JPS61223307A - 微粒子流の流れ制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、微粒子の移送手段や吹き付は手段等として利
用される微粒子流の流れ制御装置に関するもので、例え
ば、微粒子による、成膜加工、複合素材の形成、ドープ
加工、または微粒子の新たな形成場等への応用が期待さ
れるものである。

本明細書において、微粒子とは、原子、分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう。ここで超微粒子とは１例えば、
気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した、コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる、
超微細な（一般には０．５　ＪＬｍ以下）粒子をいう。

一般微粒子とは、ｊａ械的粉砕や析出沈殿処理等の一般
的手法によって得られる微細粒子をいう。また、ビーム
とは、流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のことをいい
、その断面形状は問わないものである。

［従来の技術］ 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。

従来、Ｌ記微粒子の移送に伴う微粒子の流れ制御は、上
流側と下流側の差圧によって、キャリアガスと共に流れ
る微粒子の全流路を、管材又は筺体で区画することによ
って行われているに過ぎない。従って、微粒子の流れは
、その強弱はあるものの必然的に、微粒子の波路を区画
する管材又は筐体内全体に分散した状態で生ずることに
なる。

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルの前後に差圧を付けて、ノズルを介してキャリアガ
スと共に微粒子を噴出させることが行われている。この
微粒子の吹き付けに用いられているノズルは、単なる平
行管又は先細ノズルで、確かに噴出直後の微粒子の噴流
断面はノズル端目面の面積に応じて絞られる。しかし、
噴流はノズルの出口面で拡散されるので、単に一時的に
流路を絞っただけのものに過ぎず、また噴流の速度が音
速を越えることはない。

更に説明すれば、従来の微粒子の流れ制御は、微粒子を
移送するに足るキャリアガスの流れを得るべく、上流側
と下流側の差圧を制御することによって行われているも
のである。

・　　　　　［発明が解決しようとする問題点１しかし
ながら、上流側と下流側の差圧という観点から微粒子の
流れ制御を行う場合、必ずしも差圧の大小によって微粒
子の流れ状態が規則的に変化するものではないので、一
定の流れ状態を得に□くい問題がある。

［問題点を解決するための手段］ 上記問題点を解決するために講じられた手段、を、本発
明の基本原理の説明図である第１図で説明すると、流路
にノズルｌが設けられ、かつ該ノズル１の上流側と下流
側の圧力比が制御される微粒子流の流れ制御装置で、微
粒子の流れを容易に均一化できかつビーム化できるよう
にしたことによって上記問題点を解決したものである。

第１図においては、説明の便宜−Ｆ、ノズル１の流入側
と流出側は、各々密閉系である上流室３と下流室４に連
結されている。しかし、本発明におけるノズルｌの流入
側と流出側は１両者間に差圧を生じさせて、キャリアガ
スと共に微粒子を流過させることができれば、密閉系で
あっても開放系であってもよい。

［作　用］ 例えば第１図に示されるように、上流室３内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスを供給する一方、下流室４
内を真空ポンプ５で排気すると、上流室３と下流室４間
に圧力差を生じる。従って、供給された微粒子を含むキ
ャリアガスは、上流室３からノズル１を流過して下流室
４へ゛ど流入することになる。このとき、上流室３内と
下流室４内の圧力比が一定であれば両者の差圧の大小に
拘らず一定速度で噴出させることができ、特に臨界圧力
比以上であれば、キャリアガスと微粒子を音速以上で噴
出させることができる。従って、常にこのような運動エ
ネルギーを持って微粒子が噴出されることを利用して、
容易に一定の流れ状態を得ることができる。

例えば、ノズルｌを第１図（ｂ）に示されるような縮小
拡大ノズル１′とすることが挙げられる。

ここで縮小拡大ノズル１′とは、流入口１ａから徐々に
開口面積が絞られてのど部２となり、こののど部２から
流出口１ｂに向って徐々に開口面積が拡大されているノ
ズルをいう。この縮小拡大ノズル１′は、上流室３と下
流室４内の圧力比に基づいて、のど部２の開口面積ａと
流出口１ｂの開口面積Ａとの比Ａ／ａとを調節すること
によって、キャリアガスと共に噴出する微粒子の流れを
高速化できる。そして、上流室３と下流室４内の圧力比
が臨界圧力比未満であれば、縮小拡大ノズル１′の出口
流速が亜音速以下の流れとなり、キャリアガスと共に微
粒子は減速噴出される。また、上記圧力比が臨界圧力比
以上であれば、縮小拡大ノズル１′の出口流速は超音速
流となり、キャリアガスと共に微粒子を超高速にて噴出
させることができる。

上述のような圧力比が臨界圧力比未満の噴出においては
、噴出されるキャリアガスと微粒子は均一な拡散流とな
り、比較的広い範囲に亘って一度に均一に微粒子を吹き
付けることが可能となる。

一方、前述のような超高速の流れとしてキャリアガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると、キャリアガスと
微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ちながら直進し、
ビーム化される。従って、このキャリアガスによって運
ばれる微粒子の流れもビーム化され、最小限の拡散で下
流室４内の空間中を、下流室４の壁面との干渉のない空
間的に独立状態で、かつ超高速で移送されることになる
。

このようなことから、例えば上流室３内で活性を有する
微粒子を形成して、これを直に縮小拡大ノズル１′でビ
ーム化移送したり、縮小拡大ノズル１′内又は縮小拡大
ノズル１′の直後で活性を有する微粒子を形成して、こ
れをそのままビーム化移送すれば、超音速による、しか
も空間的に独立状態にあるビームとして移送することが
でき、例えば下流室４内に設けた基体６上に付着捕集す
ることができる。従って、良好な活性状態のまま微粒子
を捕集することが可能となる。また、噴流断面が流れ方
向にほぼ一定のビームとして微粒子が基板６」二に吹き
付けられるので、この吹き付は領域を容易に制御できる
ものである。

［実施例］ 第２図は本発明を超微粒子による成膜装置に利用した場
合の一実施例の概略図で、図中１′は縮小拡大ノズル、
３は上流室、４ａは第一下流室、４ｂは第二下流室であ
る。

」二流室３と第一下流室４ａは、一体のユニットとして
構成されており、第一下流室４ａに、やはり各々ユニッ
ト化されたスキマー７、ゲートバルブ８及び第二下流室
４ｂが、全て共通した径のフランジ（以下「共通フラン
ジ」という）を介して、相互に連結分離可能に順次連結
されている。上流室３、第一下流室４ａ及び第二下流室
４ｂは、後述する排気系によって、」二流室３から第二
下流室４ｂへと、段階的に高い真空度に保たれているも
のである。

」−流室３の一側には、共通フランジを介して気相励起
装置９が取付けられている。この気相励起装置９は、プ
ラズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例
えば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガス
と共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズ
ル１′へと送り出すものである。この形成された超微粒
子が、上流室３の内面に付着しないよう、付着防１１―
処理を内面に施しておいてもよい。また、発生した超微
粒子は、上流室３に比して第一下流室４ａが高い真空度
にあるため、キャリアガスと共に直に縮小拡大ノズル１
′内を流過して第一下流室４ａと流れることになる。

気相励起装置９は、第３図（ａ）に示されるように、棒
状の第一電極９ａを管状の第二電極８ｂ内に設け、第二
電極８ｂ内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極ｆ３ａ、　ａｂ間で放電させるものとなっている。ま
た、気相励起装置９は、第３図（ｂ）に示されるように
、第二電極８ｂ内に設けられている第一電極８ａを多孔
管として、第一電極８ａ内を介して両電極８ａ、　１３
ｂ間にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり
、同（Ｃ）に示されるように、半割管状の両電極９ａ、
　９ｂを絶縁材９ｃを介して管状に接合し、両電極９ａ
、　９ｂで形成された管内にキャリアガスと原料ガスを
供給するものとすることもできる。

縮小拡大ノズル１′は、第一下流室４ａの上流室３側の
側端に、上流室３に流入口１ａを開口させ、第一下流室
４ａに流出口１ｂを開口させて、上流室３内に突出した
状態で、共通フランジを介して取付けられている。但し
この縮小拡大ノズル１′は、第一下流室４ａ内に突出し
た状態で取付けるようにしてもよい。縮小拡大ノズル１
′をいずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大き
さ、儀、性質等に応じて選択すればよい。

縮小拡大ノズル１′としては、前述のように、流入口Ｉ
ＩＩＩから徐々に開口面積が絞られてのど部２となり、
再び徐々に開口面積が拡大して流出口１ｂとなっている
ものであればよいが、第４図（ａ）に拡大して示しであ
るように、流出口ｌｂ付近の内周面が、中心軸に対して
ほぼ平行であることが好ましい。これは、噴出されるキ
ャリアガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口
Ｉｂ刊近の内周面の方向によって影響を受けるので、で
きるだけ平行流にさせやすくするためである。しかし、
第４図（ｂ）に示されるように、のど部２から流出口１
ｂへ至る内周面の中心軸に対する角度αを、７°以下好
ましくは５°以下とすれば、剥離現象を生じにくく、噴
出するキャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一に維
持されるので、この場合はことさら上記平行部を形成し
なくともよい。平行部の形成を省略することにより、縮
小拡大ノズル１′の作製が容易となる。また、縮小拡大
ノズル１′を第４図（Ｃ）に示されるような矩形のもの
とすれば、スリット状にキャリアガス及び超微粒子を噴
出させることができる。

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズル１′の内面に
突起物等があった場合に、縮小拡大ノズル１′の内面と
流過流体間の境界層が大きくなって、流れが不均一にな
る現象をいい、噴出流が高速になるほど生じやすい。前
述の角度αは、この剥離現象防止のために、縮小拡大ノ
ズル１′の内面仕上げ精度が劣るものほど小さくするこ
とが好ましい、縮小拡大ノズル１′の内面は、・　　　
　ＪＩＳ　Ｂ　ＯｓＯ４に定められる、表面仕上げ精度
を表わす逆三角形マークで三つ以上、最適には四つ以上
が好ましい。特に、縮小拡大ノズル１′の拡大部におけ
る剥離現象が、その後のキャリアガス及び超微粒子の流
れに大きく影響するので１．上記仕上げ精度を、この拡
大部を重点にして定めることによって、縮小拡大ノズル
１′の作製を容易にできる。また、やはり剥離現象の発
生防止のため、のど部２は滑らかな湾曲面とし、断面積
変化率における微係数が■とならないようにする必要が
ある。

縮小拡大ノズル１′の材質としては、例えば鉄、ステン
レススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、ポリ塩
化ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン等の合成樹脂、セラミック材料１五英、ガラス等、広
く用いることができる。この材質の選択は、生成される
超微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけるガス
放出性等を考慮して行えばよい。また、縮小拡大ノズル
１′の内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい材料
をメッキ又はコートすることもできる。具体例としては
、ポリフッ化エチレンのコート等を挙げることができる
。

縮小拡大ノズル１′の長さは、装置の大きさ等によって
任意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズル
１′を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、
保・有する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される
。そして、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギー
は著しく小さくなって過冷却状態となる。従って、キャ
リアガス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却
状態によって積極的にこれらを凝縮させ、これによって
超微粒子を形成させることも可能である。

これによる超微粒子の形成は、均質核形成であるので、
均質な超微粒子が得やす！／）。また、この場合、十分
な凝縮を行うために、縮小拡大ノズル１′は長い方力５
好ましい、一方、上記のような凝縮を生ずると、これに
よって熱エネルギーが増加して速度エネルギーは低下す
る。従って、高速噴出の維持を図る上では、縮小拡大ノ
ズル１′は短い方が好ましい。

上流室３と下流室４内の、圧力比に基づき、のど部２の
開口面積ａと流出口１ｂの開口面積との比Ａ／ａとの関
係を適宜に！ｌ整して、上記縮小拡大ノズル１′内を流
過させることにより、超微粒子を含むキャリアガスはビ
ーム化され、第一下流室４ａから第二下流室４ｂへと超
音速で流れることになる。

スキマー７は、第二下流室４ｂが第一下流室４ａよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室４ａ
と第二下流室４ｂとの間の開口面積゛を調整できるよう
にするためのものである。具体的には、第５図に示され
るように、各々〈字形の切欠。

部１０．１０’を有する二枚の調整板１１．１１’を、
切欠部ｔｏ、　ｔｏ’を向き合わせてすれ違いスライド
可能に設けたものとなっている。この調整板ｌｌ。

１１’は、外□部からスライドさせることができ、−両
切央部１０．１０’の重なり具合で、ビームの通過を許
容しかつ第二下流室の十分な真空度を維持し得る開口度
に調整されるものである。尚、スキマー７の切欠部１０
．１０’及び調整板１１．１１’の形状は、図示される
形状の他、半円形その他の形状でもよい。　　　　　　
□・ ・　ゲートバルブ８は、ハンドル１２を回すことによっ
て昇降される堰状の弁体１３を有するもので、ビーム走
行時には開放されているものである。このゲートバルブ
８を閉じることによって、上流室３及び第一下流室４ａ
内の真空度を保ちながら第二下流室４ｂのユニット交換
が行える。また、本実施例の装置において、超微粒子は
第二下流室４ｂ内で捕集されるが、ゲートバルブ８をポ
ールバルブ等としておけば、特に超微粒子が酸化されや
すい金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に
第二下流室４ｂのユニット交換を行うことにより、急激
な酸化作用による危険を伴うことなくユニット交換を行
える利点がある。

第二下流室４ｂ内には、ビームとして移送されて来る超
微粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集するた
めの基体６が位置している。この基体６は、共通フラン
ジを介して第二下流室４ｂに取付けられて、シリンダ１
４によってスライドされるスライド軸１５先端の基体ホ
ルダー１６に取付けられている。基体６の前面にはシャ
ッター１７が位置していて、必要なときはいつでもビー
ムを遮断できるようになっている。また、基体ホルダー
ＩＢは、超微粒子の捕集の最適温度条件下に基体６を加
熱又は冷却でるようになっている。

尚、上流室３及び第二下流室４ｂの上下には、図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓１８が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、上流室３、第一下流室４ａ
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓（図中の
１８と同様）が共通フランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓１８は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。

次に、本実施例における排気系について説明する。

上流室３は、圧力調整弁１９を介してメインバルブ２Ｑ
ａに接続されている。第一下流室４ａは直接メインバル
ブ２０ａに接続されており、このメインバルブ２０ａは
真空ポンプ５ａに接続されている。第二〒流室４ｂはメ
インバルブ２０ｂに接続されており、更にこのメインバ
ルブ２０ｂは真空ポンプ５ｂに接続されている。尚、２
１ａ、　２１ｂは、各々メインバルブ２０ａ、　２０ｂ
のすぐ上流側にあらびきバルブ２２ａ、　２２ｂを介し
て接続されていると共に、補助バルブ２３ａ。

２３ｂを介して真空ポンプ５ａに接続された減圧ポンプ
で、上流室３、第一下流室４ａ及び第二下流室４ｂ内の
あらびきを行うものである。尚、、２４ａ〜２４ｈは、
各室３　、４ａ、　４ｂ及びポンプ５ａ、　５ｂ、　２
１ａ、２１ｂのリーク及びパージ用バルブである。

まず、あらびきバルブ２１ａ、　２１ｂと圧力調整弁１
８を開いて、上流室３．第−及び第二下流室４ａ、　４
ｂ内のあらびきを減圧ポンプ２０ａ、　２０ｂで行う。

次いで、あらびきバルブ２１ａ、　２１ｂを閉じ、補助
バルブ２３ａ、　２３ｂ及びメインバルブ２Ｑａ、　２
０ｂを開いて、真空ポンプ５ａ、　５ｂで上流室３、第
−及び第二下流室４ａ、　４ｂ内を十分な真空度とする
。このとき、圧力調節弁１８の開度を調整することによ
って、上流室３より第一下流室４ａの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
４ａより第二下流室４ｂの真空度が高くなるよう、スキ
マー７で調整する。この調整は、メインバルブ２０ｂの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにそのビーム化噴射によるＪ＆膜作業中を通じて、
各室３　、４ａ、　４ｂが一定の真空度を保つよう制御
する。この制御は、手動でもよいが、各室３　、４ａ、
　４ｂ内の圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧
力調整弁１８、メインバルブ２０ａ、　２０ｂ、スキマ
ー７等を自動的に開閉制御することによって行ってもよ
い。

上記真空度の制御は、上流室３と第一下流室４ａの真空
ポンプ５ａを各室３，４ａ毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい。しかし、本実施例のように、一台の
真空ポンプ５ａでビームの流れ方向に排気し、上流室３
と第一下流室れの真空度濠制御するようにすると、多少
真空ポンプ５ａに脈動等があっても、両者間の圧力比を
一定に保ちやすい。従って、この圧力比の変動の影響を
受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある。

真空ポンプ５ａ、　５ｂによる吸引は、特に第−及び第
二下流室４ａ、　４ｂにおいては、その上方より行うこ
とが好ましい、上方から吸引を行うことによって、ビー
ムの重力による降下をある程度抑止することができる。

本実施例に係る装置は以上のようなものであるが、次の
ような変更が可能である。

まず、縮小拡大ノズル１′は、上下左右への傾動や一定
間隔でのスキャン可能とすることもでき、広い範囲に亘
って成膜を行えるようにすることもできる。特にこの傾
動やスキャンは、第４図（Ｃ）の矩形ノズルと組合わせ
ると有利である。

縮小拡大ノズル１′を石英等の絶縁体で形成し、そこに
マイクロ波を付与して、縮小拡大ノズル１′内で活性超
微粒子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外、レ
ーザー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射すること
もできる。また、縮小拡大ノズル１′を複数個設けて、
一度に複数のビームを発生させることもできる。特に、
複数個の縮小拡大ノズル１′を設ける場合、各々独立し
た上流室３に接続しておくことによって、異なる微粒子
のビームを同時に走行させることができ、異なる微粒子
の積層又は混合捕集や、ビーム同志を交差させることに
よる、異なる微粒子同志の衝突によって、新たな微粒子
を形成させることも可能となる。

基体６を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
広い範囲に亘ってビームを受けられるようにすることも
できる。また、基体６をロール状に巻取って、これを順
次送り出しながらビームを受けるようにすることによっ
て、長尺の基体６に微粒子による処理を施すこともでき
る。更には、ドラム状の基体６を回転させながら微粒子
による処理を施してもよい。

本実施例では、発生室３．第一下流室４ａ及び第二下流
室４ｂで構成されているが、第二下流室４ｂを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上流室３を加圧すれば、第一下流室４ａは開放系とす
ることができ、第一下流室４ａを減圧して上流室３を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
上流室３を加圧し、第一下流室４ａ以下を減圧すること
もできる。

本実施例では、上流室３で活性な超微粒子を形成してい
るが、必ずしもこのような必要はなく、別途形成した微
粒子を上流室３ヘキヤリアガスと共に送り込むようにし
てもよい。また、縮小拡大ノズル１′を開閉する弁を設
置け、上流室３９１に一時微粒子を溜めながら、上記弁
を断続的に開閉して、微粒子を得ることもできる。前記
縮小拡大ノズル１′ののど部２を含、む下流側で行うエ
ネルギー付与と同期させて、上記弁を開閉するば、排気
系の負担が大幅に低減されると共に、ｌＸ料ガスの有効
利用を図りつつパルス状の微粒子流を得ることができる
。尚、同一排気条件下とすれば、上述の断続的開閉の方
が、下流側を高真空に保持しやすい利点がある。この場
合、上流室３と縮小拡大ノズル１′の間に、微粒子を一
時溜める室を設けておいてもよい、　　　・ また、縮小拡大ノズル１′を複数個直列位置に配し、各
々上流側と下流側の圧力比重調整して。

ビーム速度の維持を図ったり、各室を球形化して、デッ
ドスペースの発生を極力防止することもできる。　　　
　　、　　　・、　　　　・［発明の効果］ 猿１ 本発明・によれば、微粒子を均一な分散状態の超音速の
ビームとして移送することができるので、空間的に独立
した状態でかつ超高速で微粒子を移送するととができる
。従って、活性微粒子をそめままの状態で捕集位置まで
確実に移送できると共に□、ビームの照射面を制御する
ことによって、その吹き付け”領域を正確に制御するこ
とができ葛。

また、ビームという集束した超高速平行流となるごとや
１ビーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギー
に変換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるので
、これらを利用した新しい反応場゛を得ることにも大き
な期待を有するものであ葛。更に、本発明の流れ制御装
置によればご上記凍結状態になることから、流体中の分
子のミグＵ、な状態′を：規定し、一つの状態からある
状態への遷移を取り扱うことも可能である。即ち、分子
の□持つ各種のエネルギー準゛位までも規定し、その準
位に相当するエネルギー・を付与するという、新たな方
式による気相の化学反応が可能である。また、従来とは
異なるエネルギー授受の場が提供されることにより、水
素結合やファンデアワールス結合等の比較的弱い分子間
で形成される分子間化合物を容易に生み出すこともでき
る。

【図面の簡単な説明】 第１図（ａ）、　（ｂ）は本発明の基本原理の説明図、
第２図は本発明を超微粒子による成膜装置に利用した場
合の一実施例を示す概略図、第３図（ａ）〜（ｃ）は各
々気相励起装置の例を示す図、第４図（ａ）〜（Ｃ）は
各々縮小拡大ノズルの形状例を示す図、第５図はスキマ
ーの説明図である。 １：ノズル、１′：縮小拡大ノズル、 ｌａ：流入口、１ｂ＝流出口、２：のど部、３：上流室
、４：下流室、４ａ：第一下流室、４ｂ：第二下流室、
５　、５ａ、　５ｂ：真空ポンプ、６：基体、７：スキ
マー、８：ゲートバルブ、９：気相励起装置、８ａ＝第
一電極、 ８ｂ：第二電極、１０．１０′：切欠部、１１、１１′
：調整板、１２：ハンドル、１３：弁体、１４ニジリン
ダ、１５ニスライド軸、 １６：基体ホル多゛−１１７：シヤツター、１８ニガラ
ス窓、１８：圧力調整弁、 ２０ａ、　２０ｂ：メインバルブ、 ２１ａ、　２１ｂ：減圧ポンプ、 ２２ａ、　２２ｂ：あらびきバルブ、 ２３ａ、　２３ｂ：補助バルブ、 ２４ａ〜２４ｈ：リーク及びパージ用バルブ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）流路にノズルが設けられ、かつ該ノズルの上流側と
   下流側の圧力比が制御されることを特徴とする微粒子流
   の流れ制御装置。