JPS6123376A - パルス・レ−ザ−・システム - Google Patents

パルス・レ−ザ−・システム

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JPS6123376A
JPS6123376A JP60129739A JP12973985A JPS6123376A JP S6123376 A JPS6123376 A JP S6123376A JP 60129739 A JP60129739 A JP 60129739A JP 12973985 A JP12973985 A JP 12973985A JP S6123376 A JPS6123376 A JP S6123376A
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ジヨン・ジエイ．・マクドナルド
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BRITT CORP
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明はパルス・レーザー・システム、特にレ一ザー出
力を制御するために、レーザーにパルス幅が可変な制御
信号を出力する制御回路に関する。
［従来技術］ 従来技術のパルス・レーザーにおいては、レーザー・パ
ルスにエネルギーを蓄積させるために、レーザー管のア
ノードに接続されたＬＣ回路を用いたパルス形成回路（
以下ＰＦＮという）が用いられている。トリガ回路はレ
ーザー管内にアルゴン・ガスを電離するレーザー管のま
わりに巻かれたコイルにトリが・パルスを供給する。こ
れによって、レーザー管内にレーザーを発生させるカソ
ードに該レーザー管を介して、ＰＦＮにおいて蓄積され
たエネルギーの放電路を設けることがでｂる。
しかしながら、レーザーのパルス幅はＰＦＮのＬＣ定数
によって固定され、パルスくり返し周波数はトリガ回路
によって制御されるがそのパルス幅は固定されたままで
ある。
虹採切開術のような穿通法を実行する場合、あらかじめ
決められたパルス幅をもつ有限数の高出力パルスを発生
させることが必要とされる。また、凝固のような熱によ
る方法を実行する場合、供給されるエネルギーを制御す
るためにパルス幅とパルスくり返し周波数のある組み合
わせが要求され、比較的低電力なレベルにおけるほぼ持
続波管動作に近い動作が必要とされる。穿通法に対して
、パルス幅は固定され最適化されるので、一般に凝固法
に対しては最適化されない。従って、比較的広い範囲に
わたって変化するパルス幅とパルスくり返し周波数をも
つレーザー・パルスを出力するパルス・レーザーが要求
される。
眠治療のような治療用レーザー・システムにおいてパル
ス・レーザーを用いる時、その治療中目に伝送されるエ
ネルギーとエネルギー密度を決定することが必要とされ
る。また、レーザーの出力電力がパルス幅と繰り返し周
波、数を変化させることによって調整されるので、可変
パルス幅をもつパルス・レーザーを使用する際、自動的
に最適なパルス幅を決定することによって、操作者の入
力操作を簡単化させることが強く望まれている。
さらに治療時間が長い場合の操作者の疲労を軽減させる
ことが強く望まれている。
［発明の目的１ 本発明の第１の目的はレーザー出力を制御するためにレ
ーザーに用いる制御信号を発生するための制御回路を含
むパルス・レーザー・システムを提供することにある。
本発明の第２の目的は標的にレーザー出力を伝送し、複
数のモードで動作が可能なパルス・レーザー・システム
を提供することにある。
本発明の第３の目的は特定の治療に適用するレーザー・
パルスのバーストすなわチ一群のパルスを発生させるた
め、駆動パルスをパルス・レーザーに出力するための電
力スイッチング回路を備えたパルス・レーザー・システ
ムを提供することにある。
［発明の構成１　　　・ 本発明の目的はレーザー出力を制御するためにレーザー
に用いる制御信号を発生するための制御回路を含むパル
ス・レーザー・システムを提供することにある。該制御
回路は、モード選択を含む操作者の入力に応答して制御
信号のパルス幅を自動的に決定する。
本制御回路においては、マイクロプロセッサを用いた制
御器と３つのカウンタをもっカウンタ回路が用いられて
いる。第１のカウンタはマイクロプロセッサによって決
定されるパルス繰り返し周波数を制御する。第２のカウ
ンタは第１のカウンタの出力に応答してパルスを発生し
、その各パルスはマイクロプロセッサによって決定され
るパルス幅をもつ。出力時間、すなわちレーザー出力の
バーストのパルス数をマイクロプロセッサによって決定
されるあらかじめ入力された計数値からカウントダウン
する第１のカウンタの出力を計数する第３のカウンタに
よって、制御することができる。
好ましい実施例においては、マルチバイブレータが制御
信号の最大繰り返し周波数とパルス幅を制限するために
、第２のカウンタの出力側と、レーザーの入力側との間
に接続される。
測定され、あらかじめ決められる出力レベルでレーザー
出力が標的の位置におかれるパワー・メータによって調
整される時、レーザー出力のパルス繰り返し周波数とパ
ルス幅を決めるために較正手段が用いられる。同時に、
任意の治療が行われる時、例えば目の網膜のような標的
に伝送されるエネルギーを決めるための手段が較正され
る。
レーザーのスポットの大軽さは可変であり、そのスポッ
トの大すさの面積を決定するための手段が用いられる。
これと伝送されるエネルギーの決定結果に対応して、エ
ネルギー密度を決めることができる。
本発明はまた標的にレーザー出力を伝送し、複数のモー
ドで動作が可能なパルス・レーザー・システムの動作方
法に関する。操作者が適当なモードを選択すると、第１
のカウンタが適当な繰り返し周波数で出力するように調
整され、さらに第２のカウンタが第１のカウンタの出力
に応答して適当なパルス幅を出力するように調整される
ことによって、そのシステムは周期性をもつ制御パルス
列を発生させる。ある出力時間が操作者によって選択さ
れると、そのシステムは自動的に出力時間計数値を第３
のカウンタにあらかじめロードし、その第３のカウンタ
は第１のカウンタの出力からゼロに向かってカウントダ
ウンする。
そのシステムがオンであり治療を行わない時、低電力照
準ビーム（ａｉｍｉｎｇｂｅａｍ）（狭いパルス幅及び
低い繰り返し周波数）が用いられる。この照準ビームを
連続的に保持させるために、計数値がゼロになる前に、
そのシステムは繰り返し第３のカウンタに計数値が再び
ロードされる。
穿通法において動作させる時、そのシステムは、自動的
に第２のカウンタに１２０μ秒のパルスを出力する。凝
固モードにおいては、操作者が所望の電力レベルを選択
すると、そのシステムは自動的に３０μ秒のパルス幅を
選択し、選択された電力レベルに到達するまで第１のカ
ウンタを制御することによって、繰り返し周波数を変化
する。しかしながら、そのシステムにおいてはあらかじ
め決められた最小の繰り返し周波数、例えば５ＯＨｚ以
下に下げることはできない。５０Ｈｚになると、システ
ムは選択された電力の設定値を実行させるためパルス幅
を狭くし始める。
本発明の目的はまた特定の治療に適用するレーザー会パ
ルスのバーストすなわち一群のパルスを発生させるため
、駆動パルスをパルス・レーザーに出力するための電力
スイッチング回路を備えたパルス・レーザー・システム
を提供することにある。そのバーストは制御信号列に応
答して出力され、その制御信号列は順次制御信号のパル
ス繰り返し周波数、パルス幅、出力時間を設定する制御
回路によって出力される。
制御信号をレーザーに印加することによってレーザ′−
・パルスのバーストを出力させるために、例えば足踏器
や他の適当な手段である操作スイッチを用いることによ
ってオフとオンの位置を変化できる。その操作スイッチ
がオンの位置にあるとき、あらかじめ決められた間隔で
レーザー・パルスのバーストが自動的に繰り返し出力さ
れる手段が用いられる。
第２図は１００で示されている従来技術におけるパルス
・レーザーのブロック・ダイヤグラムである。この回路
においてカソード１０６とアノード１０４をもつアルゴ
ン・レーザー管１０２を備えている。電圧源１０８の電
圧Ｖがカソード１０６に、また、ＰＦＮＩＩＯを介して
アノード１０４に加えられている。インダクタ１１２と
ダイオード１１４は電圧源１０８とＰＦＮＩＩＯの一端
子間に直列に接続されている。さらに、レーザー１００
において、レーザー管１０２のまわりに巻かれている線
コイル１２２に接続しているトリが回路１２０を備えて
いる。放射カップリングをもつパルス・ガス・レーザー
の一実施例として米国特許第３６２６３２５号がある。
ＰＦＮＩＩＯは、従来から用いられているインダクタと
コンデンサから成るＬＣフィルタ回路である。インダク
タンス上１キヤパシタンスＣを適当に選択することによ
って、レーザー・パルスのパルス幅を決定することがで
きる。しかしながら、いったん該ＰＦＮＩＩＯが設計さ
れると、そのパルス幅は固定される。
ＰＦＮＩＩＯにおいて、電圧源１０８がらある一定量の
エネルギーが蓄積される。トリガ回路１２０はコイル１
２２の両端に電圧パルスを印加することによって、レー
ザー管１０２内のアルゴンガスを電離する。電離された
ガスは、ＰＦＮＩＩＯにおけるエネルギーがカソード１
０６から、７ノード１０４に放電できる通過路を形成し
、該回路におけるエネルギーがなくなるまでレーザーを
発生させる。ＰＦＮＩＩＯは、再度エネルギーの蓄積を
開始するが、トリガ回路がコイルに再びパルスを出力す
るまで放電することはない。トリガ回路１２０によって
パルスのくり返し周波数が決定されている時、レーザー
の出力パルスのパルス幅は固定され、パルス幅はＰＦＮ
ｌ、１０のＬＣ定数によって固定され決定される。パル
スのくり返し周波数をＰＦＮＩＩＯの設計によって決定
される最大くり返し周波数の極限までトリ〃・パルスに
よって変化させることができる。
第１図は、２００で示されているパルス・レーザーのブ
ロック・ダイヤグラムであり、第５図と第６図における
レーザー２００のように使われることが適当である。該
パルス・レーザーは、カソード１０６とア７一ド１０４
をもつ第２図のレーザー管１０２と電圧源１０８を備え
ている。さらに、本回路においては、新しい電力トラン
ジスタを用いたスイッチング回路２１０と、第２図にお
けるコイル１２２をもっトリ１回路１２０とを備えてい
る。電力スイッチング回路２１０は、第２図におけるＰ
ＦＮ　１１０とインダクタ１１２とダイオード１１４の
直列回路とおき替わっている。
この電力スイッチング回路２１０を用いることによって
、パルス幅が可変なレーザー出力パルスを発生させるこ
とができる。また、パルス繰り返し周波数が電力スイッ
チング回路２１０によって決定されると、トリ１回路１
２０においてガスを電離するために一度パルスが出力さ
れ、その後、グロー・モードにおける低電力レベルで、
連続的にパルスが出力される。
電力スイッチング回路２１０において、いくつかの重要
な要求条件がある。第１にパルス幅が可変なレーザーを
出力させる能力である。パルス幅の可変範囲は、レーザ
ーの所望の動作モードによって決められる。例えｒｒ、
虹探切開のような穿通法に用いるパルス・レーザーを使
用する時は、１２０μ秒のパルス幅をもつ各パルス列が
容易に得られることが見い出された。□ また、凝固法を実行する時、３０μ秒のパルス幅のよう
な上記の手法に比べ狭いパルス幅をもつ比較的速いパル
ス繰り返し周波数が必要とされる。
この３０μ秒のパルス幅では穿通を生じさせることはで
きないとされている。従って、少なくとも３０μ秒から
１２０μ秒までの間において可変な幅のパルスを出力さ
せることが必要である。第２に、電力スイッチング回路
２１０は、レーザー発生中に、レーザー管１０２に大電
流（例えば］０ＯＶＡ））を供給できる必要がある。該
電流はレーザー管１０２のインピーダンスとレーザー管
の両端に加えられる電圧Ｖの関数である。典型的にはレ
ーザー管のインピーダンスは、純抵抗４〔Ω〕であり、
その電圧は５００（Ｖ）である。最後に、トランスはパ
ルスの立下り時において負電圧をもつ鋭いパルス波形を
出力するので、電力トランジスタを駆動するために、パ
ルス・トランスを用いることが必要である。
第３図は、第１図における電力スイッチング回路２１０
の詳細な回路図である。本回路２１０において、スイッ
チ３０６を介して入力端子３０１と３０３の両端に接続
されている１対の第１の１次巻線３０２及び３０４と、
１対の第１の１次巻線とは反対に巻かれ入力端子に接続
されている１対の第２の１次巻線３０８及び３１０と、
１対の２次巻線３１２及び３１４と、鉄心３１６及び３
１８とを備えた３００で示されている鉄共振トランス回
路を備えている。２次巻線３１２及び３１４は、直列接
続され、その両端は３つの並列接続された電カドラン、
シスタ３２２．’３２４及び３２６からなる出力回路に
接続されている。
トランス回路３００の機能はスイッチ３０６に印加され
るパルス制御信号に応答して、パルス幅が可変であるス
イッチング信号を該トランジスタ回路に出力することに
ある。Ｙランノスタ回路を駆動するために、６〔Ｖ〕、
１５〜２０（：Ａ）であるスイッチング信号が必要とさ
れる。上述のようにパルス幅は、少なくとも３０μ秒か
ら１２０μ秒の範囲にわたって可変であることが必要で
ある。
トランスから出力される最大パルス幅は、電圧と時間の
関数である。パルスで駆動されるトランスは、そのトラ
ンスのある基本的な限界値で飽和する。例えば、アルゴ
ンを用いたパルス・レーザ′−・システムにおいては好
適なパルス・トランスは３０μ秒のパルス幅において飽
和する。パルス幅を２倍にするために、１対の１次巻線
３０２及び３０４並びにそれに結合される２次巻線３１
２及び３１４が、それぞれ用いられる。これによって、
飽和状態となるまでに各巻線の両端における電圧が２等
分され、全パルス幅を２倍とし、６０μ秒となる。鉄共
振トランスは磁気ヒステリシス曲線の特性をもっことか
ら、パルス幅を再び２倍の１２０μ秒にすることが可能
である。ここで、単極の半分の方向に対してのみ繰ｊ）
返しパルスが出力されると、ヒステリシス曲線は鉄心が
飽和する前まで使用され、従って、パルス幅は、全ヒス
テリシス曲線が利用されている時に出力されるパルス幅
の半分となる。鉄心をある一方向ｌ：飽和させることが
できるが、）災方向のエネルギーが巻線に供給されない
ので、パルスとパルスの間においてはその逆方向の飽和
状態になることはない。
本発明において、５０［Ｖ）の電圧が連続的しこ入力端
子３０１及び３０３に印加される。スイッチ３０６が開
いているとぎ、５０（Ｖ）の電圧が５００〔Ω〕の抵抗
３２０を介しで、１対の第２の１次巻線３０８及び３１
０に印加される。これによって、鉄心３１６及び３１８
はある一方向の飽和状態にバイアスされる。該１次巻線
３０８及び３１０は、１次巻線３０２及び３０４とは反
対方向に巻かれているので、レーザー回路にパルスを出
力するため、パルス制御信号がトランジスタを用いた電
力スイッチング回路２１０に印加される時、所望のパル
ス幅の期間、スイッチ３０６は閉じられ、５０（Ｖ）の
電圧が該１次巻線３０２及び３０４に印加される。鉄心
３１６及び３１８が該１次巻線３０８及び３１０によっ
て、ある一方向の飽和状態に駆動されているので、制御
パルスがスイッチ３０６に印加されるとき、１対の第１
の１次巻線３０２及び３０４の巻かれている方向の飽和
状態に、鉄心３１６及び３１８を駆動するのに、２倍の
時間を必要とする。従って、第１図に示す回路を用いる
ことにより、３０μ秒よりも狭いパルス幅から１２０μ
秒のパルス幅までの範囲のパルス幅を実現することが可
能である。
すべてのトランジスタ回路は同一であり、その一つの回
路３２２について詳細に説明する。回路３２２は、１つ
のモトローラ製ＭＪ１．００１６である電力トランジス
タ３３０を備えている。そのトランジスタのベースは、
１対のダイオード３３２及び３３４とｏ、ｉ、ｏ（Ω〕
である抵抗３３６を介して、１対の２次巻線３１２及び
３１４の出力端子３３７に接続されている。トランジス
タ３３０のエミッタは、０．０２　（Ω〕の抵抗３３８
を介して、２次巻線対のもう一方の出力端子３３９に接
続されている。そのコレクタは、レーザー管のカソード
に接続され、また、ダイオード３４０を介して抵抗３３
６に接続されている。さらに、そのベースは、ダイオー
ド３４２を介して、う回路として抵抗３３６に接続され
でいる。
そのコレクタに接続されているダイオード３４０とその
ベースに接続されている１対のダイオード３３２及び３
３４は、ダーリントン・トランジスタ回路を形成するた
めに、トランジスタ３３０に接続されたトランジスタと
して疑似的に動作する。従来技術においてよく知られて
いるように、第２のトランジスタ（この場合電力トラン
ジスタ３３０）は、第１のトランジスタ（この場合ダイ
オード対３４０及び３３２又は３３４）の動作によって
飽和することを妨げられている。従って、これによって
トランジスタ回路がターン・オフとなった時より速いス
イッチング動作が行なわれることになる。
ベースに接続されているダイオード３４２は、入力パル
スが負極性となるとき、蓄積されたベースの電荷を放電
することによってターン・オフ時におけるスイッチング
時間を減少させる。
上述のように、典型的には、レーザー管は９０（Ａ）と
１５０’　［Ａ　）の量変化しながら１００（Ａ）の電
流を必要とする。トランジスタ３３０は、約１０の強制
電流利得をもって駆動されている。鉄共振トランスは、
６〔■〕、１５〜２０（Ａ）のベース駆動信号を出力す
る。各回路３２２．３２４及び３２６の各トランジスタ
のコレクタはカソード１０Ｇに接続される接続点３５０
に接続されている。従って、トランジスタはレーザー管
の電流に関する必要条件を満足することができる。
ａ材用パルス・レーザー・システムにおいて、レーザー
の駆動パルスに対して最大限の制御を行ろことがでトる
ことが強（要求されている。例えば、パルス・トランス
駆動の長所の１つとして、入力電圧がしゃ断された時ト
ランスの出力電圧はトランジスタをしゃ断させ、急ｍｉ
こ負極性となる。
しかしながら、逆電圧が高すぎるとトランジスタを破損
させるので、その電圧を制御する必要がある。このこと
は、１次巻線３０２及び３０４と並列にそれぞれ接続さ
れている７５〔Ω〕の抵抗３６０及び３６２を用いるこ
とによって防止することができる。これらの抵抗の値を
変化することによって、第４図に示すスイッチング信号
４００の負極性の立下り部分４０２の深さを調整するこ
とができる。」二連したよう（こ、トランジスタのター
ン・オフ応答特性はまた、ベースに蓄積される電荷の放
電のだめのダイオード３４２によって改善される。
基板上のトランジスタを用いたスイッチング回路２１０
からレーザー管のカソード１０６に接続されている導線
３７０は、有限の長さを有し、その導線の長さに対応し
たインダクタンスを有する。
トランジスタがターン・オフしたためにこの導線に流れ
る大電流が突然消滅したとぎ、電圧の過渡現象がこの導
線によるインダクタンスによって生じる。この過渡現象
は回路３２２．３２４及び３２６における電力トランジ
スタを破損させるおそれがある。これを改善するために
、ダイオード３８２とコンデンサ３８４から成るクラン
プ回路３８０が回路３２２．３２４及び３２６の出力端
に接続されている。過渡現象によって生じるエネルギー
はコンデンサ３８４において蓄積され、そのコンデンサ
はパルスとパルスの間においてそのエネルギーをゆっく
りと主電力供給装置におけるコンデンサへ放電させる。
ある小容量のコンデンサ（ｏ、ｉ（μＦ））を、Ｙラン
ジスタ回路用の基板上のトランジスタ近傍に設けること
によって、小インダクタンスがクランプ回路と関係させ
、過渡現象をトランジスタから回避させることができる
。
第５図は５００で示される眼科用レーザー・システムの
簡単化されたブロック・ダイヤグラムである。レーザー
２００のようなレーザ゛−から出力されたレーザー光は
、焦点レンズ・アセンブリ５０２を通って、標的ミラー
５０４で反射された後、標的５０６に入射される。第５
図における標的５０６は従来から用いられている光度計
であり、その光度計に入射されるレーザー光の強さを測
定する。これはレーザーの較正の際用いられるが、通常
、眼科用レーザーにおいては、その標的は人間の目であ
る。標的ミラー５０４は旋回させることかで外ハンドル
５１０を用いることによって医師により調整することが
でトる。
目の中の標的表面上に入射するように、スポットの大き
さを制御するために用いるレーザー・ビームの焦点の機
能は柊わめて重要である。スポットの大外さば医師がギ
ザギザのノブ５２０を回転させることによって手動で調
整することができる。
このノブを回転することによって、レンズ箱５３０内の
レンズ５２２と５２４の間の間隔を調整することができ
る。ノブ５２０を一方向もしくはそれとは逆の方向に回
転することによって、レンズが１対の２つの矢印の方向
で、２つのレンズが近づくかもしくは離れるように動く
。このようなレンズ配置は従来技術においてよく知られ
ている。
本発明においては、スボツＦの大きさを５０から１５０
０μ肩に変化することができる。
レーザー・ビームの一部はビーム分光５５１４によって
分光され、７オトセル５１６に入射するような方向に向
けられる。７オトセル５１６はレーザー・ビームの電力
に関係するある電圧を発生し、バースト出力中もしくは
治療中において、標的に実際に伝送される電力もしくは
エネルギーを決めるために、コンピュータによって処理
される。
本システム５００はさらに、生物学用顕微鏡５４０と対
物レンズ５４２を備え、医師はそれを通して患者の目を
見ることができる。これらは従来技術においてよく知ら
れている。この例としてブリット・コーボレーシＢ　ン
（Ｂｒｉｔｔ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製モデル１５
２眼科用レーザーがある。医師は足踏スイッチによって
レーザーの発射を制御する。
発射させる前に医師は低電力のレーザー・ビームでねら
いをつけ、行う治療法に適当なスポットの天外さに調節
する。そのレーザーφシステム５００が動作中、もし医
師がレーザーを発射しなければ、そのシステムは照準モ
ードの状態にある。レーザー・ビームはミラー５０４で
反射され目に入射されると同時に、医師は目を見ること
ができる。
従来から用いられているシャッター装Ｍ（図示せず）が
レーザ゛−の発射中にレーザー・ビームが医師の目から
の見通し上にはいることを防止するために用いられる。
第６図において、レーザー２００のようなレーザーに接
続される眼科用レーザー・システムの制御回路部６００
の全ブロック・ダイヤグラムが示されている。制御回路
は、制御パネル６０２、足踏スイッチ６０３、マイクロ
プロセッサを用いた制御器６０４、カウンタ回路６０６
およびハードウェア制限回路６０８から構成されでいる
。好ましい実施例におけるマイクロプロセッサを用いた
制御器６０４は、インテル（Ｉ　ｎｔｅｌ）製８０８８
ｖイクロプロセッサ・チップである。
第７図はレーザー・システムの種々の動作モードを含ん
だ制御パネル６０２の詳細図である。第７図においては
、レーザー・システムに対する操作者のコマンド・イン
ターフェイスが示されている。一般に操作者のコマンド
は、パネル上の適当なボタンを押下することによって入
力される。制御パネルは特別注文のキーボードであり、
コマンドはディシイタル信号にされ、バス６１０を介し
てマイクロプロセッサを用いた制御器６０４に伝送され
る。ここでコマンドは翻訳され、最後にカウンタ回路６
０６におけるカウンタに設定又はロードされる信号に変
換される。カウンタ制御信号はスイッチ３０６に送られ
る制御信号のパルス繰り返し周波数、パルス幅及び出力
時間を設定する。
マイクロプロセッサを用いた制御器６０４は動作モード
に対応して１２０μ秒まで制御信号のパルス幅を自動的
に設定する。電源スィッチ７０２はスリット・ランプの
電源をオンにする。このスリット・ランプ（図示しない
が、生物学用顕微鏡５４０とともに従来から用いられて
いる装置であり、操作者が見えるように目を照らすため
に用いられている）とパネル照明の明るさはそれぞれノ
ブ７０４及び７０６によって調整される。操作者はボタ
ン７０８もしくは７１０を押下することによってそれぞ
れ凝固もしくは穿通モードを選択することができる。こ
れらのモードの詳細については後述される。好ましい実
施例において、レーザー・システムは、３つの色、すな
わち青／緑、緑、赤を発生させるアルゴンもしくはクリ
プトン・レーザーを動作させることができる。所望の色
はパネルのエリア７１２におけるボタンによって選択さ
れる。
任意の特別な治療に対する出力時間を７１４の位置で選
択することができ、表示エリア７１６において表示され
る。凝固モードにおいては、電力を７２０の位置で変化
することができ、一方穿通モードにおいてはパルス繰り
返し周波数を７２２の位置で変化することができ、７２
４の位置で表示される。
レーザー・システムの動作中であって、治療と治療の間
においては、上述の通りシステムは照準モードとなって
いる。照準ビームの強さは７２６の位置で変化すること
ができる。
レンズΦアセンブリ５０２はさらにノブ５２０に接続さ
れるポテンション・メーターを備えている。ノブを回転
する時、ポテンション・メーターはレーザー・ビームの
スポットの大島さの関数である印加電圧を変化させる。
スポットの大とさと電圧との関係は、各モデル・スリッ
ト・ランプとズーム・レンズの組合わせに対して測定さ
れプロットされる。例えば、組合わせとして、ツァイス
（Ｚｅｉｓｓ）製モデル１００／１６スリツト・ランプ
とそのスリット・ランプのために作られたブリット◆コ
ーポレーション（Ｂｒｉｔｔ　Ｃｏｒｐｏ−ｒａｔｉｏ
ｎ）製ズーム・レンズがあり、市販されている。スポッ
トの大外さをポテンション・メーターの電圧から決定で
トるように、プロットされた曲線がマイクロプロセッサ
６０４のソフトウェア上に書外込まれる。スポットの大
きさは７３０の位置で表示される。
レーザー・システムを較正することができ、そのプロセ
スは後述する。較正はボタン７３２を押下することによ
って開始される。さらに、例えば全網膜光凝固法のよう
な非常に長い治療が要求される場合、操作者の疲労を軽
減するためにあらがしめ設定された間隔で治療のための
バーストを出力する特別な繰り返しモードが用いられる
。繰り返しモードは７４０の位置で設定される。
ボタン７４４．７４６．７４８及び７５０を押下するこ
とによって累積エネルギー（後述する）、照準電力、ピ
ーク電力及びレーザー管圧力のような種々のパラメータ
が表示エリア７４２に表示される。表示エリア７５２及
び７５４において、凝固治療のために伝送されるレーザ
ー・パルスのバーストにおける伝送される平均電力及び
入射される平均電力が表示される。
レーザー・システムの動作モードの詳細についで説明す
る前に第８図及び第９図を参照する。制御信号は第８図
のカウンタ回路によって発生される。パネル６０２を介
して行われる操作者のコマンドとモード選択に応答して
、マイクロプロセッサを用いた制御器６０４は自動的に
適当なパルス幅を決定し、カウンタ８０２に設定される
。マイクロプロセッサを用いた制御器６０４はまたカウ
ンタ８０４に適当なパルス繰り返し周波数を出力させ、
カウンタ８０６に出力時間計数値をロードさせる。出力
時間計数値は７１８の位置で表示される。
カウンタ８０２と８０４は接続線８０８を介して供給さ
れるＩＪ４Ｈｚのクロックに応答して動作する。カウン
タ８０４はプロセッサによって設定されたパルス繰り返
し周波数で周期出力信号を出力する。カウンタ８０４か
ら出力される各出力信号に応答して、カウンタ８０２は
適当なパルス幅をもつパルスを発生させ、接続線６１２
を介してハードウェア制限回路６０８にそのパルスを伝
送する。
カウンタ８０４からの出力信号はまたカウンタ８０６に
伝送され、カウンタ８０６はマイクロプロセッサによっ
て入力された計数値からその出力信号をカウントダウン
する。計数値がゼロになると、カウンタ８０６は自動的
にカウンタ８０４を停止させる。
第８図で示されている全部で３つのカウンタ回路の機能
は、インテル（Ｉｎｔｅｌ）製８２５３集積回路を適当
に接続することによって実現できる。
第９図で詳細に示されているハードウェア制限回路は、
最大パルス幅（１２０μ秒よりも広くない）と最大繰り
返し周波数（３００パルス／秒を超えない）を制限する
。回路６０６は、カウンタ８０２の出力パルスによって
トリガされる第１のワンショット・マルチバイブレータ
９０２を備えている。ワンショット・マルチバイブレー
タ９０２は、ワンショット・マルチバイブレータ回路９
０４に３肩秒の長さの出力信号を出力する。
ワンショット・マルチバイブレータ９０２からの出力パ
ルスの立上りエツジで、ワンショット・マルチバイブレ
ータ９０４は１２０μ秒の長さのパルスを出力する。好
ましい実施例においてはトランジスタ・スイッチである
スイッチ３０６に制御信号を出力するために、アンド・
ゲート９０６においてカウンタ回路８０２からの元の大
力パルスと上記パルスは結合される。レーザー・パルス
を出力するために、カウンタ８０２の出力が１２０μ秒
のパルスと結合されるので、たとえエラーによってマイ
クロプロセッサ６０４がカウンタ８０２により長いパル
スを設定したとしても、レーザー・パルスは１２０μ秒
を超えることはない。
ワンショット・マルチバイブレータ９０２の出力パルス
の立上りエツジにおいてのみその１２０μ秒の長さのパ
ルスが出力されるので、１秒間に３０００回以上出力さ
れることはない、第９図に示す回路は、レーザーに損傷
を与えるパルス周波数とパルス幅を出力することを防止
するためにコンピュータ／カウンタ結合回路の出力を制
御する。
アンド・ゲート９０６の出力はまた、ワンショット・マ
ルチバイブレータ９０８に伝送され、そのワンショット
・マルチバイブレータ９０８はレーザー管１０２を電離
するためトリガ回路２２０に信号を出力する。しがしな
が呟レーザー管がすでに低電力グロー・モードにある時
、レーザー管の電力回路における抵抗はその電流を検知
し、ある信号がワンショット・マルチバイブレータ９０
８を禁止する光アイソレータ回路９１０に出力される。
回路９１０は、レーザー管の電力供給回路と制御回路と
を分離するために設けられている。
マイクロプロセッサによって制御されるカウンタ回路の
設計法がフェイル・セーフ動作を行うために用いられて
いる。足踏器６０３が押下されると、制御パネルを介し
て操作者からの入力情報に従って、マイクロプロセッサ
はカウンタに設定し、ロードする。１つの入力情報は、
カウンタ８０６に出力時間計数値としで入力される出力
時間である。計数値がゼロになると、再度足踏器６０３
が押下されるまでレーザーの発射は停止される。照準モ
ードにおいてビームは低電力、すなわち繰作者が７２６
の位置によって設定されマイクロプロセッサ６０４によ
って設定される、狭いパルス幅と低い繰り返し周波数で
連続的に発射されている。
足踏器が押下されない時、このモード（前治療の間を除
いて、このシステムがオンである時はいつでも動作して
いる）（こおいて、あらかじめ決められた計数値がカウ
ンタ８０２及び８０４に適切に設定され、カウンタ８０
６にロードされる。照準モード中計数値がゼロとなる前
においては、カウンタ８０６にあらかじめ決められた計
数値をくり返し入力されるように、マイクロプロセッサ
はプログラムされている。もし何らかの理由でマイクロ
プロセッサが故障した場合、最後にロードされた計数値
がゼロとなった時に照準ビームは自動的に停止される。
第１０図において示すように、操作者は凝固モード１０
０２又は穿通モード１００４のいずれかのモードを選択
する。」二連のように穿通モードにおいては、高電力パ
ルスを出力することが必要である。操作者はステップ１
００６において所望の繰り返し周波数とステップ１００
８において出力時間を選択する。マイクロプロセッサは
高電力モードに対しては自動的に１２０μ秒のパルスを
選択する。操作者はステップ１０１０におｌｖ）てスポ
・ノドの大トさを調節し、ステップ１０１１におり亀で
その時足踏器は押下できる状態となる。マイクロプロセ
ッサはカウンタ８０２及び８０４をセ・ノドし、カウン
タ８０６にロードした後、該カウンタ８０２．８０４及
び８０６を動作させる。制御バルスがレーザー２００に
出力され、順次標的にプロクラムされたレー？−−パル
スのバーストが発射される。
凝固モードにおいては、穿通モードに比較しより狭いパ
ルス幅で動作する。凝固モードにおいては操作者は、ス
テップ１０１２において所望の電力レベルとステップ１
０１３において出力時間を選択する。ここで選択された
設定電力がステップ１０１４で判断され、最大レベルで
あれば、ステップ１０１６においてマイクロプロセッサ
はその電力レベルを出力させるために３０μ秒のパルス
幅と３０００　Ｈｚよりも低いかもしくは等しい適当な
パルス繰り返し周波数を選択する。設定電力が上記最大
レベルよりも低い電力レベルの場合ステ・ンプ１０１８
においてマイクロプロセッサはまず繰り返し周波数を低
くする。しかしながら、この時繰り返し周波数は５０Ｈ
ｚ以下ｌこはならない。もしステップ１０２０において
所望の設定電力に達していない場合、ステップ１０２２
においてマイクロプロセッサはパルス幅を狭くする。操
作者がステップ１０１０において所望のスポットの大き
さを選択し、ステップ１０１１において足踏器が押下さ
れると、マイクロプロセッサは前述のように動作する。
本発明のレーザー・システムは較正モード１０３０を備
えている。このモードにおいて、ステップ１０３２にお
いて光強度計５０６が標的の位置に設けられる。操作者
がボタン７３２を押下した後、足踏器を押下し、ステッ
プ１０３４において伝送されるレーザー電力がある決め
られすこ電力設定値例えばＩＷであることを光強度計が
示すまで、設定電力値（位置７２０で示されている）を
調整する。その時、ステップ１０３６においてマイクロ
プロセッサは校正された電力レベルをもつパルス幅と繰
り返し周波数を設定する。例えば、Ｐｃ　榔（ＰＷ）ｃ
　　（ＰＲＲ）ｃ 治療の際用いられるレーザー出力パルスの特定のバース
トに対して、電力は、 となる。ここで、Ｐｃ＝ＩＷ、単位がＷであるＰＴは、
上記に示すパルス幅ＰＷとパルス繰り返し周波数ＰＲＨ
の積の比である。上記方程式は、次式のように書トかえ
ることができる。
ＰＴ　＝　（Ｋ）（ＰＷ）Ｔ（ＰＲＲ）ＴここでＫは次
式で表わされる定数である。
位置７２０の凝固モードでの操作によって選択される電
力入力値に設定するため、レーザー・パルスのバースト
のパルス幅と繰り返し周波数を設定する際、本レーザー
・システムにおいて上記方程式を用いる。また、上記方
程式を用いることによって、レーザー・システムは、凝
固モードもしくは穿通モードのいずれに対しでも、各バ
ーストに対する入射される平均電力を計算し、７５４の
位置にそれを表示する。
７オトセル５１６の出力は、（ＰＷ）ｃと（ＰＲＲ）Ｃ
として同時に較正されている。較正されたフォトセルの
出力電圧ＶｃはＰｃに関係する。その比例定数はビーム
分光器５１４によって分光される電力の比率に依存する
。任意の指定された治療法（凝固法又は穿通法）の動作
中、７オトセル電圧によって決定され、実際に伝送され
る平均電力は、治療中の７オＦセルの出力電圧ＶＴ及び
ＶｃとＰｃから決定することかできる。ＶＴ、Ｖ（！及
びＰｃから決められ、治療中バーストで伝送される平均
電力は７５２の位置で表示される。伝送されるエネルギ
ーは、伝送される平均電力に電力が伝送される時間量を
かけることによって、求められる電力に関係する。任意
の指定されたバーストに対する伝送エネルギーは、伝送
された電力に先に決定された７オトセル電圧と７１４の
位置での操作によって設定され７１６で表示される出力
時間をかけることによって決定でトる。複数のバースト
によるすべての治療における累積エネルギーは、各バー
ストに対して伝送されるエネルギーを加算することによ
って決定される。
ステップ１０４２において、各バーストに対するエネル
ギー密度は、上記で決定された伝送エネルギーをポテン
ションメーターの電圧で決定されたスポットの大きさで
割ることに北って決定される。もしスポットの直径が１
／２となれば、その面積は１／４となり、エネルギー密
度は４倍となる。穿通法又は凝固法を行う場合、スポッ
トの大外さを減少させる効果を認識することは、適切な
治療と不必要に目を損傷を与えることを防止する上で非
常に重要である。
上述したように、全網膜を治療するようないくつかの治
療法の場合、その治療を終了させるためにはレーザー電
力の多数のバーストが必要となる。
ここで従来技術においては、操作者が足踏器から足を上
げる動作と、レーザーを発射させる時、足踏器を押下す
るために足を下げる動作が要求され、操作者にとって非
常に疲れることとなる。このことはもちろん望ましいこ
とではない。
本発明は以上の問題点を解決するため、第７図及び第１
０図に示すように繰り返し動作モード１０５０を備えて
いる。操作者が穿通モード１００４もしくは凝固モード
１００２を選択し必要な選択（例えばステップ１００６
と１００８又は１０１２と１０１３）を行った後、操作
者は７４０の位置にある繰り返しモードボタン７７０を
押下する。そして設定ボタン７７２を用いて、操作者が
時間間隔を選択すると７７４のエリアに表示される。所
望の間隔が表示された時、操作者が入カポタン７７６を
押下する。このとき、繰り返しモードが設定される。第
１０図におけるステップ１０５０と１０５２に示されて
いる。
この繰り返しモードが設定された後、操作者はステップ
１０１１において足踏器６０３をオフｈ）らオンの位置
に押下する足踏器６０３が押下されている間は、ボタン
７７０が押下される前に穿通モード１００４又は凝固モ
ード１００２に設定されたレーザー・パルスのバースト
はボタン７７２及び７７６で選択された間隔で自動的に
繰り返し出力される。足踏器６０３が操作者によって押
下されている開は、そのバーストが連続的に出力される
。もちろん足踏器以外の他の電力の制御手段、例えば手
動でボタンを押下する方法を用いることができる。
治療が終了した時ボタン７６０を押すと、治療の状況が
図示されていないプリンタに出力される。
［発明の効果１ 以上詳述したように、本発明のパルス・レーザーを用い
ることによって、操作者の入力操作を簡単化させること
ができるとともに、たとえば眼治療のような治療用レー
ザー・システムにおいて治療時間が長い場合の操作者の
疲労を軽減させることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示すパルス・レーザーのブ
ロック・ダイヤグラム、第２図は従来技術の一実施例を
示すパルス・レーザーのブロック・ダイヤグラム、第３
図は第１図のパルス・レーザーのスイッチング回路図、
第４図は第３図のスイッチング回路におけるスイッチン
グ信号の出力波形を示す図、第５図は眼科用レーザー・
システムの一部を示す簡単化されたブロック・ダイヤグ
ラム、第６図は第５図の眼科用レーザー・システムにお
いてレーザーに接続される制御回路部の簡単化されたブ
ロック・ダイヤグラム、第７図は第６図の制御パネルの
詳細を示す外観図、第８図は第６図の制御回路のカウン
タ回路部の詳細を示すブロック・ダイヤグラム、第９図
は第６図の制御回路のハードウェア制限回路部の詳細を
示すブロック・ダイヤグラム、第１０図は本発明の一実
施例である眼科用レーザー・システムの代表的な動作モ
ードの動作を示すフロー・チャートである。 １００・・・従来技術におけるパルス・レーザーのブロ
ック・ダイヤグラム、 １０２・・・アルゴン・レーザー管、 １０４・・・７メード、 １０６・・・カソード、 １０８・・・電圧源、 １１０・・・パルス形成回路（ＰＦＮ）、１１２・・・
インダクタ、 １１４・・・ダイオード、 １２０・・・トリガ回路、 １２２・・・線コイル、 ２００・・・パルス・レーザーのブロック・ダイヤグラ
ム、 ２１０・・・トランジスタを用いた電力スイッチング回
路、 ３００・・・鉄共振トランス回路、 ３０１．３０３・・・入力端子、 ３０２．３０４・・・第１の１次巻線、３０６・・・ス
イッチ、 ３０８．３１０・・・第２の１次巻線、３１２．３１４
・・・２次巻線、 ３１６．３１８・・・鉄心、 ３２０・・・抵抗、 ３２２．３２４．３２６・・・トランジスタ回路、３３
０・・・トランジスタ、 ３３２．３３４・・・ダイオード、 ３３６・・・抵抗、 ３３７．３３９・・・２次巻線の出力端、３３８・・・
抵抗、 ３４０．３４２・・・ダイオード、 ３５０・・・接続点、 ３６０．３６２・・・抵抗、 ３８０・・・クランプ回路、 ３８２・・・ダイオード、 ３８４・・・コンデンサ、 ４００・・・スイッチング信号、 ４０２・・・スイッチング信号の負極性の立下り部分、 ５００・・・眼科用レーザー争システムのブロック・ダ
イヤグラム、 ５０２・・・焦点レンズ・アセンブリ、５０４・・・標
的ミラー、 ５０６・・・標的、 ５１０・・・ハンドル、 ５１４・・・ビーム分光器、 ５１６・・・７オトセル、 ５２０・・・ギザギザのノブ、 ５２２・・・レンズ、 ５２４・・・レンズ、 ５３０・・・レンズ箱、 ５４０・・・生物学用顕微鏡、 ５４２・・・対物レンズ、 ６００・・・制御回路部、 ６０２・・・制御パネル、 ６０３・・・足踏スイッチ、 ６０４・・・マイクロプロセッサを用いた制御器、６０
６・・・カウンタ回路、 ６０８・・・ハードウェア制限回路、 ７０２・・・電源スィッチ、 ７０４・・・ノブ、 ７０６・・・ノブ、 ７０８・・・凝固モードボタン、 ７１０・・・穿通モードボタン、 ７１２・・・色選択ボタン、 ７１４・・・出力時間選択、 ７１６・・・出力時間表示、 ７１８・・・出力時間計数値表示、 ７２０・・・凝固モード電力調整、 ７２２・・・パルス繰り返し周波数調整、７２４・・・
パルス繰り返し周波数表示、７２６・・・照準ビーム強
度調整、 ７３０・・・スポットの大きさ表示、 ７３２・・・較正モードボタン、 ７４０・・・繰り返しモードボタン、 ７４２・・・パラメータ表示エリア、 ７４４・・・累積エネルギー表示ボタン、７４６・・・
照準型カポタン、 ７４８・・・ピーク電カポタン、 ７５０・・・レーザー管圧カポタン、 ７５２・・・伝送平均電力表示、 ７５４・・・入射平均電力表示、 ７６０・・・プリントボタン、 ７７０・・・繰り返しモードボタン、 ７７２・・・時間間隔設定ボタン、 ７７４・・・時間間隔表示、 ７７６・・・時間間隔入カポタン、 ８０２・・・パルス幅カウンタ、 ８０４・・・パルス繰り返し周波数カウンタ、８０６・
・・出力時間カウンタ、 ８０８・・・クロック接続線、 ９０２・・・マルチバイブレータ、 ９０４・・・マルチバイブレータ、 ９０６・・・アンド・ゲート、 ９０８・・・マルチバイブレータ、 ９１０・・・光アイソレータ、 １００２・・・凝固モード、 １００４・・・穿通モード、 １０３０・・・較正モード、 １０５０・・・繰り返しモード。

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）周期性をもつ入力制御信号に応答してパルス駆動
    されるレーザーと、上記入力制御信号を出力し上記入力
    制御信号のパルス幅を自動的に決定するための操作者に
    よって選択される入力パラメータに応答する制御回路と
    を備え、複数のモードで動作し、標的にレーザー・パル
    スを伝送するためのモード選択を含む操作者によって選
    択される入力パラメータに応答することを特徴とするパ
    ルス・レーザー・システム。
  2. （２）上記制御回路は、マイクロプロセッサを用いた制
    御器と、パルス繰り返し信号を発生させるための第１の
    カウンタを備えた上記マイクロプロセッサを用いた制御
    器に接続されたカウンタ回路と、上記各パルス繰り返し
    信号に応答してあらかじめ決められたパルス幅をもつパ
    ルスを発生させるための第１のカウンタに接続された第
    ２のカウンタと、上記制御信号の出力時間を決定するた
    めの上記第１のカウンタに接続された第３のカウンタと
    を備えた特許請求の範囲第１項記載のパルス・レーザー
    ・システム。
  3. （３）上記制御回路には上記制御信号の最大繰り返し周
    波数と最大パルス幅を制御するための上記第２のカウン
    タの出力に接続された制限回路の手段を備えた特許請求
    の範囲第２項記載のパルス・レーザー・システム。
  4. （４）上記回路は、あらかじめ決められた最高周波数よ
    りも低いかもしくは等しい周波数で出力パルスを出力で
    きる第１のマルチバイブレータ回路と、上記各出力パル
    スに応答してあらかじめ決められた最大パルス幅よりも
    狭いかもしくは等しいパルス幅のパルスを出力できる第
    ２のマルチバイブレータ回路とを備えた特許請求の範囲
    第３項記載の制限回路の手段。
  5. （５）上記制御回路は、標的位置に伝送されるレーザー
    ・パルスがあらかじめ決められたある較正電力レベルに
    調整されている時上記制御信号のパルス幅とパルス繰り
    返し周波数を決定するための較正手段と、任意の他のあ
    らかじめ決められた電力レベルに関係するレーザー・パ
    ルスのバーストのパルス幅とパルス繰り返し周波数を決
    めるための較正されたパルス幅とパルス繰り返し周波数
    に応答する手段とを備えた特許請求の範囲第１項記載の
    パルス・レーザー・システム。
  6. （６）上記制御回路は、上記レーザー・パルスをサンプ
    リングするための手段と上記レーザー・パルスの電力に
    関係し、上記マイクロプロセッサに印加される電圧を出
    力するための上記サンプリングに応答する手段とを含む
    、レーザー・パルスのバーストが出力される間上記標的
    に伝送されるエネルギーを決定するための手段を備えた
    特許請求第１項記載のパルス・レーザー・システム。
  7. （７）上記システムは、上記標的を射撃するレーザー・
    パルスのスポットの大きさを調整するための手段と、そ
    のスポットの大きさに関係するある出力信号を出力する
    ための手段とを備え、さらに、上記制御システムにおい
    て、そのスポットの大きさと上記標的における上記レー
    ザー・パルスのエネルギー密度を決めるための上記エネ
    ルギーの決定に関係する上記出力信号に応答する手段と
    を備えた、特許請求の範囲第６項記載のパルス・レーザ
    ー・システム。
  8. （８）上記スポットの大きさを調整する手段において、
    ズームレンズ・アセンブリと、上記出力信号の手段は上
    記ズームレンズ・アセンブリに回転可能に連続されたポ
    テンション・メーターを備えた特許請求の範囲第７項記
    載のパルス・レーザー・システム。
  9. （９）上記レーザーは、パルス駆動できるレーザー管と
    上記入力制御信号に応答して上記レーザーに用いるパル
    ス駆動信号を出力するための上記レーザー管に接続され
    た電力スイッチング回路とを備えた、特許請求の範囲第
    １項記載のパルス・レーザー・システム。
  10. （１０）上記レーザー管が空冷された特許請求の範囲第
    ９項記載のパルス・レーザー・システム。
  11. （１１）ある動作モードを選択する動作と、上記レーザ
    ー・システム出力を制御するために上記のモードの選択
    に応答して周期制御信号を発生させる動作と、上記発生
    させるステップにおいて自動的に上記制御信号のパルス
    幅を調整することを備え、複数モードにおいて上記の動
    作を行うことができるパルス・レーザー・システムの動
    作方法。
  12. （１２）上記発生させるステップにおいて、上記レーザ
    ー出力に用いるあるパルス繰り返し周波数に関係するあ
    らかじめ選択される繰り返し周波数の信号をもつ第１の
    カウンタを調整するステップと、上記レーザー出力に用
    いる、あるパルス幅に関係するあらかじめ選択されたパ
    ルス幅の信号をもつ第２のカウンタを調整するステップ
    と、上記レーザー出力に用いる出力時間に関係するある
    出力時間計数信号をもつ第３のカウンタにあらかじめロ
    ードしておくステップと、上記第１のカウンタの出力に
    応答して上記出力時間計数信号からカウントダウンする
    ステップとを備えた、特許請求の範囲第１１項記載の方
    法。
  13. （１３）ある目的のモードにおいて、上記の計数がゼロ
    に近づく前に出力時間計数値をもつ、上記第３のカウン
    タに繰り返し再ロードすることを備えた、特許請求の範
    囲第１２項記載のパルス・レーザー・システムの動作方
    法。
  14. （１４）穿通モードにおける第２のカウンタを調整する
    ステップにおいて、あらかじめ決められたパルスの最小
    幅よりも広いか、もしくは等しいパルス幅と関係するあ
    るパルス幅の信号をもつ、上記のカウンタを自動的に調
    整するステップを備えた特許請求の範囲第１２項記載の
    パルス・レーザー・システムの動作方法。
  15. （１５）凝固モードにおいて、所望の電力レベルを選択
    することと、上記電力レベルで実行させるためにあらか
    じめ決められた最低周波数よりも低くない周波数にレー
    ザー出力の繰り返し周波数を低下させるように調整され
    る繰り返し周波数とあらかじめ決められたレーザー出力
    の最大パルス幅をもつ信号と関係するあるパルス幅の信
    号をもつ上記第２のカウンタを自動的に調整することと
    、上記所望の電力レベルに近づくまで上記パルス繰り返
    し周波数を上記のあらかじめ決められた最低周波数に近
    づかせるとともに、より狭いパルス幅になるように上記
    のパルス幅をもつ信号を自動的に調整することを備えた
    特許請求の範囲第１２項記載のパルス・レーザー・シス
    テムの動作方法。
  16. （１６）上記のあらかじめ決められたパルス幅の最小値
    が約１２０μ秒である特許請求の範囲第１４項記載の方
    法。
  17. （１７）上記のあらかじめ決められたレーザー出力の最
    大パルス幅が約３０μ秒であり、上記のあらかじめ決め
    られたレーザー出力の繰り返し周波数が約５０パルス／
    秒である特許請求の範囲第１５項記載の方法。
  18. （１８）上記レーザー出力があらかじめ決められた電力
    出力レベルに調整されるときの上記第１と第２のカウン
    タにおいて設定される信号からレーザー出力のパルス幅
    と繰り返し周波数を決めることを含む上記レーザー出力
    を較正するステップを備えた特許請求の範囲第１５項記
    載の方法。
  19. （１９）上記レーザー出力パルスによって上記の標的に
    伝送されるエネルギーを決めるステップと、上記標的に
    おける上記レーザー出力のスポットの大きさに比例する
    信号を発生するステップと、上記のエネルギーの決定結
    果と、上記スポットの大きさをもつ信号に応答して上記
    標的における上記レーザー出力パルスのエネルギー密度
    を決めるステップとを備えた特許請求の範囲第１１項記
    載の方法。
  20. （２０）上記のエネルギー決定のステップにおいて、上
    記レーザー出力をサンプリングするステップと、上記サ
    ンプリングを行うステップに応答して上記レーザー出力
    における電力に関係する信号を発生するステップと、上
    記レーザー出力が出力される時まで逓倍を行うステップ
    とを備えた特許請求の範囲第１９項記載の方法。
  21. （２１）パルス駆動できるレーザーと、制御信号列に応
    答して、上記バーストを発生させる上記レーザーに駆動
    信号を出力するためのスイッチング手段と、上記制御信
    号を発生させるため及び繰り返し周波数、パルス幅及び
    そのパルスの出力時間を制御するための手段と、上記発
    生手段をあるオンの位置の上記スイッチング手段に上記
    制御信号を出力することを可能にすることによって上記
    レーザーの放電のためオフの位置とオンの位置との間を
    移動させる電力の制御手段と、上記電力の制御手段がオ
    ンの位置にあるとき、あらかじめ決められた間隔で上記
    レーザー・パルスのバーストを自動的に繰り返すための
    繰り返し手段とを備え、標的にレーザー・パルスのバー
    ストを伝送するために操作者による選択に応答して複数
    のモードにおいて動作できるパルス・レーザー・システ
    ム。
  22. （２２）上記電力の制御手段において足踏器を備えた特
    許請求の範囲第２１項記載のパルス・レーザー・システ
    ム。
  23. （２３）上記レーザー・システムが放射冷却される特許
    請求の範囲第２１項記載のパルス・レーザー・システム
    。
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