JPS61219027A - 液晶配向膜の形成方法 - Google Patents
液晶配向膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS61219027A JPS61219027A JP5948485A JP5948485A JPS61219027A JP S61219027 A JPS61219027 A JP S61219027A JP 5948485 A JP5948485 A JP 5948485A JP 5948485 A JP5948485 A JP 5948485A JP S61219027 A JPS61219027 A JP S61219027A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyamic acid
- film
- liquid crystal
- polyimide
- glow discharge
- Prior art date
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- Granted
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は液晶表示素子の電極基板上に積層さｎる液晶配
向膜の形成方法に関する。
向膜の形成方法に関する。
（従来の技術）
従来、この種液晶配向膜の形成方法として、例えばポリ
イミド被膜の表面をラビング処理する方法が知らｎてい
るが、ラビング処理時に該ポリイミド被膜が剥ｎたり、
また該ポリイミド被膜の表面やこｎｔ−擦する布にダス
ト等が付着している場合には該表面に傷が付いたりし、
更にまた大面積のポリイミド被膜を一様にラビング処理
することが困難であるために大面積の液晶配向膜を形成
できないという不都合を有する。
イミド被膜の表面をラビング処理する方法が知らｎてい
るが、ラビング処理時に該ポリイミド被膜が剥ｎたり、
また該ポリイミド被膜の表面やこｎｔ−擦する布にダス
ト等が付着している場合には該表面に傷が付いたりし、
更にまた大面積のポリイミド被膜を一様にラビング処理
することが困難であるために大面積の液晶配向膜を形成
できないという不都合を有する。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は前記従来の不都合を解消し、ポリイミド被膜を
電極基板から剥離させたり被膜表面に傷を付けたりする
ことなく均一に配向処理が施さｎた大面積の液晶配向膜
を簡単に形成することができる液晶配向膜の形成方法を
提供することをその目的とする。
電極基板から剥離させたり被膜表面に傷を付けたりする
ことなく均一に配向処理が施さｎた大面積の液晶配向膜
を簡単に形成することができる液晶配向膜の形成方法を
提供することをその目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は前記の目的を達成すべく、ポリアミック酸の被
膜表面をグロー放電中に晒し、その該ポリアミック酸を
ポリイミドに重合することから成る。
膜表面をグロー放電中に晒し、その該ポリアミック酸を
ポリイミドに重合することから成る。
ポリアミック酸の被膜表面をグロー放電中に晒すことに
よってその後ポリイミドに重合さｎた液晶配向膜が液晶
配向性を示すこととなる理 由については、グロ
ー放電中で生成したイオンや、電子等が電場によって該
ポリアミック酸の被膜表面に水平に近い角度で入射し、
これによリラビング処理と同じ効果が生じ、その状態で
ポリイミドに重合さｎるためであると考えらｎる。従っ
てグロー放電処理されるポリアミック酸の被膜はその表
面を電界方向に対して略水平か或いは４５度位までの角
度に保持するのが好ましい。
よってその後ポリイミドに重合さｎた液晶配向膜が液晶
配向性を示すこととなる理 由については、グロ
ー放電中で生成したイオンや、電子等が電場によって該
ポリアミック酸の被膜表面に水平に近い角度で入射し、
これによリラビング処理と同じ効果が生じ、その状態で
ポリイミドに重合さｎるためであると考えらｎる。従っ
てグロー放電処理されるポリアミック酸の被膜はその表
面を電界方向に対して略水平か或いは４５度位までの角
度に保持するのが好ましい。
また、該ポリアミック酸の被膜表面はグロー放電の特に
陽極柱領域で処理するのが好ましい。
陽極柱領域で処理するのが好ましい。
（実施例）
以下、添付図面に従って本発明の実施例に付き説明する
。
。
図面は本発明方法を実施するための装置の一例を示すも
ので、１は処理室を示し、該処理室１は外部の真空ポン
プその他の真空排気系２に接続さｎて内部の真空度を調
節自在としであると共に該処理室１に連通されるガス導
入管３かラアルゴン、窒素、酸素、水素、ヘリウム、空
気等の所望のガスを導入できるようにしである。
ので、１は処理室を示し、該処理室１は外部の真空ポン
プその他の真空排気系２に接続さｎて内部の真空度を調
節自在としであると共に該処理室１に連通されるガス導
入管３かラアルゴン、窒素、酸素、水素、ヘリウム、空
気等の所望のガスを導入できるようにしである。
また該処理室１内にはグロー放電用の電極４．４が平行
に対向配置されていると共に、これら電極４．４間には
、電極側表面にポリアミック酸の被膜５を積層さｎた電
極基板６′１に支持するための支持部材７が設けらｎて
いる。尚、図中８は電極４．４の電源１．９はガス導入
管３の流量調整弁を示す。
に対向配置されていると共に、これら電極４．４間には
、電極側表面にポリアミック酸の被膜５を積層さｎた電
極基板６′１に支持するための支持部材７が設けらｎて
いる。尚、図中８は電極４．４の電源１．９はガス導入
管３の流量調整弁を示す。
ここで、当該装置による液晶配向膜の製造の一例を示す
。
。
まず、刷毛塗り法、浸種法、スピンコード法、スプレー
法、或いはポリイミドの原料モノマーを真空中で蒸着さ
せる真空蒸着法等によって電極側表面にポリイミドの前
駆体であるポリアミック酸の被膜５１！−積層されたた
て、よこ３０Ｃ？ＩＩ×３０＝ｍの電極基板６會そのポ
リアミック酸の被膜５表面が電極４．４間に略水平に、
即ち電界方向に対して略水平になるように支持部材７で
支持する。
法、或いはポリイミドの原料モノマーを真空中で蒸着さ
せる真空蒸着法等によって電極側表面にポリイミドの前
駆体であるポリアミック酸の被膜５１！−積層されたた
て、よこ３０Ｃ？ＩＩ×３０＝ｍの電極基板６會そのポ
リアミック酸の被膜５表面が電極４．４間に略水平に、
即ち電界方向に対して略水平になるように支持部材７で
支持する。
環基１内がαＯＩ Ｔｏｒｒとなるようにガス導入Ｑ／
１５ｔ−介してアルゴンガスを導入する。
１５ｔ−介してアルゴンガスを導入する。
尚、アルゴンガスの前記ガス圧はグロー放電の陽光柱の
領域が前記電極基板６の支持されている部分に生じるよ
うに調節さｎている。
領域が前記電極基板６の支持されている部分に生じるよ
うに調節さｎている。
その後、電極４．４に一２ＫＶの直流電圧を印加してグ
ロー放電を発生させ、ポリアミック酸の被膜５表面をそ
の陽光柱領域に３分間晒す。
ロー放電を発生させ、ポリアミック酸の被膜５表面をそ
の陽光柱領域に３分間晒す。
最後に電極基板６ｔ−処理室１から取り出して図示しな
い加熱室に収容し、該基板上に積層さｎたポリアミック
酸を２００〜４００°Ｃに加熱してポリイミドに重合す
る。
い加熱室に収容し、該基板上に積層さｎたポリアミック
酸を２００〜４００°Ｃに加熱してポリイミドに重合す
る。
かくして、剥離や傷の全くない非常に均一な大面積の液
晶配向膜が得らｎた。
晶配向膜が得らｎた。
グロー放電の使用ガスとしてアルゴンに代えて窒素、酸
素、水素、ヘリウム、空気等を用いても前記実施例と同
様に優ｎた液晶配向膜が得られた。
素、水素、ヘリウム、空気等を用いても前記実施例と同
様に優ｎた液晶配向膜が得られた。
また、グロー放電のダーク部以外の領域であｎば陽光柱
領域に限らず液晶配向膜を形成できた。
領域に限らず液晶配向膜を形成できた。
（発明の効果）
このように本発明によるときはポリアミック酸の被膜表
面をグロー放電中に晒し、その後詰ポリアミック酸をポ
リイミドに重合するようにしたので電極基板からの剥離
がなく、また被膜表面に傷のない極めて均一なしかも大
面積の液晶配向１１Ｉを簡単に形成することができる効
果を有する。
面をグロー放電中に晒し、その後詰ポリアミック酸をポ
リイミドに重合するようにしたので電極基板からの剥離
がなく、また被膜表面に傷のない極めて均一なしかも大
面積の液晶配向１１Ｉを簡単に形成することができる効
果を有する。
図面は本発明液晶配向膜の形成方法を実施するための装
置の一例の一部を截除した正面図である。 １・・・処理室 ２・・・真空排気系５・・・
ガス導入管 ４．４・・・電極５・・・ポリアミック
酸の被膜 特許出願人 日本真空技術株式会社 代 理 人 北 村 欣 −。 外２名 ″
置の一例の一部を截除した正面図である。 １・・・処理室 ２・・・真空排気系５・・・
ガス導入管 ４．４・・・電極５・・・ポリアミック
酸の被膜 特許出願人 日本真空技術株式会社 代 理 人 北 村 欣 −。 外２名 ″
Claims (1)
- ポリアミツク酸の被膜表面をグロー放電中に晒し、その
後該ポリアミツク酸をポリイミドに重合することから成
る液晶配向膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5948485A JPS61219027A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 液晶配向膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5948485A JPS61219027A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 液晶配向膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61219027A true JPS61219027A (ja) | 1986-09-29 |
| JPH0521213B2 JPH0521213B2 (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=13114622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5948485A Granted JPS61219027A (ja) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | 液晶配向膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61219027A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059486A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 手書文字認識方式 |
-
1985
- 1985-03-26 JP JP5948485A patent/JPS61219027A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6059486A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 手書文字認識方式 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0521213B2 (ja) | 1993-03-23 |
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