・との間に大きなりリアランスが生
じないように保持溝Ｊ、Ｊ、・番・の溝幅が設定されて
おり、喰い付きが生じる可能性が少なくなかった。従っ
て、ウェハポートｇがその喰い付きによって持ち上げら
れる惧れが少なくなく、無視できなかった。

本発明はこのような問題点を解決すべく為されたもので
、上述したウェハポートあるいは半導体ウェハのチッピ
ング及びウェハポートの持ち上がりを防止することを目
的とするものである。

（Ｅ、問題点を解決するための手段） 本発明ウェハ移載具は上記問題点を解決するため、垂直
且つ平行に保持され互いの間隔が可変にされた一対の保
持板から成り各保持板の対向面に形成された保持溝間に
ウェハを垂直に保持するウェハ移載具において、ウェハ
の保持される高さが一部のウェハと他のウェハとで異な
るようにすることを特徴とするものである。

（Ｆ、作用） 本発明ウェハ移載具によれば、保持された半導体ウェハ
の高さが異°なるのでウェハ移載具を開放状態にして半
導体ウェハをウェハポート上に置くとき先ず低く保持さ
れた半導体ウェハの方がウェハポート上に落ち、その後
、高く保持された半導体ウェハがウェハポート上に落ち
るので、全部の半導体ウェハが同時に落ちることはない
、従って半導体ウェハをウェハポート上に置くときの衝
撃を小さくすることができ、延いてはチッピングを防止
することができる。

又、ウェハ移載具を開放状態からウェハ保持状態にして
ウェハボート上の半導体ウェハをウェハ移載具により保
持するとき先ず半導体ウェハを高く保持するように形成
された保持溝によってウェハボート上の一部の半導体ウ
ェハを保持する状態になり、次に半導体ウェハを低く保
持するように形成された保持溝によってウェハボート上
の残りの半導体ウェハを保持する状態になるようにする
ことができる。従って、全部の半導体ウェハに対する喰
い付き力が同時にウェハボートに作用することを防止す
ることができ、延いてはウェハボートがその喰い付き力
によって持ち上げられるのを防止することができる。

（Ｇ、実施例）［第１図乃至第４図］ 以下に、本発明ウェハ移載具を図示実施例に従って詳細
に説明する。

第１図乃至第３図は本発明ウェハ移載具の実施の一例を
示すものである。

図面において、１ｔ、１ｒは支持片２．２を介してウェ
ハ移載機３に垂直且つ互いに平行に支持された一対の保
持板であり、同じ大きさを有し、更に１本実施例におい
ては同じ形状を有している。

保持板ＬＬ、１ｒの下半部４．４は厚くされると共にそ
の内、側の面５．５が下側に行く程内側に寄るように弧
状に凹曲せしめられている。そして、その面５．５に半
導体ウニへ６．６、参〇参をその周縁にて垂直に保持す
る保持溝７．７、嗜拳・が２５本ずつ形成されている。

保持溝７．７、・・・の底面８．８、・・・は半導体ウ
ェハｂの周面に沿うように弧状に且つ下側に行く程内側
に寄るように凹曲せしめられている。そして、一対の保
持板１１．１ｒの保持溝７．７、・φ・間に半導体ウェ
ハ６．６、・争９が保持されるようにされている。

ところ、で、このウェハ移載具は例えば正面側から数え
て奇数番目の保持溝７ａ、７ａ、−Ｏ・と、偶数番目の
保持溝７ｂ、７ｂ、−−・とで支持する半導体ウェハ６
．６、・・・の高さが異なるようにされている。具体的
には奇数番目の保持溝７ａ、７ａ、−−拳の方が偶数番
目の保持溝７ｂ、７ｂ、・ｅ・よりも半導体ウェハ６．
６、・・拳を支持する高さが高くなっている。そのため
、第３図に示すように保持溝７ａ、７ａ、拳・・の方が
保持溝７ｂ、７ｂ、−・・よりも浅く形成されている。

８ａは保持溝７ａの底面、８ｂは保持溝７ｂの底面であ
る。

このウェハ移載具の保持板ＩＬ、ｉｒ間の間隔はそれを
支持するウェハ移載機３によって広くされたり狭くされ
たりし、それによってウェハ移載具が開放状態になった
リウェハ保持状態になったりする。

このようなウェノ５＼移載具によれば、ウェハカセット
内に収納されていた半導体ウェハ６．６、ψΦ・を保持
してウェハボートのすぐうえに位置し、ウェハ保持状態
から開放状態に状態を変化させて半導体ウェハ６．６、
＠争・をウェハポート上に稍落下させてそのウェハポー
ト上に載置された状態にするとき、先ず偶数番目の保持
溝７ｂ、７ｂ、・φ・に保持された半導体ウェハ、即ち
、低く保持された半導体ウェハ６．６、ｅ−・がウェハ
ボート上に落ち、次に保持溝７ａ、７ａ、・・・に保持
された半導体ウェハ、即ち、高く保持された半導体ウェ
ハ６．６、φ・・がウェハボート上に落ちる。従って、
半導体ウェハ６．６、拳・拳の全部が同時にウェハポー
ト上に落ちる慣れがなく、半導体ウェハ６．６、φ拳−
の落下によって生じる衝撃の大きさを略半減させること
ができる。依って、衝撃によるウェハボートあるいは半
導体ウニへ６．６、・・・のチッピングを防止すること
ができる。

また、ウェハポート上に保持されている半導体ウェハ６
．６、・・・をウェハカセット内に戻すべくウェハ移載
具によって保持し、ウェハボートから離すときも、ウェ
ハ移載具が開放状態からウェハ保、持状態に変化する過
程で、先ず半導体ウェハ６．６、・・・を高く保持する
奇数番目の保持溝７ａ、７ａ、争・・が半導体ウェハ６
．６、・・・を保持ｆ゛る状態になり、次に半導体ウェ
ハ６．６、・・・を低く保持する偶数番目の保持溝７ｂ
、７ｂ、・ｅ・が半導体ウェノ＼６．６、Φ・φを保持
する状態になる。従って、先ず、略半分の半導体ウェハ
６．６、・・・がウェハボートから離脱し、次に残りの
略半分の半導体ウェハ６．６、・拳・がウェハボートか
ら離脱することになり、全部の半導体ウニＩ＼６．６、
・・拳が同時にウェハボートから離脱せしめられること
はない、依って、半導体ウェハ６．６、ｏｓ・をウェハ
ボートから離脱せしめようとするときのウェハボートの
半導体ウェハ６．６、・Ｑ・ニ作用する喰い付き力を従
来より略半減させることが可能になり、ウェハボートの
喰い付き力がウェハボートの重量に打ち勝ってウェハボ
ートが持ち上がる慣れをなくすことができる。

尚、上記ウェハ移載具はあくまで本発明ウェハ移載具の
一実施例にすぎず、本発明ウェハ移載具には種々の実施
態様、変形例が考えられる。先ず、上記実施例によれば
、保持板１ｔとｌｒとは全く同じものが用いられている
。しかし、必ずしもそのようにすることは必要でなはな
く、一方の保持板１例えば１ｔを第４図に示すように保
持溝７．７．・・・の深さが全部等しい保持板に代える
ようにしても良い、即ち、一方の保持板１が第３図に示
すように保持溝の深さが興なるようになっていればもう
一方の保持板１は第４図に示すように保持溝７．７、・
・・の深さが均一のものであっても半導体ウェハを保持
する高さを異ならせることができので、保持板１１と保
持板１ｒとが同じものである必要はない。

また、上記実施例は半導体ウェハ６を高く保持する保持
溝７．７．・・・と半導体ウェハ６を低く保持する保持
溝７．７、・φ・とが交互に配置されていたが、必ずし
もそのようにする必要はなく、例えば半導体ウェハ６を
高く保持する保持溝７．７．φ・・を一方の半部側に配
置し、半導体ウェハ〇、を低く保持する保持溝７．７、
・・ｅを他方の半部側に配置するというようなことも考
えられる。

また、上記実施例においては半導体ウニ／＼を保持する
高さが２段階しかなかったが、３段階にしても良い、即
ち、保持板１１、ｌｒに半導体ウェハを高く保持する保
持ｌ１７．７、・會・と、半導体つ；ハを低く保持する
保持溝７．７、・・・と、それ等の中間の高さに保持す
る保持溝７．７、・・争とを設け、半導体ウェハ６．６
、・会Φをウェハ移載具からウェハボート、あるいはウ
ェハボートからウェハ移載具に略３分の１ずつ移すこと
ができるようにすることもできる。

（Ｈ，発明の効果） 以上に述べたように、本発明ウェハ移載具によれば、保
持された半導体ウェハの高さが異なるのでウェハ移載具
を開放状態にして半導体ウェハをウェハポート上に置く
とき先ず低く保持された半導体ウェハの方がウェハポー
ト上に落ち、その後高く保持された半導体ウェハがウェ
ハポート上に落ちるので、全部の半導体ウェハが同時に
落ちることはない、従って、半導体ウェハをウェハポー
ト上に置くときの衝撃を小さくすることができ、延いて
はチッピングを防止することができる。

又、ウェハ移載具を開放状態からウェハ保持状態にして
ウェハポート上の半導体ウェハをウェハ移載具により保
持するとき先ず半導体ウェハを高く保持するように形成
された保持溝によってウェハポート上の一部の半導体ウ
ェハを保持する状態になり、次に半導体ウェハを低く保
持するように形成された保持溝によってウェハポート上
の残りの半導体ウェハを保持する状態になるようにする
ことができる。従って、全部の半導体ウェハに対する喰
い付き力が同時にウェハボートに作用することを防止す
ることができ、延いてはウェハボートがその喰い付き力
によって持ち上げられることを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は本発明ウェハ移載具の実施の−例を
示すもので、第１図は斜視図、第２図は正面図、１ｓ３
図は第１図のｍ−■線に沿う断面図、第４図は本発明ウ
ェハ移載具の一方の保持板の変形例を示す断面図、第５
図は背景技術を説明するための斜視図である。 符号の説明 ＩＬ、ｌｒ争・φ保持板、　６・・曇ウェハ、７．７ａ
、７ｂ・φ・保持溝

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）互いに平行で略垂直方向に保持され互いの間隔が
   可変にされた一対の保持板からなり、各保持板の対向面
   には互いに対応する位置に設けられて１つのウェハを垂
   直に保持する保持溝が複数対形成され、 てなるウェハ移載具において、 上記各対の保持溝に保持されるウェハの高さが一部のウ
   ェハと他のウェハとで異なるように上記保持溝が形成さ
   れてなることを特徴とするウェハ移載具