JPS61220767A - 微粒子流の密度制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、微粒子の移送や吹き付は等に利用される微粒
子流の密度制御方法に関するもので、例えば、微粒子に
よる。戒、膜加工、複合素材の形成、ドープ加工、また
は微粒子の新たな形成場等への応用が期待されるもので
ある。

本明細書において、微粒子とは、原子１分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう。ここで超微粒子とは１例えば、
気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した、コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる、
超微細な（一般には０．５ル腸以下）粒子をいう、一般
微粒子とは、ａ械的粉砕や析出沈殿処理等の一般的手法
によって得られる微細粒子をいう、また、ビームとは、
流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のことをいい、その
断面形状は問わないものである。更に、微粒子流の密度
とは、流れ中における微粒子の密度で、微粒子が一般微
粒子の場合には単位体積当りの個数、他の微粒子では単
位体積当りの質量をいう。

［従来の技術］ 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。

従来、上記微粒子の移送に伴う微粒子の流れ制御は、上
流側と下流側の差圧によって、キャリアガスと共に流れ
る微粒子の全流路を、管材又は筐体で区画することによ
って行われているに過ぎない、従って、微粒子の流れは
、その強弱はあるものの必然的に、微粒子の流路を区画
する管材又は筐体内全体に分散した状態で生ずることに
なる。

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、単なる平行管又は先細ノズルで、確かに
噴出直後の微粒子の噴流断面はノズル端目面の面積に応
じて絞られる。しかし、噴流はノズルの出口面で拡散さ
れるので、単に一時的に流路を絞っただけのものに過ぎ
ず、また噴流の速度が音速を越えることはない。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、流路を区画する管材や筐体内全体に微粒
子を分散させて移送したのでは、管材や筐体の壁面と微
粒子の接触等によって、流れ中の微粒子に大きな密度分
布を生じる。従って、例えば移送途中で微粒子を反応ガ
スと接触させる場合等において、密度斑によって接触状
態が変化してしまい、安定した均一な接触状態が得られ
ない問題がある。

一方、従来の平行管や先細ノズルは、流過した噴流内の
微粒子の密度分布が大きい拡散流となる。従って、微粒
子を基体へ吹き付ける場合等において、均一な吹き付は
制御が行い難い問題がある。また、均一な吹き付は領域
の制御も困難である。

［問題点を解決するための手段］ 上記問題点を解決するために講じられた一Ｌ段を１本発
明の基本原理の説明図である第１図で説明すると、流路
に縮小拡大ノズルｌを設けて微粒子を流過させる微粒子
流の密度制御方法で、微粒子の流れを均一化し、かつビ
ーム化できるようにしたことによって上記問題点を解決
したものである。

本発明における縮小拡大ノズル１とは、流入口１ａから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部２とな
り、こののど部２から流出口１ｂに向って徐々に開口面
積が拡大されているノズルをいう。第１図においては、
説明の便宜上、縮小拡大ノズルｌの流入側と流出側は、
各々密閉系である上流室３と下流室４に連結されている
。しかし、本発明における縮小拡大ノズルｌの流入側と
流出側は、両者間に差圧を生じさせて、キャリアガスと
共に微粒子を流過させることができれば、密閉系であっ
ても開放系であってもよい。

［作　用］ 例えば第１図に示されるように、上流室３内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスを供給する一方、下流室４
内を真空ポンプ５で排気すると、上流室３と下流室４間
に圧力差を生じる。従って、供給された微粒子を含むキ
ャリアガスは、上流室３から縮小拡大ノズル１を流過し
て下流室４へと流入することになる。

ところで縮小拡大ノズル１は、単に上流側と下流側の圧
力差に応じてキャリアガスと共に微粒子を噴出させるだ
けでなく、噴出される微粒子流の密度を均一化するディ
フューザー作用を成すものである。従って、この密度が
均一化された微粒子の流れによって、基体６上へ微粒子
を吹き付けるようにすれば、基体６上へ均一に微粒子を
吹き付けることができる。

また、縮小拡大ノズル１は、上流室３の圧力ＰＧと下流
室４の圧力Ｐの圧力比Ｐ／Ｐ、と、のど部２の開口面ｗ
ＩＡ”と流出口１ｂの開口面積Ａとの比Ａ／Ａ◆とを調
節することによって、キャリアガスと共に噴出する微粒
子の流れを高速化できる。そして、上流室３と下流室４
内の圧力比Ｐ／ＰＧが臨界圧力比より大きいと、縮小拡
大ノズル１の出口流速が亜音速以下の流れとなり、キャ
リアガスと共に微粒子は減速噴出される。また、上記圧
力比Ｐ／Ｐｏが臨界圧力比以下であれば、縮小拡大ノズ
ル１の出口流速は超音速流となり、キャリアガスと共に
微粒子を超音速にて噴出させることができる。

上述のような圧力比が臨界圧力比より大きな噴出におい
ては、噴出されるキャリアガスと微粒子は均一な拡散流
となり、比較的広い範囲に亘って均一に微粒子が分散し
、比較的密度の低い微粒子流とすることが可能となる。

一方、前述のような超音速の流れとしてキャリァガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると。

キャリアガスと微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ち
ながら直進し、ビーム化される。従って、このキャリア
ガスによって運ばれる微粒子の流れもビーム化され、最
小限の拡散で下流室４内の空間中を、下流室４の壁面と
の干渉のない空間的に独立状態で、かつ超高速で移送さ
れることになり、高密度の流れとなる。

ここで、微粒子流の速度をＵ、その点における音速をａ
、微粒子流の比熱比をγとし、微粒子流を圧縮性の一次
元流で断熱膨張すると仮定すれば、微粒子流の到達マツ
ハ数Ｍは、上流室の圧力Ｐ０と下流室の圧力Ｐとから次
式で定まり、特にＰ／Ｐ、が臨界圧力比以下の場合、Ｍ
は１以上となる。

尚、音速ａは局所温度をＴ、気体定数をＲとすると、次
式で求めることができる。

ａ＝ｒ〒１１「 また、流出ロ１ｂ開ロ面積Ａ及びのど部２の開口面積Ａ
・とマツハ数Ｍには次の関係がある。

従って、上流室３の圧力Ｐ。と下流室４の圧力Ｐの圧力
比Ｐ／ＰＧによって（１）式から定まるマツハ数Ｍに応
じて開口面積比Ａ／Ａ”を定めたり、Ａ／Ａ”によって
（２）式から定まるＭに応じてＰ／ＰＯを調整すること
によって、拡大縮小ノズルｌから噴出する微粒子流の流
速を調整できる。このときの微粒子流の速度Ｕは、次の
（３）式によって求めることができる。

［実施例］ 第２図は本発明を超微粒子による成膜方遣に利用した場
合の一実施例の概略図で１図中１は縮小拡大ノズル、３
は上流室、４ａは第一下流室、４ｂは第二下流室である
。

上流室３と第一下流室４ａは、一体のユニットとして構
成されており、第一下流室４ａに、やはり各々ユニット
化されたスキマー７、ゲートバルブ８及び第二下流室４
ｂが、全て共通した径のフランジ（以下「共通フランジ
」という）を介して、相互に連結分離可能に順次連結さ
れている。上流室３、第一下流室４ａ及び第二下流室４
ｂは、後述する排気系によって、上流室３から第二下流
室４ｂへと、段階的に高い真空度に保たれているもので
ある。

上流室３の一側には、共通フランジを介して気相励起装
置９が取付けられている。この気相励起装置９は、プラ
ズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例え
ば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガスと
共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズル
１へと送り出すものである。この形成された超微粒子が
、上流室３の内面に付着しないよう、付着防止処理を内
面に施しておいてもよい。また、発生した超微粒子は、
上流室３に比して第一下流室４ａが高い真空度にあるた
め、両者間の圧力差によって、キャリアガスと共に直に
縮小拡大ノズルｌ内を流過して第一下流室りへと流れる
ことになる。

気相励起装置９は、第３図（ａ）に示されるように、棒
状の第一電極９ａを管状の第二電極８ｂ内に設け、第二
電極ｓｂ内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極９ａ、　９ｂ間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置９は、第３図（ｂ）に示されるように、
第二電極ｇｂ内に設けられている第一電極９ａを多孔管
として、第一電極９ａ内を介して両電極９ａ、　９ｂ間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
（Ｃ）に示されるように、半割管状の両電極９ａ、　９
ｂを絶縁材８Ｃを介して管状に接合し、両電極９ａ、　
９ｂで形成された管内にキャリアガスと原料ガスを供給
するものとすることもできる。

縮小拡大ノズル１は、第一下流室４ａの上流室３側の側
端に、上流室３に流入口１ａを開口させ、第−下流室４
ａに流出口１ｂを開口させて、上流室３内に突出した状
態で、共通フランジを介して取付けられている。但しこ
の縮小拡大ノズル１は、第一下流室４ａ内に突出した状
態で取付けるようにしてもよい。縮小拡大ノズル１をい
ずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量
、性質等に応じて選択すればよい。

縮小拡大ノズル１としては、前述のように、流入口１ａ
から徐々に開口面積が絞られてのど部２となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口１ｂとなっているもので
あればよいが、第４図（ａ）に拡大して示しであるよう
に、流出口ｌｂ付近の内周面が、中心軸に対してほぼ平
行であることが好ましい、これは、噴出されるキャリア
ガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口ｌｂ付
近の内周面の方向によって影響を受けるので、できるだ
け平行流にさせやすくするためである。しかし、第４図
（ｂ）に示されるように、のど部２から流出口１ｂへ至
る内周面の中心軸に対する角度αを、７°以下好ましく
は５°以下とすれば、剥離現象を生じにくく、噴出する
キャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一に維持され
るので、この場合はことさら上記平行部を形成しなくと
もよい、平行部の形成を省略することにより、縮小拡大
ノズル１の作製が容易となる。また、縮小拡大ノズル１
を第４図（Ｃ）に示されるような矩形のものとすれば、
スリット状にキャリアガス及び超微粒子を噴出させるこ
とができる。

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズル１の内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズルｌの内面と流過
流体間の境界層が大きくなって。

流れが不均一になる現象をいい、噴出流が高速になるほ
ど生じやすい、前述の角度αは、この剥離現象防止のた
めに、縮小拡大ノズル１の内面仕上げ精度が劣るものほ
ど小さくすることが好ましい、縮小拡大ノズルｌの内面
は、　ＪＩＳ　Ｂ　０ＥＩＯＩに定められる、表面仕上
げ精度を表わす逆三角形マークで三つ以上、最適には四
つ以上が好ましい。特に、縮小拡大ノズルｌの拡大部に
おける剥離現象が、その後のキャリアガス及び超微粒子
の流れに大きく影響するので、上記仕上げ精度を、この
拡大部を重点にして定めることによって、縮小拡大ノズ
ルｌの作製を容易にできる。また、やはり肩離現象の発
生防止のため、のど部２は滑らかな湾曲面とし、断面積
変化率における微係数が（１）とならないようにする必
要がある。

縮小拡大ノズルｌの材質としては、例えば鉄。

ステンレススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス
等、広く用いることができる。この材質の選択は、生成
される超微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけ
るガス放出性等を考慮して行えばよい、また、縮小拡大
ノズル１の内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい
材料をメッキ又はコートすることもできる。具体例とし
ては、ポリフッ化エチレンのコート等を挙げることがで
きる。

縮小拡大ノズルｌの長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズルｌ
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に７Ｍ縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態
によって積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微
粒子を形成させることも可能である。これによる超微粒
子の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が
得やすい、また、この場合、十分な凝縮を行うために、
縮小拡大ノズル１は長い方が好ましい。一方、上記のよ
うな凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加
して速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維
持を図る上では、縮小拡大ノズルｌは短い方が好ましい
。

上流室３の圧力ＰＧと下流室４の圧力Ｐの圧力比Ｐ／Ｐ
、と、のど部２の開口面積Ａ”と流出口１ｂの開口面積
Ａとの比Ａ／Ａ’との関係を適宜に調整して、上記縮小
拡大ノズルｌ内を流過させることにより、超微粒子は、
比較的低密度の拡散流又は比較的高密度のビームとして
、第一下流室４ａから第二下流室４ｂへと流れることに
なる。

スキマー７は、第二下流室４ｂが第一下流室４ａよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室４ａ
と第二下流室４ｂとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第５図に示される
ように、各々く字形の切欠部１０，１０”を有する二枚
の調整板１１．１１’を、切欠部１０，１０’を向き合
わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなっている
。この調整板１１゜Ｉｆ’は、外部からスライドさせる
ことができ、両切架部１０，１０’の重なり具合で、流
れの通過を許容しかつ第二下流室の十分な真空度を維持
し得る開口度に調整されるものである。尚、スキマー７
の切欠部１０，１０’及び調整板１１．１１’の形状は
１図示される形状の他、半円形その他の形状でもよい。

ゲートバルブ８は、ハンドル１２を回すことによって昇
降される層状の弁体１３を有するもので、移送時には開
放されているものである。このゲートバルブ８を閉じる
ことによって、上流室３及び第一下流室４ａ内の真空度
を保ちながら第二下流室４ｂのユニット交換が行える。

また、本実施例の装置において、超微粒子は第二下流室
４ｂ内で捕集されるが、ゲートバルブ８をポールバルブ
等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい金属微
粒子であるときに、このポールバルブと共に第二下流室
４ｂのユニット交換を行うことにより、急激な酸化作用
による危険を伴うことなくユニット交換を行える利点が
ある。

第二下流室４ｂ内には、移送されて来る超微粒子を受け
て付着させ、これを成膜状態で捕集するための基体６が
位置している。この基体６は、共通フランジを介して第
二下流室４ｂに取付けられて、シリンダ１４によってス
ライドされるスライド軸１５先端の基体ホルダー１６に
取付けられている。基体６の前面にはシャッター１７が
位置していて、必要なときはいつでも流れを遮断できる
ようになっている。また、基体ホルダー１８は、超微粒
子の捕集の最適温度条件下に基体６を加熱又は冷却でる
ようになっている。

尚、上流室３及び第二下流室４ｂの上下には、図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓１８が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、上流室３、第一下流室４ａ
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓（図中の
１８と同様）が共通７ランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓１８は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。

次に、本実施例における排気系について説明する。

上流室３は、圧力調整弁１８を介してメインバルブ２０
ａに接続されている。第一下流室４ａは直接メインバル
ブ２０ａに接続されており、このメインバルブ２０ａは
真空ポンプ５ａに接続されている。第二下流室４ｂはメ
インバルブ２０ｂに接続されており、更にこのメインバ
ルブ２０ｂは真空ポンプ５ｂに接続されている。尚、　
２１ａ、　２１ｂは、各々メインバルブ２０ａ、　２０
ｂのすぐ上流側にあらびきバルブ２２ａ、　２２ｂを介
して接続されていると共に、補助バルブ２３ａ。

２３ｂを介して真空ポンプ５ａに接続された減圧ポンプ
で、上流室３、第一下流室４ａ及び第二下流室４ｂ内の
あらびきを行うものである。尚、２４ａ〜２４ｈは、各
室３　、４ａ、　４ｂ及びポンプ５ａ、　５ｂ、　２１
ａ、　２１ｂのリーク及びパージ用バルブである。

まず、あらびきバルブ２１ａ、　２１ｂと圧力調整弁１
Ｂを開いて、上流室３．第−及び第二下流室４ａ、　４
ｂ内のあらびきを減圧ポンプ２０ａ、　２０ｂで行う０
次いで、あらびきバルブ２１ａ、　２１ｂを閉じ、補助
バルブ２３ａ、　２３ｂ及びメインバルブ２０ａ、　２
０ｂを開いて、真空ポンプ５ａ、　５ｂで上流室３．第
−及び第二下流室４ａ、　４ｂ内を十分な真空度とする
。このとき、圧力調節弁１９の開度を調整することによ
って、上流室３より第一下流室４ａの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
４ａより第二下流室４ｂの真空度が高くなるよう、スキ
マー７で調整する。この調整は、メインバルブ２０ｂの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにその噴射による成膜作業中を通じて、各室３　、
４ａ、　４ｂが一定の真空度を保つよう制御する。この
制御は１手動でもよいが、各室３　、４ａ、　４ｂ内の
圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧力調整弁１
８、メインバルブ２０ａ。

２０ｂ、スキマー７等を自動的に開閉制御することによ
って行ってもよい。

上記真空度の制御は、上流室３と第一下流室４ａの真空
ポンプ５ａを各室３，４ａ毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい、しかし、本実施例のように、一台の
真空ポンプ５ａで流れ方向に排気し、上流室３と第一下
流室４ａの真空度を制御するようにすると、多少真空ポ
ンプ５ａに脈動等があっても、両者間の圧力差を一定に
保ちやすい、従って、この差圧の変動の影響を受けやす
い流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある。

真空ポンプ５ａ、　５ｂによる吸引は、特に第−及び第
二下流室４ａ、　４ｂにおいては、その上方より行うこ
とが好ましい、上方から吸引を行うことにょうて、流れ
の重力による降下をある程度抑止することができる。

本実施例に係る装置は以上のよう石ものであるが、次の
ような変更が可能である。

まず、縮小拡大ノズルｌは、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき、広い範囲に亘っ
て１＆膜を行えるようにすることもできる。特にこの傾
動やスキャンは、第４図（Ｃ）の矩形ノズルと組合わせ
ると有利である。

縮小拡大ノズル１を石英等の絶縁体で形成し、そこにマ
イクロ波を付与して、縮小拡大ノズルｌ内で活性超微粒
子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外、レーザ
ー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射することもで
きる。また、縮小拡大ノズル１を複数個設けて、一度に
複数の流れを発生させることもできる。特に、複数個の
縮小拡大ノズルｌを設ける場合、各々独立した上流室３
に接続しておくことによって、異なる微粒子の流れを同
時に走行させることができ、異なる微粒子の積層又は混
合捕集や、流れ同志を交差させることによる、異なる微
粒子同志の衝突によって、新たな微粒子を形成させるこ
とも可能となる。

基体６を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
広い範囲に亘って流れを受けられるようにすることも亡
きる。また、基体６をロール状に巻取って、これを順次
送り出しながら流れを受けるようにすることによって、
長尺の基体６に微粒子による処理を施すこともできる。

更には、ドラム状の基体６を回転させながら微粒子によ
る処理を施してもよい。

本実施例では、発生室３、第一下流室４ａ及び第二下流
室４ｂで構成されているが、第二下流室４ｂを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上流室３を加圧すれば、第一下流室４ａは開放系とす
ることができ、第一下流室４ａを減圧して上流室３を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
、上流室３を加圧し、第一下流室４ａ以下を減圧するこ
ともできる。

本実施例では、上流室３で活性な超微粒子を形成してい
るが、必ずしもこのような必要はなく、別途形成した微
粒子を上流室３ヘキヤリアガスと共に送り込むようにし
てもよい、また、縮小拡大ノズルｌを開閉する弁を設け
、上流室３側に一時微粒子を溜めながら、上記弁を断続
的に開閉して、微粒子を得ることもできる。前記縮小拡
大ノズル１ののど部２を含む下流側で行うエネルギー付
与と同期させて、上記弁を開閉すれば、排気系の負担が
大幅に低減されると共に、原料ガスの有効利用を図りつ
つパルス状の微粒子流を得ることができる。尚、同一排
気条件下とすれば、上述の断続的開閉の方が、下流側を
高真空に保持しやすい利点がある。断続的開閉の場合、
上流室３と縮小拡大ノズルｌの間に、微粒子を一時溜め
る室を設けておいてもよい。

また、縮小拡大ノズル１を複数個直列位置に配し、各々
上流側と下流側の圧力比を調整して、流れ速度の維持を
図ったり、各室を球形化して、デッドスペースの発生を
極力防止することもできる。

［発明の効果］ 本発明によれば、微粒子を、均一な分散状態で比較的低
密度の拡散流又は高密度のビームとして、密度制御をし
つつ移送できる。特に超音速のビームとして移送すれば
、空間的に独立した状態でかつ超音速で微粒子を移送す
ることができるので、密度制御が一層正確になる。従っ
て、活性微粒子を所望の密度状態で捕集位置まで確実に
移送できると共に、ビームの照射面を制御することによ
って、その吹き付は領域を正確に制御することができる
。また、ビームという集束した超高速平行流となること
や、ビーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギ
ーに変換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるこ
とを利用した新しい反応場を得ることにも大きな期待を
有するものである。更に、本発明の密度制御方法によれ
ば、上記凍結状態にできることから、流体中の分子のミ
クロな状態を規定し、一つの状態からある状態への遷移
を取り扱うことも可能である。即ち１分子の持つ各種の
エネルギー準位までも規定し、その準位に相当するエネ
ルギーを付与するという、新たな方式による気相の化学
反応が可能である。また、従来とは異なるエネルギー授
受の場が提供されることにより、水素結合やファンデア
ワールス結合等の比較的弱い分子間で形成される分子間
化合物を容易に生み出すこともできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基本原理の説明図、第２図は本発明を
超微粒子による成膜方法に利用した場合の一実施例を示
す概略図、第３図（ａ）〜（Ｃ）は各々気相励起装置の
例を示す図、第４図（ａ）〜（Ｃ）は各々縮小拡大ノズ
ルの形状例を示す図、第５図はスキマーの説明図である
。 １：縮小拡大ノズル、１ａ：流入口、 １ｂ二流出口、２：のど部、３：上流室、４：下流室、
４ａ：第一下流室、 ４ｂ＝第二下流室、５　、５ａ、　５ｂ：真空ポンプ、
６：基体、７：スキマー、８：ゲートバルブ、９：気相
励起装置、８ａ：第一電極、 ９ｂ：第二電極、１０．１０’　：切欠部、１１、１１
′：調整板、１２：ハンドル、１３：弁体。 １４ニジリンダ、１５ニスライド軸、 １６：基体ホルダー、１７：シャッター。 １日ニガラス窓、１９：圧力調整弁。 ２０ａ、　２０ｂ：　）インバルブ、 ２１ａ、　２１ｂ：減圧ポンプ、 ２２ａ、　２２ｂ：あらびきバルブ、 ２３ａ、　２３ｂ：補助バルブ、 ２４ａ〜２４ｈ：リーク及びパージ用バルブ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）流路に縮小拡大ノズルを設けて微粒子を流過させる
   ことを特徴とする微粒子流の密度制御方法。