JPS61239247A - 光学マスク - Google Patents
光学マスクInfo
- Publication number
- JPS61239247A JPS61239247A JP60079275A JP7927585A JPS61239247A JP S61239247 A JPS61239247 A JP S61239247A JP 60079275 A JP60079275 A JP 60079275A JP 7927585 A JP7927585 A JP 7927585A JP S61239247 A JPS61239247 A JP S61239247A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- iron
- mask
- pattern
- porous
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造過程に於いて用いられる感
光剤に対する露光処理用光学マスク７に関する。
光剤に対する露光処理用光学マスク７に関する。
露光処理用光学マスクにはガラス基板を用いたタイプと
して、ゼラチン等を用いたエマルジョンマスク、金属ク
ロム等を用いたメタルマスク、酸化鉄を用いたシースル
ーマスク等がある。いずれのタイプも透明基板上に所要
のパターンの薄膜を付着した光学マスクで、パターン部
はガラス表面より厚さで０．１乃至数ミクロンのレリー
フとなっている。特にエマルジョンマスクは、写真乳剤
膜がゼラチンの様な高分子基体中に銀塩を含むという構
成であるため木質的に機械的強度が低く、繰返し使用に
よる摩擦によって劣化し易い、更に微細なパターンの転
写を行なう場合、光学マスクのレリーフパターンの高さ
の差による影響を抑える為に、被露光物と光学マスクと
の密着が要求され耐久性の高いマスクに対する要望は極
めて強いものがある。
して、ゼラチン等を用いたエマルジョンマスク、金属ク
ロム等を用いたメタルマスク、酸化鉄を用いたシースル
ーマスク等がある。いずれのタイプも透明基板上に所要
のパターンの薄膜を付着した光学マスクで、パターン部
はガラス表面より厚さで０．１乃至数ミクロンのレリー
フとなっている。特にエマルジョンマスクは、写真乳剤
膜がゼラチンの様な高分子基体中に銀塩を含むという構
成であるため木質的に機械的強度が低く、繰返し使用に
よる摩擦によって劣化し易い、更に微細なパターンの転
写を行なう場合、光学マスクのレリーフパターンの高さ
の差による影響を抑える為に、被露光物と光学マスクと
の密着が要求され耐久性の高いマスクに対する要望は極
めて強いものがある。
木発明はかかる要望にこたえるべくなされたもので、耐
久性の高い露光処理用マスクを提供することを目的とす
る。
久性の高い露光処理用マスクを提供することを目的とす
る。
本発明はガラス基板を用いた露光処理用マスクであって
、該ガラス基板の表面内側にパターン化された遮光部を
有することを特徴とする光学マスクである。
、該ガラス基板の表面内側にパターン化された遮光部を
有することを特徴とする光学マスクである。
本発明を更に添付図面を用いて詳細に説明する。第１図
ａは、例えば石英ガラス基板等にＳ ｉ ＣＪ ４の熱
酸化或は加水分解により多孔性シリカ薄膜ｌを形成した
ガラスである。或は、公知のゾル−ゲル法により石英ガ
ラス基板等にＳ＋（ＯＥｔ）ａ或はＳ ｉ （ＯＥ ｔ
）ａと他の金属アルコキシド類との組み合わせによる混
合物の加水分解により形成した多孔性シリカ薄膜（或は
シリカ主体の多孔性ガラス薄ＩＩＩ）を有する基板を用
いることもできる。更に、分相し得るホウケイ酸ガラス
を所定の温度で分相熱処理し、酸溶出処理して得られる
シリカ骨格を主体とする連続細孔を有する多孔性ガラス
（米国コーニング社より商品名多孔質Ｖｙｃｏｒとして
入手可能）も使用可能である。
ａは、例えば石英ガラス基板等にＳ ｉ ＣＪ ４の熱
酸化或は加水分解により多孔性シリカ薄膜ｌを形成した
ガラスである。或は、公知のゾル−ゲル法により石英ガ
ラス基板等にＳ＋（ＯＥｔ）ａ或はＳ ｉ （ＯＥ ｔ
）ａと他の金属アルコキシド類との組み合わせによる混
合物の加水分解により形成した多孔性シリカ薄膜（或は
シリカ主体の多孔性ガラス薄ＩＩＩ）を有する基板を用
いることもできる。更に、分相し得るホウケイ酸ガラス
を所定の温度で分相熱処理し、酸溶出処理して得られる
シリカ骨格を主体とする連続細孔を有する多孔性ガラス
（米国コーニング社より商品名多孔質Ｖｙｃｏｒとして
入手可能）も使用可能である。
第１図すに示される含浸金属組成物２は感光性を有する
ものであれば良く、銀塩タイプとしては、公知のハロゲ
ン化銀乳剤が使用可能である。
ものであれば良く、銀塩タイプとしては、公知のハロゲ
ン化銀乳剤が使用可能である。
粒子径の小さい銀塩溶液も有効である。シースルータイ
ブとしては、各種の光分解性鉄化合物、鉄カルボニル及
びその誘導体、光重合性鉄化合物、ビニルフェロセン、
および光還元性第２鉄塩等が使用可能である。メタルタ
イプとしては、重クロム酸塩類及び適当な有機バインダ
ー感光剤が使用可能である。
ブとしては、各種の光分解性鉄化合物、鉄カルボニル及
びその誘導体、光重合性鉄化合物、ビニルフェロセン、
および光還元性第２鉄塩等が使用可能である。メタルタ
イプとしては、重クロム酸塩類及び適当な有機バインダ
ー感光剤が使用可能である。
含浸は、第１図すに示す如き多孔性ガラス薄膜付きガラ
スの場合には該薄膜に、多孔性ガラスの場合には後述す
る実施例に示す様な方法により多孔性ガラスの表面のみ
に含浸させる。含浸方法は、使用する金属組成物２の物
性に応じて選択すれば良い、例えば、金属組成物が蒸気
圧の高いＦｅ（ＧＯ）５の場合には蒸気含浸法で、液体
状の場合には液体含浸法で、固体の場合には可溶性溶剤
による溶液含浸法で、昇華性を有する物であれば昇華含
浸法で含浸を行なう、いずれの場合も必要に応じて稀釈
して含浸する事があり、溶剤を用いた場合には真空乾燥
或は加熱乾燥等により多孔性ガラス中に該組成物を保持
させる。
スの場合には該薄膜に、多孔性ガラスの場合には後述す
る実施例に示す様な方法により多孔性ガラスの表面のみ
に含浸させる。含浸方法は、使用する金属組成物２の物
性に応じて選択すれば良い、例えば、金属組成物が蒸気
圧の高いＦｅ（ＧＯ）５の場合には蒸気含浸法で、液体
状の場合には液体含浸法で、固体の場合には可溶性溶剤
による溶液含浸法で、昇華性を有する物であれば昇華含
浸法で含浸を行なう、いずれの場合も必要に応じて稀釈
して含浸する事があり、溶剤を用いた場合には真空乾燥
或は加熱乾燥等により多孔性ガラス中に該組成物を保持
させる。
パターン露光法としては、第１図Ｃに示す様な公知のホ
トリソグラフィーの手法、即ち光源３とマスク４の組み
合わせで行い、露光源は含浸された金属組成物が反応を
引き起こすのに充分な波長と強度を有する電磁波であれ
ば良い、紫外光、可視光はもとより、電子ビーム、Ｘ線
、イオンビーム等も利用可能である。
トリソグラフィーの手法、即ち光源３とマスク４の組み
合わせで行い、露光源は含浸された金属組成物が反応を
引き起こすのに充分な波長と強度を有する電磁波であれ
ば良い、紫外光、可視光はもとより、電子ビーム、Ｘ線
、イオンビーム等も利用可能である。
現像処理の必要な場合は適当な現像剤で処理して潜像を
顕在化或は強化する必要がある。銀塩の場合は適当な還
元剤で、鉄塩の場合は不溶性鉄錯化合物となる様な適当
な第２鉄塩で、クロム塩の場合には無水クロム酸でそれ
ぞれの画像を顕在化或は強化できる。
顕在化或は強化する必要がある。銀塩の場合は適当な還
元剤で、鉄塩の場合は不溶性鉄錯化合物となる様な適当
な第２鉄塩で、クロム塩の場合には無水クロム酸でそれ
ぞれの画像を顕在化或は強化できる。
未反応金属組成物の除去即ち定Ｈ（第１図ｄ）は、銀塩
法の場合はハイポを主体とする定着法、鉄、クロム塩の
場合は水洗或は微アンモニア水による洗浄により達成さ
れる。未反応金属組成物が比較的蒸気圧が高くまた熱的
安定性の有る場合は、加熱定着法も有効である。第１図
ｄに示す画像５は、定着後４００〜７００℃に加熱酸化
する事により、含有全有機構成分が除去され、金属の酸
化物のパターン６が第１図ｅの如くガラス表面内側に遮
光部として形成される。但し、銀の場合は無機態銀とし
て存在するので加熱酸化は不要である。酸化クロムによ
る画像パターンは還元雰囲気気流中で加熱焼成する事に
より、金属クロム状態とし、遮光性の高いメタルマスク
並みのパターンに変える事が可能である。
法の場合はハイポを主体とする定着法、鉄、クロム塩の
場合は水洗或は微アンモニア水による洗浄により達成さ
れる。未反応金属組成物が比較的蒸気圧が高くまた熱的
安定性の有る場合は、加熱定着法も有効である。第１図
ｄに示す画像５は、定着後４００〜７００℃に加熱酸化
する事により、含有全有機構成分が除去され、金属の酸
化物のパターン６が第１図ｅの如くガラス表面内側に遮
光部として形成される。但し、銀の場合は無機態銀とし
て存在するので加熱酸化は不要である。酸化クロムによ
る画像パターンは還元雰囲気気流中で加熱焼成する事に
より、金属クロム状態とし、遮光性の高いメタルマスク
並みのパターンに変える事が可能である。
次に以上の方法により得られたガラス品内部に残存する
細孔を閉塞する事により本発明の光学マスクが得られる
。たとえば多孔性ガラスの細孔内にモノシラン、ジシラ
ン等或はジポラン等のエネルギー分解性ガス状化合物と
酸素（或は水、アルコール等）とを組み合わせて吸蔵、
光分解（熱分解、プラズマ分解）させてガラス網目構造
を細孔中に形成する方法により、比較的低い温度で大部
分の細孔は閉塞可能である。係る方法によりパターン部
の解像度を低下させる事なく、パターン化された遮光部
をガラス表面内側に有する光学マスクが得られる。
細孔を閉塞する事により本発明の光学マスクが得られる
。たとえば多孔性ガラスの細孔内にモノシラン、ジシラ
ン等或はジポラン等のエネルギー分解性ガス状化合物と
酸素（或は水、アルコール等）とを組み合わせて吸蔵、
光分解（熱分解、プラズマ分解）させてガラス網目構造
を細孔中に形成する方法により、比較的低い温度で大部
分の細孔は閉塞可能である。係る方法によりパターン部
の解像度を低下させる事なく、パターン化された遮光部
をガラス表面内側に有する光学マスクが得られる。
以上の説明によりガラス表面内側に、銀塩エマルジョン
タイプの遮光部を有するマスク、酸化鉄薄膜の遮光部を
有するシースルーマスク、更には金属薄膜の遮光部を有
するメタルマスクが本発明に該当しこれらマスクがコン
タクト露光に於ける被露光物とマスクとの接触や繰り返
しに対する損傷を防止出来ることも自明である。
タイプの遮光部を有するマスク、酸化鉄薄膜の遮光部を
有するシースルーマスク、更には金属薄膜の遮光部を有
するメタルマスクが本発明に該当しこれらマスクがコン
タクト露光に於ける被露光物とマスクとの接触や繰り返
しに対する損傷を防止出来ることも自明である。
次に本発明の実施例について詳細に説明するが１本発明
はこれによって何ら限定されるものではない。
はこれによって何ら限定されるものではない。
（実施例−１）
石英基板（２インチ角形）上に多孔性シリカ薄膜（厚さ
０．１ミクロン）を形成したガラス板を５分間鉄カルボ
ニルの蒸気浴に吊し、表面層にのみ鉄化合物を含浸させ
る。含浸面とパターンマスクを密着させ、紫外線露光（
１〜３分）すると、黄色画像が観測される。１１０〜１
２０℃の真空乾燥機に入れ、未反応の鉄カルボニルを除
去する。得られたガラス板は画像濃度が若干濃くなって
いるが、これを更に４００℃に加熱すると、全有機構成
分が除去されると共に鉄は酸化される。酸化鉄薄膜パタ
ーンがガラス表面内側に形成された多孔性ガラス板が得
られ、パターン中の線幅１ミクロンは明瞭に解像されて
いる。
０．１ミクロン）を形成したガラス板を５分間鉄カルボ
ニルの蒸気浴に吊し、表面層にのみ鉄化合物を含浸させ
る。含浸面とパターンマスクを密着させ、紫外線露光（
１〜３分）すると、黄色画像が観測される。１１０〜１
２０℃の真空乾燥機に入れ、未反応の鉄カルボニルを除
去する。得られたガラス板は画像濃度が若干濃くなって
いるが、これを更に４００℃に加熱すると、全有機構成
分が除去されると共に鉄は酸化される。酸化鉄薄膜パタ
ーンがガラス表面内側に形成された多孔性ガラス板が得
られ、パターン中の線幅１ミクロンは明瞭に解像されて
いる。
（実施例−２）
実施例−１で用いた基板を２０重量％のシュウ酸第２鉄
アンモニウム水溶液と１７重量％赤血塩水溶液の混合溶
液に２分間浸漬して含浸する。真空乾燥（４０℃、２時
間）してデシケータ−中に保存する。含浸面は黄緑色を
しており、マスクパターンを密着°露光（１〜３分）す
ると、露光部には青色画像が観測される。微アンモニア
水（ｐＨ８，０〜８．０）に浸漬して定着すると、青色
画像のみのガラス板となる。水洗（水温３５℃〜４０℃
）し、乾燥し、 ５００℃に加熱すると画像は青色から
茶色の酸化鉄パターンとなり、線幅１ミクロンが明瞭に
解像されている。
アンモニウム水溶液と１７重量％赤血塩水溶液の混合溶
液に２分間浸漬して含浸する。真空乾燥（４０℃、２時
間）してデシケータ−中に保存する。含浸面は黄緑色を
しており、マスクパターンを密着°露光（１〜３分）す
ると、露光部には青色画像が観測される。微アンモニア
水（ｐＨ８，０〜８．０）に浸漬して定着すると、青色
画像のみのガラス板となる。水洗（水温３５℃〜４０℃
）し、乾燥し、 ５００℃に加熱すると画像は青色から
茶色の酸化鉄パターンとなり、線幅１ミクロンが明瞭に
解像されている。
（実施例−３）
実施例−１で用いた基板を１重量％の重クロム酸アンモ
ニウムを含む５重量％のポリビニルアルコール水溶液に
１０分間浸漬して含浸する。加熱乾燥（６０℃、３０分
間）し、マスクパターンを密着露光（１〜３分）すると
、露光部に淡褐色の画像が観測される。温水（３５℃）
で定着した後、１０重量％のクロム酸水溶液に１分間浸
漬して画像強化すると黒褐色パターンを得る。 ５０
０℃に加熱すると画像は黄色となり酸化クロムとなって
いる。１％水素を含む窒素気流中、４００℃で加熱焼成
して、金属クロムに変え、クロム薄膜がガラス表面内側
にパターン化されたガラスを得る。線幅１ミクロンは明
瞭に解像されている。
ニウムを含む５重量％のポリビニルアルコール水溶液に
１０分間浸漬して含浸する。加熱乾燥（６０℃、３０分
間）し、マスクパターンを密着露光（１〜３分）すると
、露光部に淡褐色の画像が観測される。温水（３５℃）
で定着した後、１０重量％のクロム酸水溶液に１分間浸
漬して画像強化すると黒褐色パターンを得る。 ５０
０℃に加熱すると画像は黄色となり酸化クロムとなって
いる。１％水素を含む窒素気流中、４００℃で加熱焼成
して、金属クロムに変え、クロム薄膜がガラス表面内側
にパターン化されたガラスを得る。線幅１ミクロンは明
瞭に解像されている。
（実施例−４）
石英基板（２インチ角）上に多孔性シリカ薄膜（厚さ０
．７ミクロン）を形成したガラス板をリップマン乳剤に
１０分間浸漬して含浸する。加熱乾燥（３５°Ｃ１３０
分間）し、マスクパターンを密着露光（１秒）し、０．
１重量％のヒドロキノン微アンモニア水溶液（ｐ）＋
９．０）で現像し、黒色画像を得る。１重量％のチオ硫
酸ナトリウム水溶液で定着した後、水洗（３０℃）し乾
燥する。パターンがガラス表面内側に形成されており、
線幅２ミクロンが明瞭に解像されている。
．７ミクロン）を形成したガラス板をリップマン乳剤に
１０分間浸漬して含浸する。加熱乾燥（３５°Ｃ１３０
分間）し、マスクパターンを密着露光（１秒）し、０．
１重量％のヒドロキノン微アンモニア水溶液（ｐ）＋
９．０）で現像し、黒色画像を得る。１重量％のチオ硫
酸ナトリウム水溶液で定着した後、水洗（３０℃）し乾
燥する。パターンがガラス表面内側に形成されており、
線幅２ミクロンが明瞭に解像されている。
（実施例−５）
多孔性ガラスは分相し得るホウケイ酸ガラスを所定の温
度で分相熱処理、酸溶出処理して得られるが、厚さ１．
５８ｍ層、２インチ角形の平板状とし、両面研磨した物
を使用する。
度で分相熱処理、酸溶出処理して得られるが、厚さ１．
５８ｍ層、２インチ角形の平板状とし、両面研磨した物
を使用する。
多孔性ガラス板の片面を反射防止用の粘着シートで覆っ
た後、５分間Ｆｅ （ＣＯ） ５の蒸気浴に入れ、表面
層にのみＦｅ（Ｇｏ）５を含浸させる。含浸面とパター
ンマスクを密着させてマスクを通してガラス板内部の方
向へ紫外線照射してパターン露光する。照射時間は１〜
３分で充分であり、露光により黄色画像が観測される。
た後、５分間Ｆｅ （ＣＯ） ５の蒸気浴に入れ、表面
層にのみＦｅ（Ｇｏ）５を含浸させる。含浸面とパター
ンマスクを密着させてマスクを通してガラス板内部の方
向へ紫外線照射してパターン露光する。照射時間は１〜
３分で充分であり、露光により黄色画像が観測される。
粘着シートを剥がして、 １１０〜１２０°Ｃの真空乾
燥機に入れ未反応のＦｅ（ＧＯ）５を除去する。得られ
たガラス板は画像濃度が若干濃くなっているが、更にこ
れを４００℃に加熱すると、全有機構成分が除去され、
鉄は酸化されて酸化鉄薄膜パターンがガラス表面内側に
形成された多孔性ガラス板が得られる。パターン中の線
幅１騨は明瞭に解像されている。
燥機に入れ未反応のＦｅ（ＧＯ）５を除去する。得られ
たガラス板は画像濃度が若干濃くなっているが、更にこ
れを４００℃に加熱すると、全有機構成分が除去され、
鉄は酸化されて酸化鉄薄膜パターンがガラス表面内側に
形成された多孔性ガラス板が得られる。パターン中の線
幅１騨は明瞭に解像されている。
（実施例−６）
両面研磨された厚さ１．５８ｍｍ、２インチ角形の多孔
性ガラスの片面を反射防止用の粘着シートで覆った後、
２０重量％のシュウ酸第２鉄アンモニウム水溶液と１７
重量％の赤血塩水溶液の混合溶液に未被覆面を接触させ
、２分間含浸を行なう、未被覆表面のみ含浸されたガラ
ス板を真空乾燥（４０℃）して、デシケータ−中に保存
する。含浸面は黄緑色をしており、この面に対してパタ
ーンマスクを密着させて、マスクを通してガラス板内部
方向へ紫外線照射してパターン露光する。照射時間は１
〜３分で充分であり、露光により青色画像が観測される
。粘着シートを剥がして、微アンモニア水（ｐＨｅ、ｏ
〜９．０）に浸漬して現像すると青色画像のみのガラス
板となり、水洗（水温３５℃〜４０℃）して乾燥する。
性ガラスの片面を反射防止用の粘着シートで覆った後、
２０重量％のシュウ酸第２鉄アンモニウム水溶液と１７
重量％の赤血塩水溶液の混合溶液に未被覆面を接触させ
、２分間含浸を行なう、未被覆表面のみ含浸されたガラ
ス板を真空乾燥（４０℃）して、デシケータ−中に保存
する。含浸面は黄緑色をしており、この面に対してパタ
ーンマスクを密着させて、マスクを通してガラス板内部
方向へ紫外線照射してパターン露光する。照射時間は１
〜３分で充分であり、露光により青色画像が観測される
。粘着シートを剥がして、微アンモニア水（ｐＨｅ、ｏ
〜９．０）に浸漬して現像すると青色画像のみのガラス
板となり、水洗（水温３５℃〜４０℃）して乾燥する。
得られたガラス板は５００℃に加熱すると青色の鉄化合
物から茶色の酸化鉄に変わり、酸化鉄薄膜パターンがガ
ラス表面内側に形成された多孔性ガラス板が得られる。
物から茶色の酸化鉄に変わり、酸化鉄薄膜パターンがガ
ラス表面内側に形成された多孔性ガラス板が得られる。
パターン中の線幅１μは明瞭に解像されている。
本発明の光学マスクは従来法では成し得なかった、ガラ
ス表面内側にパターン化された薄膜遮光部を有する光学
マスクであって、多孔性ガラスに感光性金属組成物を含
浸し、露光し、定着し、更に残存細孔を閉塞する事によ
り、容易に製造出来ると共に、基材であるガラスそのも
のが高シリカガラスである為、線膨張率が低く、また紫
外線透過性も良く、マスク合わせに於ける摩耗の少ない
機械的強度の大きい光学マスクを提供することができる
様になった。
ス表面内側にパターン化された薄膜遮光部を有する光学
マスクであって、多孔性ガラスに感光性金属組成物を含
浸し、露光し、定着し、更に残存細孔を閉塞する事によ
り、容易に製造出来ると共に、基材であるガラスそのも
のが高シリカガラスである為、線膨張率が低く、また紫
外線透過性も良く、マスク合わせに於ける摩耗の少ない
機械的強度の大きい光学マスクを提供することができる
様になった。
第１図は本発明の光学マスクの製造工程の一実施例を示
す図であり、第１図ａは多孔性薄膜を有するガラス基板
を、第１図すは多孔性薄膜に金属組成物を含浸した状態
を、第１図Ｃは該金属組成物にパターンを露光する方法
を、第１１ｆｌｄは露光後現像した状態を、第１図ｅは
所望のパターン化された遮光部を有する本発明の光学マ
スクを示す。 ｌ・・・多孔性薄膜 ２・・・含浸金属組成物３・
・・光源 ４・・・マスク ５・・・画像６・
・・パターン化された遮光部 ７・・・基板（Ｃコ
乙ワ ＥＺＺＺ ミー 一コーー □
す図であり、第１図ａは多孔性薄膜を有するガラス基板
を、第１図すは多孔性薄膜に金属組成物を含浸した状態
を、第１図Ｃは該金属組成物にパターンを露光する方法
を、第１１ｆｌｄは露光後現像した状態を、第１図ｅは
所望のパターン化された遮光部を有する本発明の光学マ
スクを示す。 ｌ・・・多孔性薄膜 ２・・・含浸金属組成物３・
・・光源 ４・・・マスク ５・・・画像６・
・・パターン化された遮光部 ７・・・基板（Ｃコ
乙ワ ＥＺＺＺ ミー 一コーー □
Claims (1)
- ガラス表面内側にパターン化された遮光部を有する事を
特徴とする光学マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60079275A JPS61239247A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60079275A JPS61239247A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61239247A true JPS61239247A (ja) | 1986-10-24 |
Family
ID=13685313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60079275A Pending JPS61239247A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 光学マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61239247A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100575000B1 (ko) | 2004-12-07 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조용 포토마스크 및 그 제조 방법 |
| KR20190075247A (ko) * | 2017-12-21 | 2019-07-01 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 쉐이딩층을 내장한 포토 마스크 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
-
1985
- 1985-04-16 JP JP60079275A patent/JPS61239247A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100575000B1 (ko) | 2004-12-07 | 2006-05-02 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 제조용 포토마스크 및 그 제조 방법 |
| KR20190075247A (ko) * | 2017-12-21 | 2019-07-01 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 쉐이딩층을 내장한 포토 마스크 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
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