JPS61215227A - 単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPS61215227A JPS61215227A JP5759285A JP5759285A JPS61215227A JP S61215227 A JPS61215227 A JP S61215227A JP 5759285 A JP5759285 A JP 5759285A JP 5759285 A JP5759285 A JP 5759285A JP S61215227 A JPS61215227 A JP S61215227A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass layer
- porous glass
- core
- flame
- optical fiber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/22—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with deuterium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/30—For glass precursor of non-standard type, e.g. solid SiH3F
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は単一モード光ファイバ母材の製造方法に関する
。
。
1従来の技術」
通信、非通信の分野において各種の光ファイバが用いら
れているが、広帯域、低損失を満足させる単一モート(
Sに型)光ファイバについては、一般通信、海底用など
に大きく貢献できるとして注目されている。
れているが、広帯域、低損失を満足させる単一モート(
Sに型)光ファイバについては、一般通信、海底用など
に大きく貢献できるとして注目されている。
一般的な単一モード光ファイバは、そのコアが
□S + 02−G e02(Δ’0.3%)からなり
、そのクラッドがS io 2からなるが、レイリー散
乱係数を小さくし、より低損失のSN型光ファイバを得
るためには、コアへのGe添加量を少なくするのがよく
、こうした観点からコアをSiO2とし、クラッドをS
iO2−Fとする9M型光ファイバがすでに提案されて
いる。
□S + 02−G e02(Δ’0.3%)からなり
、そのクラッドがS io 2からなるが、レイリー散
乱係数を小さくし、より低損失のSN型光ファイバを得
るためには、コアへのGe添加量を少なくするのがよく
、こうした観点からコアをSiO2とし、クラッドをS
iO2−Fとする9M型光ファイバがすでに提案されて
いる。
一方、上記SN型光ファイバの母材をVAD法により作
製する技術に関して、昭和58年度電子通信学会光拳電
波部門全国大会の文献には、コア用多孔質ガラス層を密
度2.0〜2.2g/am″程度と固く形成し、その外
周に密度0.3g/cm″のクラッド用多孔質ガラス層
を形成した後1、これら多孔質ガラス層からなる多孔質
母材の透明ガラス化時にクラッド用多孔質ガラス層への
フッ素ドープを行なうことが開示されている。
製する技術に関して、昭和58年度電子通信学会光拳電
波部門全国大会の文献には、コア用多孔質ガラス層を密
度2.0〜2.2g/am″程度と固く形成し、その外
周に密度0.3g/cm″のクラッド用多孔質ガラス層
を形成した後1、これら多孔質ガラス層からなる多孔質
母材の透明ガラス化時にクラッド用多孔質ガラス層への
フッ素ドープを行なうことが開示されている。
この方法によるとき、コア用多孔質ガラス層の密度が大
きく、該多孔質ガラス層にフッ素が浸透しないため、完
全なSl型分布を呈するSN型光ファイバ用の光フアイ
バ母材が得られる。
きく、該多孔質ガラス層にフッ素が浸透しないため、完
全なSl型分布を呈するSN型光ファイバ用の光フアイ
バ母材が得られる。
「発明が解決しようとする問題点j
しかし上述した母材作製手段の場合、コア用多孔質ガラ
ス層の密度が大きいことによる弊害も生じる。
ス層の密度が大きいことによる弊害も生じる。
すなわち、コア用多孔質ガラス層の密度が大きいため、
脱水処理に際して該多孔質ガラス層から0H基を除去す
るのが困難となり、波長1.3 p、 ta、1.55
JLmでのロスを十分に下げることができなくなる。
脱水処理に際して該多孔質ガラス層から0H基を除去す
るのが困難となり、波長1.3 p、 ta、1.55
JLmでのロスを十分に下げることができなくなる。
本発明は上記の問題点に鑑み、5I02コアおよび5i
O7−FクラッドをもつSN型光ファイバの母材を作製
するとき、波長1.3gm 、 1.551L鵬等のロ
スを極小とすることのできる単一モード光ファイバ母材
の製造方法を提供しようとするものである。
O7−FクラッドをもつSN型光ファイバの母材を作製
するとき、波長1.3gm 、 1.551L鵬等のロ
スを極小とすることのできる単一モード光ファイバ母材
の製造方法を提供しようとするものである。
r問題点を解決するための手段J
本発明に係る単一モード光ファイバ母材の製造方法はD
2−02炎によるS iCl 4の火炎加水分解反応に
より生成したS r 02微粒子を棒状に堆積して、密
度2 、0g/crrf以上のコア用多孔質ガラス層を
形成する手段と、H2−02炎またはD 2−02炎に
よるS i Cl aの火炎加水分解反応により生成し
たS r 02微粒子を上記コア用多孔質ガラス層の外
周に堆積して、該コア用多孔質ガラス層の外周に密度0
.2〜0.3g/am”のクラッド用多孔質ガラス層を
形成する手段と、これら両多孔質ガラス層からなる多孔
質母材を、フッ化物を含む雰囲気中にて透明ガラス化す
る手段とを備えていることを特徴としている。
2−02炎によるS iCl 4の火炎加水分解反応に
より生成したS r 02微粒子を棒状に堆積して、密
度2 、0g/crrf以上のコア用多孔質ガラス層を
形成する手段と、H2−02炎またはD 2−02炎に
よるS i Cl aの火炎加水分解反応により生成し
たS r 02微粒子を上記コア用多孔質ガラス層の外
周に堆積して、該コア用多孔質ガラス層の外周に密度0
.2〜0.3g/am”のクラッド用多孔質ガラス層を
形成する手段と、これら両多孔質ガラス層からなる多孔
質母材を、フッ化物を含む雰囲気中にて透明ガラス化す
る手段とを備えていることを特徴としている。
「作用J
本発明方法においてコア用多孔質ガラス層を形成すると
き、重水素と酸素とによるD2−02炎を用い、当該火
炎により気相原料S i C1、iを火炎加水分解反応
して5iO2微粒子を生成するとともに該S + 02
微粒子をターゲットに向けて噴射かつ堆積して。
き、重水素と酸素とによるD2−02炎を用い、当該火
炎により気相原料S i C1、iを火炎加水分解反応
して5iO2微粒子を生成するとともに該S + 02
微粒子をターゲットに向けて噴射かつ堆積して。
棒状のコア用多孔質ガラス層を形成するが、この際、コ
ア用多孔質ガラス層の密度が2.0g/crn”以上と
なるように該層を固く形成する。
ア用多孔質ガラス層の密度が2.0g/crn”以上と
なるように該層を固く形成する。
上記コア用多孔質ガラス層の外周には、)12−02炎
によるS r CI 4の火炎加水分解反応により生成
したS + 02微粒子を堆積して、該コア用多孔質ガ
ラス層の外周に密度0.2〜0.3g/crn’のクラ
ッド用多孔質ガラス層を形成する。
によるS r CI 4の火炎加水分解反応により生成
したS + 02微粒子を堆積して、該コア用多孔質ガ
ラス層の外周に密度0.2〜0.3g/crn’のクラ
ッド用多孔質ガラス層を形成する。
その後、これらコア用多孔質ガラス層、クラッド用多孔
質ガラス層からなる多孔質母材を、フッ化物を含む雰囲
気中にて透明ガラス化する。
質ガラス層からなる多孔質母材を、フッ化物を含む雰囲
気中にて透明ガラス化する。
こうして多孔質母材を透明ガラス化するとき。
低密度(0,2〜0.3g/crn3)のクラッド用多
孔質ガラス層にはフッ素がドープされるが、コア用多孔
質ガラス層の場合はこれが高密度(2,0g/am″)
であることによりフッ素が浸透せず、かくて高屈折率の
コア用透明ガラス層、低屈折率のクラッド用透明ガラス
層をもつ透明ガラス母材が得られる。
孔質ガラス層にはフッ素がドープされるが、コア用多孔
質ガラス層の場合はこれが高密度(2,0g/am″)
であることによりフッ素が浸透せず、かくて高屈折率の
コア用透明ガラス層、低屈折率のクラッド用透明ガラス
層をもつ透明ガラス母材が得られる。
しかも上記透明ガラス化時、クラッド用多孔質ガラス層
からは、これが低密度であることによりOH基がほとん
ど抜け、一方、コア用多孔質ガラス層の場合は、 0
.−02炎によるS r Cl 4の火炎加水分解反応
にてS io 2微粒子を生成するので、OH基の問題
が当初からなく、ゆえに上記透明ガラス母材を主体にし
て製造された単一モード光ファイバの場合は、OH基に
起因した波長1.31J、層、 1.551Lm等のロ
スがきわめて小さくなる。
からは、これが低密度であることによりOH基がほとん
ど抜け、一方、コア用多孔質ガラス層の場合は、 0
.−02炎によるS r Cl 4の火炎加水分解反応
にてS io 2微粒子を生成するので、OH基の問題
が当初からなく、ゆえに上記透明ガラス母材を主体にし
て製造された単一モード光ファイバの場合は、OH基に
起因した波長1.31J、層、 1.551Lm等のロ
スがきわめて小さくなる。
なお、D2−02炎を用いて形成されるコア用多孔質ガ
ラス層の場合、これの透明ガラス化に際してDO基がほ
とんど抜けることがないため、透明ガラス化後において
もDO基が多量に残存し、これによる吸収ピークがあら
れれるが、このDO基による吸収ピークは既知のごと(
1,87gmへ移動するので1.3JLm 、 1.5
5JLm ヘはとんど影響することがなく、したがって
1.31Lm 、 1゜55ル団における低損失が確保
できる。
ラス層の場合、これの透明ガラス化に際してDO基がほ
とんど抜けることがないため、透明ガラス化後において
もDO基が多量に残存し、これによる吸収ピークがあら
れれるが、このDO基による吸収ピークは既知のごと(
1,87gmへ移動するので1.3JLm 、 1.5
5JLm ヘはとんど影響することがなく、したがって
1.31Lm 、 1゜55ル団における低損失が確保
できる。
1実 施 例1
以下本発明方法の実施例につき、図面を参照して説明す
る。
る。
第1図に示すVAD法おいて、同心円の四重管構造から
なる反応バーナ10を介してコア用多孔質ガラスMla
を形成するとき、反応バーナ10の第一流路(最外側)
には02を、第二流路にはArを、第三流路にはD2(
重水素)をそれぞれ供給するとともに該反応バーナ10
の第四流路(中心)にはArによりバブリングしたS
i CI 4を供給し、これら各ガスの火炎加水分解反
応により生成したS + 02微粒子をターゲット11
に向けて噴射かつ堆積させる。
なる反応バーナ10を介してコア用多孔質ガラスMla
を形成するとき、反応バーナ10の第一流路(最外側)
には02を、第二流路にはArを、第三流路にはD2(
重水素)をそれぞれ供給するとともに該反応バーナ10
の第四流路(中心)にはArによりバブリングしたS
i CI 4を供給し、これら各ガスの火炎加水分解反
応により生成したS + 02微粒子をターゲット11
に向けて噴射かつ堆積させる。
こうしてコア用多孔質ガラス層1aを形成するとき、−
例としてその密度が2.0〜2.2g/am″となるよ
うに前記各ガスの流量を調整し、該コア用多孔質ガラス
層1aの直径を8〜12+u+程度とする。
例としてその密度が2.0〜2.2g/am″となるよ
うに前記各ガスの流量を調整し、該コア用多孔質ガラス
層1aの直径を8〜12+u+程度とする。
かかるコア用多孔質ガラス層1aの場合、少々の衝撃で
は割れることがない。
は割れることがない。
つぎに、上記コア用多孔質ガラス層1aの外周には第2
図に示すOVD法を介してクラッド用多孔質ガラス層2
aを形成する。
図に示すOVD法を介してクラッド用多孔質ガラス層2
aを形成する。
これに際しては、同心円の四重管構造からなる反応バー
ナ13の第一流路に02を、その第二流路にArを、そ
の第三流路にI(2をそれぞれ供給するとともに該反応
バーナ13の第四流路にはArによりバブリングしたS
r CI 、iを供給し、これら各ガスの火炎加水分
解反応により生成したS r 02微粒子をコア用ガラ
ス層1aの外周に堆積させてクラッド用多孔質ガラス層
2aを形成する。
ナ13の第一流路に02を、その第二流路にArを、そ
の第三流路にI(2をそれぞれ供給するとともに該反応
バーナ13の第四流路にはArによりバブリングしたS
r CI 、iを供給し、これら各ガスの火炎加水分
解反応により生成したS r 02微粒子をコア用ガラ
ス層1aの外周に堆積させてクラッド用多孔質ガラス層
2aを形成する。
こうしてクラッド用多孔質ガラス層2aを形成するとき
、その密度が0.2〜0.3g/am″となるように前
記各ガスの流量を調整し、該コア用多孔質ガラス層2a
の直径は一例としてこれが80■−程度となるように仕
上げる。
、その密度が0.2〜0.3g/am″となるように前
記各ガスの流量を調整し、該コア用多孔質ガラス層2a
の直径は一例としてこれが80■−程度となるように仕
上げる。
その後、上記コア用多孔質ガラス層1a、クラッド用多
孔質ガラス層2aからなる多孔質母材3aを第3図の電
気炉14により透明ガラス化する。
孔質ガラス層2aからなる多孔質母材3aを第3図の電
気炉14により透明ガラス化する。
これに際しては、電気炉14の炉心管15内に101/
mainのHeと、 241/winのSF6 と、0
2によりバブリングしたIJL/winの5OCI2と
を供給するとともに炉内の最高温度部が1450℃とな
るよう炉心管内部を ヒータ16により加熱保持し、該
炉心管15内に120+am/hrの速度で多孔質母材
3aを挿入する。
mainのHeと、 241/winのSF6 と、0
2によりバブリングしたIJL/winの5OCI2と
を供給するとともに炉内の最高温度部が1450℃とな
るよう炉心管内部を ヒータ16により加熱保持し、該
炉心管15内に120+am/hrの速度で多孔質母材
3aを挿入する。
上記透明ガラス化処理により、コア用多孔質ガラス層1
aがコア用透明ガラス層1bとなり、クラッド用多孔質
ガラス層2aがクラッド用透明ガラス層2bとなる透明
ガラス母材3bが得られる。
aがコア用透明ガラス層1bとなり、クラッド用多孔質
ガラス層2aがクラッド用透明ガラス層2bとなる透明
ガラス母材3bが得られる。
該透明ガラス母材3bは、前述した多孔質母材3aのコ
ア用多孔質ガラス層1a、クラフト用多孔質ガラス層2
aがそれぞれ直径8〜12■膳程度、 80m腸程度の
ものであるとき、直径約35層履程度に仕上がる。
ア用多孔質ガラス層1a、クラフト用多孔質ガラス層2
aがそれぞれ直径8〜12■膳程度、 80m腸程度の
ものであるとき、直径約35層履程度に仕上がる。
当該透明ガラス母材3bの組成を非破壊的に測定したと
ころ、クラッド用透明ガラス層2bにはフッ素がΔ−=
0.31% ドープされていたが、そのコア用多孔質ガ
ラス層1bにはフッ素が全くドープされていない。
ころ、クラッド用透明ガラス層2bにはフッ素がΔ−=
0.31% ドープされていたが、そのコア用多孔質ガ
ラス層1bにはフッ素が全くドープされていない。
かくして得られた透明ガラス母材3bを−たん加熱延伸
手段により直径約10mmに減径し、ついで第2図のガ
ラス微粒子堆積手段、第3図の透明ガラス化手段より上
記母材のクラッド厚を所定寸法に増大し、その後の母材
を紡糸することによりコア径/クラッド径−1/12.
2のディプレストクラッド型単一モード光ファイバを得
た。
手段により直径約10mmに減径し、ついで第2図のガ
ラス微粒子堆積手段、第3図の透明ガラス化手段より上
記母材のクラッド厚を所定寸法に増大し、その後の母材
を紡糸することによりコア径/クラッド径−1/12.
2のディプレストクラッド型単一モード光ファイバを得
た。
この光ファイバの伝送特性を測定したところ、クラッド
のOH基がほとんど抜けていたため、1.38%ffi
のOH吸収ピークは約1dB/kmであった。
のOH基がほとんど抜けていたため、1.38%ffi
のOH吸収ピークは約1dB/kmであった。
一方、コアの叩基はほとんど抜けておらず、そのOD基
による吸収ピークが約30dB/kmと高い値を示した
が、この00吸収ピークの場合、前述の通り1.87J
A11に移動するので、1.3 p、ta 、 1.5
5gmにはほとんど影響せず、その結果、1.3 p、
taにおける伝送特性が0.32dB/に謬、 1.5
5p鵬における伝送特性が0.15dB八腸ときわめて
低損失であった。
による吸収ピークが約30dB/kmと高い値を示した
が、この00吸収ピークの場合、前述の通り1.87J
A11に移動するので、1.3 p、ta 、 1.5
5gmにはほとんど影響せず、その結果、1.3 p、
taにおける伝送特性が0.32dB/に謬、 1.5
5p鵬における伝送特性が0.15dB八腸ときわめて
低損失であった。
なお、第1図の手段で密度2g/sin程度の多孔質ガ
ラス層1aを形成するとき、その多孔質ガラス層1aの
外周面に面する焼結バーナを用いて該層1aを所望の密
度に仕上げてもよい。
ラス層1aを形成するとき、その多孔質ガラス層1aの
外周面に面する焼結バーナを用いて該層1aを所望の密
度に仕上げてもよい。
また、第1図の手段で形成された多孔質ガラス層1aを
電気炉内で焼結処理し、該層1aを所望の密度に仕上げ
てもよい。
電気炉内で焼結処理し、該層1aを所望の密度に仕上げ
てもよい。
第1図において、多孔質ガラス層1aが所望の密度に仕
上るとき、クラッド合成用の反応バーナを該層1aの外
周部に配置してコア用多孔質ガラス層!aとクラッド用
多孔質ガラス層2aとを同時形成してもよい。
上るとき、クラッド合成用の反応バーナを該層1aの外
周部に配置してコア用多孔質ガラス層!aとクラッド用
多孔質ガラス層2aとを同時形成してもよい。
クラッド用多孔質ガラス層2aを形成する際の火炎加水
分解反応時、D2−02炎を用いてもよいが。
分解反応時、D2−02炎を用いてもよいが。
この場合、高価なり2よりも安価なH2を使用する方が
コスト面で有利である。
コスト面で有利である。
r発明の効果J
以上説明した通り1本発明方法によれば、S i O2
コア、 5iO2−Fクラッド有する単一モード光ファ
イバにつき、これを低損失にすることのできる母材が製
造できる。
コア、 5iO2−Fクラッド有する単一モード光ファ
イバにつき、これを低損失にすることのできる母材が製
造できる。
第1図は本発明方法におけるコア用多孔質ガラス層の形
成手段を略示した説明図、第2図は同上におけるクラッ
ド用多孔質ガラス層の形成手段を略示した説明図、第3
図は同上における多孔質母材の透明ガラス化手段を略示
した説明図である。 la・・・コア用多孔質ガラス層 1b+11111コア用透明ガラス層 2a・・・クラッド用多孔質ガラス層 2b・・・クラッド用透明ガラス層 3a・・・多孔質母材 3b・・・透明ガラス母材 lO・・・反応バーナ 13・・・反応バーナ 14・・・透明ガラス化用電気炉 代理人 弁理士 斎 藤 義 離 溶1図 第2図 1131!!
成手段を略示した説明図、第2図は同上におけるクラッ
ド用多孔質ガラス層の形成手段を略示した説明図、第3
図は同上における多孔質母材の透明ガラス化手段を略示
した説明図である。 la・・・コア用多孔質ガラス層 1b+11111コア用透明ガラス層 2a・・・クラッド用多孔質ガラス層 2b・・・クラッド用透明ガラス層 3a・・・多孔質母材 3b・・・透明ガラス母材 lO・・・反応バーナ 13・・・反応バーナ 14・・・透明ガラス化用電気炉 代理人 弁理士 斎 藤 義 離 溶1図 第2図 1131!!
Claims (3)
- (1)D_2−O_2炎によるSiCl_4の火炎加水
分解反応により生成したSiO_2微粒子を棒状に堆積
して、密度2.0g/cm^2以上のコア用多孔質ガラ
ス層を形成する手段と、H_2−O_2炎またはD_2
−O_2炎によるSiCl_4の火炎加水分解反応によ
り生成したSiO_2微粒子を上記コア用多孔質ガラス
層の外周に堆積して、該コア用多孔質ガラス層の外周に
密度0.2〜0.3g/cm^2のクラッド用多孔質ガ
ラス層を形成する手段と、これら両多孔質ガラス層から
なる多孔質母材を、フッ化物を含む雰囲気中にて透明ガ
ラス化する手段とを備えていることを特徴とする単一モ
ード光ファイバ母材の製造方法。 - (2)コア用多孔質ガラス層とクラッド用多孔質ガラス
層とを同時工程により形成する特許請求の範囲第1項記
載の単一モード光ファイバ母材の製造方法。 - (3)コア用多孔質ガラス層を形成する工程を先行して
行ない、クラッド用多孔質ガラス層を形成する工程を後
行して行なう特許請求の範囲第1項記載の単一モード光
ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5759285A JPS61215227A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5759285A JPS61215227A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61215227A true JPS61215227A (ja) | 1986-09-25 |
Family
ID=13060117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5759285A Pending JPS61215227A (ja) | 1985-03-22 | 1985-03-22 | 単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61215227A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2952485A4 (en) * | 2013-01-29 | 2016-08-31 | Furukawa Electric Co Ltd | PROCESS FOR PRODUCTION OF GLASS BASE AND OPTICAL FIBER |
-
1985
- 1985-03-22 JP JP5759285A patent/JPS61215227A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2952485A4 (en) * | 2013-01-29 | 2016-08-31 | Furukawa Electric Co Ltd | PROCESS FOR PRODUCTION OF GLASS BASE AND OPTICAL FIBER |
US9783450B2 (en) | 2013-01-29 | 2017-10-10 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Method of producing glass preform and optical fiber |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Blankenship et al. | The outside vapor deposition method of fabricating optical waveguide fibers | |
EP0520337B1 (en) | Optical fiber and process of producing same | |
EP0154026A3 (en) | A monomode optical fibre and a method of manufacture | |
KR20000051960A (ko) | 오.에이치.차단층을 구비한 광섬유 모재 및 그 제조방법 | |
KR20040002720A (ko) | 코어층 내의 수산기가 제거된 광섬유 모재의 제조방법 | |
JPS61215227A (ja) | 単一モ−ド光フアイバ母材の製造方法 | |
CN113716861A (zh) | 一种采用外气相沉积法制备弯曲不敏感光纤的方法 | |
JPS6048456B2 (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
AU647051B2 (en) | Method for making a preform doped with a metal oxide | |
US5641333A (en) | Increasing the retention of Ge02 during production of glass articles | |
JPS6131324A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
JPH0820574B2 (ja) | 分散シフトフアイバ及びその製造方法 | |
JPS63123829A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JPS63248733A (ja) | シングルモ−ド光フアイバ母材の製造法 | |
JPH0327491B2 (ja) | ||
JP3174682B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JP2766995B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
Schultz | Vapor phase materials and processes for glass optical waveguides | |
KR101287545B1 (ko) | 유효면적이 증가된 분산이동 광섬유용 모재의 제조방법 | |
JPH01242432A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
AU698054B2 (en) | Increasing the retention of GeO2 during production of glass articles | |
JPS6317236A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
JPH0797229A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
CN118604939A (zh) | 多模、单模多芯复合通信光纤及其制备工艺 | |
JPS63285128A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 |