JPS6123765Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6123765Y2 JPS6123765Y2 JP1550279U JP1550279U JPS6123765Y2 JP S6123765 Y2 JPS6123765 Y2 JP S6123765Y2 JP 1550279 U JP1550279 U JP 1550279U JP 1550279 U JP1550279 U JP 1550279U JP S6123765 Y2 JPS6123765 Y2 JP S6123765Y2
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- Japan
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- plate
- test object
- optical flat
- optical
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- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 28
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 239000003818 cinder Substances 0.000 description 7
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は平面度測定装置に関するもので、被験
物の対向する２平面を１方向から観察することが
できるものを提供しようとするものである。
物の対向する２平面を１方向から観察することが
できるものを提供しようとするものである。
被験物例えばビデオテープレコーダ用磁気ヘツ
ドの材料とされるフエライトウエハはその対向す
る２平面の各平面度が十分に出ていないと精度の
良い磁気ヘツドを製造することができない。そこ
で、いわゆる鏡面研磨をしたウエハの研磨面につ
いてその平面度をチエツクしなければならない。
従来はこのチエツクに当たり作業者が小さいウエ
ハをオプテイカルフラツトに押しあて、そのオプ
テイカルフラツトを通じて観察される干渉縞を見
て判定するようにしていた。そしてこの作業を１
つのウエハについてその両面を観察するため２回
宛行なわなければならなかつた。これは押付力の
差異による誤差を生みやすいしまた作業能率が悪
い欠点があつた。
ドの材料とされるフエライトウエハはその対向す
る２平面の各平面度が十分に出ていないと精度の
良い磁気ヘツドを製造することができない。そこ
で、いわゆる鏡面研磨をしたウエハの研磨面につ
いてその平面度をチエツクしなければならない。
従来はこのチエツクに当たり作業者が小さいウエ
ハをオプテイカルフラツトに押しあて、そのオプ
テイカルフラツトを通じて観察される干渉縞を見
て判定するようにしていた。そしてこの作業を１
つのウエハについてその両面を観察するため２回
宛行なわなければならなかつた。これは押付力の
差異による誤差を生みやすいしまた作業能率が悪
い欠点があつた。
本考案はフエライトウエハのような被験物の２
面の平面度を能率よく観察することができる平面
度測定装置を提供しようとするものである。
面の平面度を能率よく観察することができる平面
度測定装置を提供しようとするものである。
図面は本考案の１実施例の概略構成斜視図を示
したものであり、以下これに基づき本考案の詳細
を説明する。
したものであり、以下これに基づき本考案の詳細
を説明する。
第１プレート１は第１のオプテイカルフラツト
２を載置する載置面にこの第１のオプテイカルフ
ラツト２の載置対向面２ａの形状に比して小さい
透孔３を備えており、この透孔３を通じて第１の
オプテイカルフラツト２上に載置した被験物４
（例えばフエライトウエハ）の１面の干渉縞を観
察できるようにしている。
２を載置する載置面にこの第１のオプテイカルフ
ラツト２の載置対向面２ａの形状に比して小さい
透孔３を備えており、この透孔３を通じて第１の
オプテイカルフラツト２上に載置した被験物４
（例えばフエライトウエハ）の１面の干渉縞を観
察できるようにしている。
第２プレート５は被験物４の他面に載置した第
２のオプテイカルフラツト６に対向配置されてお
り、この第２プレート５には第２のオプテイカル
フラツト６の対向面６ａより小さい透孔７を備え
ている。そしてこの透孔７を通じて第２のオプテ
イカルフラツト６下の被験物４の他面の干渉縞を
観察することができるように構成している。尚各
オプテイカルフラツト２，６はその表面精度を出
しやすい石英ガラスにより構成されている。
２のオプテイカルフラツト６に対向配置されてお
り、この第２プレート５には第２のオプテイカル
フラツト６の対向面６ａより小さい透孔７を備え
ている。そしてこの透孔７を通じて第２のオプテ
イカルフラツト６下の被験物４の他面の干渉縞を
観察することができるように構成している。尚各
オプテイカルフラツト２，６はその表面精度を出
しやすい石英ガラスにより構成されている。
８は第１プレート１を取付けた支枠であり、こ
れには第１プレート１の透孔３から観察される干
渉縞を矢印９方向に伝える光学装置１０を備えて
いる。この光学装置１０は平面鏡１１，１２と、
これらをそれぞれ支枠８に取付けるための支持体
１３，１４とを備えており、各平面鏡１１，１２
は支持体１３，１４にそれぞれ回転できるように
取付けられている。１５はエアシンダ１６を備え
る基台であり、エアシンダ１６の押圧杆１７は支
枠８、したがつて第１プレート１を基台１５に対
して上下動させることができるように、その一端
１７ａが支枠８に取付けられている。１８，１９
は第２プレート５を基台１５に固定するためのア
ングルである。
れには第１プレート１の透孔３から観察される干
渉縞を矢印９方向に伝える光学装置１０を備えて
いる。この光学装置１０は平面鏡１１，１２と、
これらをそれぞれ支枠８に取付けるための支持体
１３，１４とを備えており、各平面鏡１１，１２
は支持体１３，１４にそれぞれ回転できるように
取付けられている。１５はエアシンダ１６を備え
る基台であり、エアシンダ１６の押圧杆１７は支
枠８、したがつて第１プレート１を基台１５に対
して上下動させることができるように、その一端
１７ａが支枠８に取付けられている。１８，１９
は第２プレート５を基台１５に固定するためのア
ングルである。
かかる本装置により被験物の平面度を測定する
手順について説明する。先ずエアシンダ１６の押
圧杆１７を下げ、第１プレート１の透孔３上に該
透孔を遮蔽するように第１のオプテイカルフラツ
ト２を載置し、次いでこの第１のオプテイカルフ
ラツトに被験物４を載せさらにその上に第２のオ
プテイカルフラツト６を載置する。その後、エア
シンダ１６を使つて第１プレート１を持ち上げ、
第１、第２プレート１，５間に、被験物４をサン
ドイツチした第１、第２のオプテイカルフラツト
２，６を挾着する。この挾着圧はエアシンダ１６
を制御することにより、適宜制御することができ
る。
手順について説明する。先ずエアシンダ１６の押
圧杆１７を下げ、第１プレート１の透孔３上に該
透孔を遮蔽するように第１のオプテイカルフラツ
ト２を載置し、次いでこの第１のオプテイカルフ
ラツトに被験物４を載せさらにその上に第２のオ
プテイカルフラツト６を載置する。その後、エア
シンダ１６を使つて第１プレート１を持ち上げ、
第１、第２プレート１，５間に、被験物４をサン
ドイツチした第１、第２のオプテイカルフラツト
２，６を挾着する。この挾着圧はエアシンダ１６
を制御することにより、適宜制御することができ
る。
これにより、被験物４の１面の状態は第１のオ
プテイカルフラツト２、光学装置１０を通じて、
またその他面の状態は第２のオプテイカルフラツ
ト６を通じて、それぞれ同方向（図の上方）から
観察することができる。周知のように被験物の平
面度が悪いと複雑な干渉縞として認識され、一方
平面度が良いと干渉縞の模様が消滅しあるいは薄
くなる。そこで各干渉縞を基準の干渉縞濃度と比
較することにより、被験物の合否を判定すること
ができる。本実施例ではこの判定を肉眼で行なつ
ているが、各干渉縞を撮像しそれを数値変換し
て、基準のものと数値評価して、その結果（合
否）を表示するようにしてもよいことはいうまで
もない。
プテイカルフラツト２、光学装置１０を通じて、
またその他面の状態は第２のオプテイカルフラツ
ト６を通じて、それぞれ同方向（図の上方）から
観察することができる。周知のように被験物の平
面度が悪いと複雑な干渉縞として認識され、一方
平面度が良いと干渉縞の模様が消滅しあるいは薄
くなる。そこで各干渉縞を基準の干渉縞濃度と比
較することにより、被験物の合否を判定すること
ができる。本実施例ではこの判定を肉眼で行なつ
ているが、各干渉縞を撮像しそれを数値変換し
て、基準のものと数値評価して、その結果（合
否）を表示するようにしてもよいことはいうまで
もない。
このように本考案装置では被験物の対向する２
側面の状態を１方向から同時に観察することがで
きるようにしたので、その測定作業及び精度を従
来のものに比べて著しく向上させることができる
ようになつた。また、本考案装置では第１、第２
オプテイカルフラツトとそれらの間に挾持された
被験物を載置する第１プレートを下方に配し、第
２プレートを上方の固定位置に配し、前記第１プ
レートをエアシンダを動力源として前記第２オプ
テイカルフラツトが第２プレートに当接するまで
押し上げることによつて自動的に観察位置にセツ
トできるという長所があり、しかもエアシンダに
よる当りの柔らかさと相俟つて観察位置への円滑
な自動セツトが行なえる。
側面の状態を１方向から同時に観察することがで
きるようにしたので、その測定作業及び精度を従
来のものに比べて著しく向上させることができる
ようになつた。また、本考案装置では第１、第２
オプテイカルフラツトとそれらの間に挾持された
被験物を載置する第１プレートを下方に配し、第
２プレートを上方の固定位置に配し、前記第１プ
レートをエアシンダを動力源として前記第２オプ
テイカルフラツトが第２プレートに当接するまで
押し上げることによつて自動的に観察位置にセツ
トできるという長所があり、しかもエアシンダに
よる当りの柔らかさと相俟つて観察位置への円滑
な自動セツトが行なえる。
図面は本考案の１実施例の概略構成斜視図を示
したものである。 １，５……第１、第２プレート、２，６……第
１、第２のオプテイカルフラツト、４……被験物
（フエライトウエハ）、１６……エアシンダ（動力
源）、１０……光学装置。
したものである。 １，５……第１、第２プレート、２，６……第
１、第２のオプテイカルフラツト、４……被験物
（フエライトウエハ）、１６……エアシンダ（動力
源）、１０……光学装置。
Claims (1)
- 第１のオプテイカルフラツトを載置し該第１の
オプテイカルフラツトの載置対向面より小さい透
孔を持つ下方に配された第１プレートと、前記第
１のオプテイカルフラツトに載置した被験物の他
面に載置した第２のオプテイカルフラツトに対向
配置され、該第２のオプテイカルフラツトに対向
面より小さい透孔を持つと共に上方の固定位置に
保持された第２プレートと、前記第１プレートを
前記第２プレートに対して相対的に近接、離間さ
せるための前記第１プレートの支持体に連結され
た動力源としてのエアシリンダと、前記第１プレ
ートの透孔を通して観察できる前記被験物の１面
の干渉縞を、前記第２プレートの透孔を通して観
察できる前記被験物の他面の干渉縞と同方向から
観察することができるように構成した光学装置と
を備えてなる被験物の平面度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1550279U JPS6123765Y2 (ja) | 1979-02-08 | 1979-02-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1550279U JPS6123765Y2 (ja) | 1979-02-08 | 1979-02-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55116209U JPS55116209U (ja) | 1980-08-16 |
| JPS6123765Y2 true JPS6123765Y2 (ja) | 1986-07-16 |
Family
ID=28837312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1550279U Expired JPS6123765Y2 (ja) | 1979-02-08 | 1979-02-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6123765Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-02-08 JP JP1550279U patent/JPS6123765Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55116209U (ja) | 1980-08-16 |
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