JPS61214532A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPS61214532A
JPS61214532A JP5456085A JP5456085A JPS61214532A JP S61214532 A JPS61214532 A JP S61214532A JP 5456085 A JP5456085 A JP 5456085A JP 5456085 A JP5456085 A JP 5456085A JP S61214532 A JPS61214532 A JP S61214532A
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output
circuit
pads
supply voltage
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Kinya Mitsumoto
光本 欽哉
Hideaki Uchida
英明 内田
Yoshikazu Saito
良和 斉藤
Shinji Nakazato
伸二 中里
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Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] この発明は、半導体集積回路技術に関し、例えば出力回
路が制御信号によりON (導通)状態となる半導体集
積回路における電源配線の引込み方式に利用して特に有
効な技術に関する。
[背景技術] 1983年9月26日発行の日経エレクトロニクス誌1
25頁から139頁にも示されるように、スタティック
RAMの大容量化、高速化が進んでいる。まず、スタテ
ィックRAMの構成を以下簡単に説明する。
第4図は、本発明者等によって出願前に開発された半導
体記憶装置の全体構成の一例を示す。
同図に示す記憶装置100は、多数の記憶セルMを行と
列のマトリックス状に配列した記憶マット10、この記
憶マット10内の記憶セルをアドレスデータAiに基づ
いて選択するためのXデコーダ・ドライバ20およびY
デコーダ30などを有する。
Xデコーダ・ドライバ20は、アドレスデータAiの下
位(上位)ビットデータをデコードして択一的な選択信
号Xo−=Xmを作成する。この選択信号X o = 
X mは、上記記憶マットlOの行方向に布線されたワ
ード線Wに与えられる。
Yデコーダ30は、アドレスデータAiの上位(下位)
ビットデータをデコードして択一的な選択信号YO〜Y
n作成する。この選択信号Yo〜YnはY選択スイッチ
列(コラム・スイッチ列)40に与えられる。そして、
このY選択スイッチ列40によって、上記記憶マット1
0の列方向に2本づつ対になって布線された相補データ
線対り。
Dを選択する。
以上のようにして、記憶マットlO内の記憶セルMが行
方向および列方向からそれぞれ選択されるようになって
いる。アドレスデータAiに基づいて選択された行と列
の交差箇所に接続されている記憶セルMは、その選択さ
れた相補データ線対り、DおよびY選択スイッチ列40
を介して共通データ線L1tL2に接続される。そして
、この共通データ線L1rL2に現われる電位の変化が
続出センス回路50によって検出され、この検出結果が
データ出力バッファ制御信号DOCによりON (導通
)されるデータ出力バッファ回路り。
Bを介して、記憶データの読出出力信号Doutとなる
ところで、データ出力バッファ回路DOBを構成する最
終段のMISFET (絶縁ゲート型電界効果トランジ
スタ)は、ON抵抗を小さくするためチャネル幅Wが大
きなサイズに形成され、比較的大きな電流が流れるよう
になっている。そのため、出力信号がハイレベルからロ
ウレベル等に変化するときに出力バッファ回路に大きな
電流が流れ、電源ラインの持つインピーダンスによって
電源電圧が変動してしまう、その結果、電源ラインを共
通にする内部回路や入力回路へ出力バッファ回路DOB
で発生した電源ノイズが伝わって誤動作を引き起こすお
それがある。
従来、電源ラインを共通とする回路間の電源ノイズによ
る誤動作を防止する方法として、各回路ブロックごとに
、1個の電源パッドから各回路ブロックごとに別々の電
源配線を引き出して電源電圧を供給するようにした発明
が提案されている(例えば特願昭59−38519号)
しかしながら、上記のように各回路ブロックごとに電源
ラインを分割して配設する方式では、電源ラインのイン
ピーダンスによる電源ノイズの影響は減少できても、電
源パッドを共通にしているため、出力回路が動作したと
きにボンディング・ワイヤやリードフレームの持つイン
ダクタンスによって生ずる電源電圧の変動の影響をなく
すことはできない。
一方1本出願人等は、スタティックRAMの低消費電力
化、高速化の観点から研究を進め、スタティックRAM
をバイポーラトランジスタ、MOSトランジスタの両方
を用いて構成する技術を開発した。その概略を述べると
以下のようなものである。すなわち半導体メモリ内のア
ドレス回路。
タイミング回路などにおいて、長距離の信号線を充電お
よび放電する出力トランジスタ及びファンアウトの大き
な出力トランジ、スタはバイポーラトランジスタにより
構成され、論理処理1例えば反転、非反転、NAND、
NOR等の処理を行う論理回路は、0M08回路より構
成されている。0M05回路によって構成された論理回
路は低消費電力であり、この論理回路の出力信号は低出
力インピーダンスのバイポーラ出力トランジスタを介し
て長距離の信号線に伝達される。低出力インピーダンス
であるバイポーラ出力トランジスタを用いて出力信号を
信号線に伝えるようにしたことにより信号線の浮遊容量
に対する信号伝播遅延時間の依存性を小さくすることが
できる作用によって、低消費電力で高速度の半導体メモ
リが得られるというものである。
上記したバイポーラ・0MO3混在技術を用いた高速、
低消費電力のSRAM技術にもとづき。
本発明者等はさらに電源ノイズの影響を検討した。
第5図には、上記バイポー90MO5混在技術を用いた
スタティックRAMの内部回路の一部を示すものであっ
て、同様に本発明者等により開発されたものである。
同図には、情報を保持しているメモリセルMと、センス
アンプSAと、このセンスアンプの出力を更に増幅する
データ出力中間アンプDOIAおよびデータ出力バッフ
ァ回路DOBの一例を示す。
各相補データ線対り、Dは、それぞれその一端がプルア
ップ用MO8電界効果トランジスタQlyQ2を介して
共通電源Vccに接続され、その他端が上記Yスイッチ
列内のY選択スイッチ(コラム・スイッチ)Qs= Q
4を介して上記共通データ線L1*L2に接続されるよ
うになっている。従つて、この共通データ線L1+L2
に相補的に現われる電位の変化を読出センス回路SAに
よって検出することにより1選択された記憶セルMに書
込まれた記憶情報を読出すことができる。上記Y選択ス
イッチ列40内の各選択スイッチQ3−Q4はそれぞれ
MO8電界効果トランジスタを用いて構成されている。
上記Y選択スイッチQ3=Q4は、非選択時つまり有効
なアドレスデータが入力されていないときには、すべて
OFF (非導通)となる。
センスアンプSAは、エミッタ結合された一対のバイポ
ーラ型差動トランジスタ’r21e ’r22と定電流
源MISFETT2Oとから構成される。
定電流源MI 5FETT2.のゲート電極に適当な選
択制御信号Slが印加されると、センスアンプSAはセ
ンス動作を実行する。
タイミング発生回路からデータ出力中間アンプDOIA
の定電流源M I S F E T T 2 a〜T2
Bのゲート電極にハイレベルの内部チップセレクト信号
C8が印加されると、データ出力中間アンプDOIAは
増幅動作を実行する。
従って、センスアンプSAの出力信号は、ベース接地ト
ランジスタT2フ、T28.エミッタ・フォロワ・トラ
ンジスタT29 v T30 、出力MI 5FETT
35−Tsaを介して、データ出力中間アンプDOIA
の出力ノードN11に伝達される。データ出力バッファ
回路DOBには、タイミング発生回路から出力されるデ
ータ出力バッフ7制御信号DOCが供給される。
データ出力バッファ回路DOBは、MISFETT39
1T40からなる純CMOSインバータ。
トランジスタT41〜T48からなる準CMO5・2人
力NAND回路、トランジスタT4.〜T56からなる
準CMO3・2人力NOR回路およびPチャンネル型ス
イソチ用M I S FETTB ? 。
Nチャンネル型スイソチ用MISFETT6a。
Pチャンネル現出力用MISFETTss、Nチャンネ
ル型出力用M I S F E T T e aとから
構成されている。
データ出力バッファ制御信号DOCがハイレベルの時は
、スイッチ用M I S F E T T s 7とT
saがオンとなり、これよって出力用M I S FE
TT’ssとT’goが同時にオフとなるため、データ
出力バッフ7回路DOBの出力D o u tはハイ・
インピーダンス(フローティング)状態となる。
情報の読出し時には、データ出力バッファ制御信号DO
cはロウレベルとなり、スイッチ用MISFETT67
とT’saはオフとなり、データ出力中間アンプDOI
Aの出力ノードN11の信号レベルに応答した準CMO
5・2人力NOR回路の出力によって出力用MISFE
TTssとTa2のゲート電極が制御され、出力端子D
outより有効データが得られる。
出力用MISFETTss+ Tooのオン抵抗を小と
するため、これらのMISFETのチャンネル幅は極め
て大きな値に設定されている。すると、これらのM I
 S FETTs s v To oのゲート容量は極
めて大きなものとなる。しかし、準CMO5・2人力N
OR回路の出力部はバイポーラ出力トランジスタ’r4
7 * ’r48により構成され、準CMO8・2人力
NOR回路の出力部はバイポーラ出力トランジスタTS
@、T、、により構成されている。そのため、これらの
出力用MISFETTs s t T6oのゲート容量
の充電・放電は高速度で実行される。
注目すべきことは、本実施例のB i −0MO3型の
スタティックRAMでは、出力Doutの立上がりと立
下がりが完全MOS型のスタティックRAMに比べて高
速(2m3〜3m8)で行なわれるため、瞬間的に大き
な電流(30mA〜50mA)が流れ、ポンディングパ
ッドに接続された ・ボンディングワイヤやリードフレ
ームの各インダクタンスLaw、LL、により電源電圧
Vcc又はGNDが変動(±500mV)する。
この電源のノイズ(Vnoise)は、下式により示さ
れる。
Vnoise= (VLF+Lsw)d i/dtiは
流れる電源であり、tは出力データの立上り。
立下り時間を示す。
この様に、Bi−CMO8型のスタティックRAMでは
、高速であるがために電源ノイズが大きく、1つの電源
パッドからすべての内部回路に電源を供給すると、デコ
ーダ等に使用される論理回路のロジック入力スレッシュ
−ホールドviLがへ変化し、誤動作するおそれがある
[発明の目的] この発明の目的は、出力回路の動作が駆動信号により制
御される半導体集積回路において、出力回路の動作によ
って発生する電源ノイズが内部回路や入力回路に伝わっ
て誤動作を引き起こすのを防止できるような半導体集積
回路技術を提供することにある。
この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては1本明細書の記述および添附図面から明かにな
るであろう。
[発明の概要] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、出力回路が制御信号によりON、OFFする
記憶装置において、電源パッドを少くとも出力回路と他
の回路とで各々別個に形成し、かつ共通のリード端子か
ら各電源パッドに別々のボンディング・ワイヤでそれぞ
れ接続してやることにより、出力回路が駆動信号により
動作したときにボンディング・ワイヤの持つインダクタ
ンスによって発生する電源ノイズを内部回路や入力回路
に伝わりに<<シて、電源ノイズによる回路の誤動作を
防止するという上記目的を達成するものである。
以下この発明を実施例とともに詳細に説明する。
[実施例] 第1図には、本発明をB i −0MO3型のスタティ
ックRAMに適用した場合のレイアウトの一実施例が示
されている。図中鎖線Aで囲まれた各回路ブロックは、
半導体集積回路技術によって単結晶シリコン基板のよう
な一個の半導体チップ上において形成される。
本実施例のスタティックRAMは、メモリアレイ部が4
つのメモリマットM−MA71〜M−MAT4に分割さ
れ、各メモリマットM−MAT1〜M−MAT4内には
、公知の高抵抗負荷形のメモリセルが例えば128行×
128列のようなマトリックス状に配設されている。
上記メモリマットM−MAT LとM−MAT2との間
およびメモリマットM−MAT3とM−MAT4との間
には、両側にワード線選択駆動回路X−DRIとX−D
R2とを有するXデコーダx       、−−DE
Clと1両側にワード線選択駆動回路X−DR3とX−
DR4を有するXデコーダX−DEC2とがそれぞれ配
設されている。
また、各メモリマットM−MAT1〜M−MAT4の一
側(図では下側)には、各マット内に配設されたデータ
線対を、コモンデータ線対に接続させるためのカラムス
イッチ群Y−3WI〜Y−8W4と、これらのカラムス
イッチ群内のアドレス信号A7〜Atsに対応する一対
のカラムスイヅチを選択的にオン状態にさせるYデコー
ダY−DECI〜Y−DEC4およびセンスアンプ、書
込みドライバ列SA、WDI〜SA、WD4が配設され
ている。
さらに、上記メモリマットM−MAT1〜M−MAT4
の両側方には、外部から供給されるアドレス信号A □
 = A 1 g、に基づいて、上記XデコーダX−D
ECI、X−DEC2やYデコーダY−DECI〜Y−
DEC4に対する内部アドレス信号を形成するXアドレ
スバラフッ回路X−ADBl、X−ADB2およびYア
ドレスバラフッ回路Y−ADB 1.Y−ADB2が配
設されている。
アドレスバッファ回路X−ADB 1〜Y−ADB2は
、それぞれプリデコード機能をも有している。
上記Yアドレスバッファ回路Y−ADB2の下方には、
入力バッファ回路DIBと出力バッファ回路DOBおよ
び外部から供給される制御信号C百やWEに基づいて適
当な内部制御信号を形成するタイミング発生回路TGI
、TG2等が配設されている。
そして、この実施例では、第1図に示すごとく、半導体
チップAの左右両側縁に沿って、アドレス信号Ao””
Algや制御信号C3,WEおよび回路の電源電圧Vc
cおよび接地電位GNDが印加されるパッドP1〜P2
4が、ピン配置に対応した所定の順序で配列、形成され
ている。しかも、この実施例では、上記パッド21〜P
24のうち、電源電圧Vccに対応するパッドと接地電
位GNDに対応するパッドがそれぞれ2つずつ形成され
、そこに印加された電圧が電源電圧Vcc1とVcc2
および接地電位GNDI 、GND2としてチップ内部
に供給されるようにされている。
また、上記パッドP1〜P24のうちPCBの両側方(
図では上下)には、データ出力バッファ回路DOBの最
終段のプッシュ・プル型出力段を構成するチャンネル幅
(W)の大きなPチャンネル型M I S F E T
 T s sとNチャンネル型MISFETT、、とが
配設されている。そして、上記パッドP17に印加され
た接地電位G N D 2が、配線し、によって上記M
 I S F E T T s oにのみ供給される。
また、パッドP、に印加された電源電圧Vcc2が半導
体チップAの周縁のパッドP1〜P24よりも外側の縁
部に沿って形成された電源ラインL2によって、上記M
 I S F E T T s eにのみ供給されるよ
うにされている。
一方、パッドP6およびP2Oに印加された電源電圧V
cclと接地電位G N D 1は、チップ縁部の上記
パッドP1〜P24および上記電源ラインL2よりも内
側の位置に形成された電源ラインL3、L4によって、
前記アドレスバッファX−ADB 1.X−ADB 2
.Y−ADB 1.Y−ADB2やデコーダX−DEC
I、X−DEC2,Y−DECI〜Y−DEC4等、上
記出力バッファ回路DOBの最終段(M I S F 
E TTs s 、 Te0)以外の回路に供給される
ようにされている。
第2図には、上記のごときレイアウトに従って構成され
た半導体チップAに対するボンディング・ワイヤの結線
方式の一例が示されている。
ウェハから切り出された半導体チップAは、タブB上に
ロウ付けされてから、リードフレームの中央に位置決め
固定される。それから、リードフレームと一体の各リー
ド端子LTI〜LT22の内端部と、チップ周縁のパッ
ドP1〜P24との間にボンディング・ワイヤBW1〜
BW2.が接続される。
この実施例では、リード端子LT1〜LT22のうち電
源電圧Vccおよび接地電位GNDの印加されるリード
端子LT、とLT、、からは、それぞれ2本ずつボンデ
ィング・ワイヤが引き延ばされてそれぞれパッドP6*
P6およびP 17 ? P2Oに結合されている。つ
まり、パッドps、p6には共通のリード端子LT6か
ら電源電圧Vccが供給され、パッドP17wP1aに
は共通のリード端子LT、、から接地電位GNDが供給
されるようになっている。
第2図(B)は、第2図(A)のリード端子LT5.ボ
ンディング・ワイヤBL、、BL、のインダクタンス成
分を模式的に示したものである。
インダクタンスLLF6 v I、8w61 Law6
gよ、リード端子L T s +ボンディング・ワイヤ
BW6゜BW、のインダクタンス成分を示す。パッドP
5に接続されたデータ出力バッファ回路DOBの最終段
のゲートにロウレベル(L)が印加され1Ml5FET
TssがON状態になり、出力Doutがハイとなると
き、電流iはリード端子LT5 eボンディング・ワイ
ヤBW6を通り、MISFE’r’rs、を介して出力
Doutに流れる。
コノ時、パッドP5での電流ノイズV n oise4
tVnoisa= (LLT5 +Law5)d i/
d tとなる。tは出力データの立上り、立下り時間を
示す・ しかし、パッドP6には電流が流れ込まないのでこの部
分の電源ノイズは同図β位置の電源ノイズしか加わらな
い、β位置の電源ノイズVnoiseβは。
V noiseβ=LLFs’di/dtとなり、V 
noi、se > V noiseβという関係になる
これにより、パッドP6に接続された内部回路に伝わる
ノイズは小さくなる。
従ってこの実施例によれば、出力バッフ7回路DOBが
動作したときに、リード端子LT、からボンディング・
ワイヤBW、および電源ラインL2を介して出力バッフ
ァ回路の最終段のMISFETT+>sに急激に電流が
流れ込む、これによって、ボンディング・ワイヤBW、
のインダクタンスによりパッドP5の電圧が変動したと
しても、リード端子LT5の電位はパッドP5の電位に
比べて安定しているので、パッドP5の電圧変動がボン
ディング・ワイヤBW、およびBW6を介してパッドP
6に伝わりにくくなる。そのため、出力バッファ回路D
OBの最終段において発生した電源電圧Vcc2の変動
(ノイズ)が、電源パッドを異にする電源ラインL4に
よって電源電圧Vcc1の供給を受けている内部回路や
入力回路へ伝わりにくくなり、これらの回路の誤動作が
防止される。
同様に、接地電位側も出力バッフ7回路の最終段と内部
回路および入力回路とで電源パッドが分割されているた
め、出力バッファ回路が動作したときボンディング・ワ
イヤBW、、のインダクタンスにより発生するグランド
側のノイズが内部回路や入力回路に伝わりにくくなる。
第3図には、第11におけるセンスアンプ、書込みドラ
イバ列SA、WDI〜SA、WD4内のセンスアンプS
Aと、このセンスアンプの出力を更に増幅するデータ出
力中間アンプDOIAおよび前記データ出力バッフ7回
路DOBの一例が示されている。
センスアンプSAは、エミッタ結合された一対のバイポ
ーラ型差動トランジスタT21 e T22と定電流源
MISFETT2.とから構成される。
定電流源M I S F E T T 20のゲート電
極に適当な選択制御信号S1が印加されると、センスア
ンプSAはセンス動作を実行する。
タイミング発生回路TG2からデータ出力中間アンプD
OIAの定電流源M I S F E T T 2 s
〜T2Bのゲート電極にハイレベルの内部チップセレク
ト信号C8が印加されると、データ出力中間アンプDO
IAは増幅動作を実行する。
従って、センスアンプSAの出力信号は、ベース接地ト
ランジスタ’r27 * T28%エミッタ・フォロワ
・トランジスタ’r29 s ’r3o 、出力MI 
S F E T T s s〜Tsaを介して、データ
出力中間アンプDOIAの出力ノードN11に伝達され
る。データ出力バッファ回路DOBには、タイミング発
生回路TGIから出力されるデータ出カバソファ制御信
号DOCが供給される。
データ出力バッファ回路DOBは、MISFETT39
.T、、からなる純CMOSインバータ。
トランジスタ’r、、−’r48からなる準CMOS・
2人力NAND回路、トランジスタT4.〜TS6から
なる準CMO3・2人力NOR回路およびPチャンネル
型スイソチ用MISFETTsフ。
Nチャンネル型スイソチ用M I S FETTe a
 =Pチャンネル型出力用M I S FETTB s
 、 Nチャンネル現出力用M I S F E T 
T e aとから構成されている。
データ出力バッフ7制御信号DOCがハイレベルの時は
、スイッチ用MI 5FETT、、とTe8がオンとな
り、これよって出力用M I S FETT’ssとT
’eoが同時にオフとなるため、データ出力バッファ回
路DOBの出力Do−utはハイ・インピーダンス(フ
ローティング)状態となる。
情報の読出し時には、データ出カバソファ制御信号DO
Cはロウレベルとなり、スイッチ用MISFETT67
とT’saはオフとなり、データ出力中間アンプDOI
Aの出力ノードNllの信号レベルに応答した準CMO
S・2人力NOR回路の出力によって出力用M I S
 F E T T s sとTe。のゲート電極が制御
され、出力端子Doutより有効データが得られる。
出力用MI 5FETT6 s 、Te。のオン抵抗を
小とするため、これらのMISFETのチャンネル幅は
極めて大きな値に設定されている。すると、これらのM
ISFETTs s p T6oのゲート容量は極めて
大きなものとなる。しかし、準CMOS・2人力NOR
回路の出力部はバイポーラ出力トランジスタT4..T
4.により構成され。
準CMO8・2人力NOR回路の出力部はバイポーラ出
力トランジスタT、、、T、、により構成されている。
そのため、これらの出力用MI 5FETT!S 9 
y ’r、Oのゲート容量の充電・放電は高速度で実行
される。
このように、本実施例のBi−CMO8型のスタティッ
クRAMでは、出力Doutの立上がりと立下がりが完
全MOS型のスタティックRAMに比べて高速(2ms
〜3m5)で行なわれるため、瞬間的に大きな電流(3
0mA〜50mA)が流れ、ボンディング・ワイヤBW
、とBWxaのインダクタンスにより電源電圧Vcc2
とGND2の変動が無視できない大きさく約500mV
)になる。
しかして、この実施例では、上述したように。
プッシュ・プル型の出力段を構成するMISFE’r’
r、、とT’soに対する電源電圧Vcc2とGND2
のみが、他の回路に対する電源電圧Vcc1とGND、
とから別れて供給されている。そのため、ボンディング
・ワイヤのインダクタンスにより出力段で発生した電源
ノイズが他の内部回路や入力回路に伝わりにくくなる。
なお、上記実施例では、電源電圧VccとGNDの印加
される電源パッドを各々2つに分割したものについて説
明したが、3つ以上に分割してもよいことはいうまでも
ない、また、パッドのレイアウトの仕方は第1図に示す
ものに限定されず、分割されたちの同士が隣り合ってい
れば、ピン配置に対応して任意の配置が可能である。
[効果] 電源パッドを出力バッファ回路の最終段と他の回路とで
各々別個に形成し、共通のリード端子から各電源パッド
に別のボンディング・ワイヤでそれぞれ接続してやるよ
うにしたので、パッド側に比べてリード端子側の方がボ
ンディング・ワイヤのインダクタンス分だけ電圧が安定
しているという作用により、出力バッフ7回路が動作し
たときにボンディング・ワイヤの持つインダクタンスに
よって発生する電源ノイズが内部回路や入力回路に伝わ
りにくくなり、これによって電源ノイズによる回路の誤
動作が防止されるという効果がある。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば上記実施例では、
パッドPsから出力バッファ回路の最終段のM I S
 F E T T s aに対する電源電圧の供給を、
半導体チップの最も外側の縁部に沿って形成された電源
ラインL2によって行なうようにしているが、電源ライ
ンL2はパッドP1〜P24よりも内側に配設されるよ
うにされていてもよい。
[利用分野] 以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるBi−CMO3型の
スタティック型RAMに適用したものについて説明した
が、それに限定されず、出力回路もしくはその最終段の
みがMISFETで構成されているB i −0MO3
型ゲートアレイその他の半導体集積回路さらにはMO8
集積回路一般に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明をB i −CMO3型スタテスタテ
ィックRAMした場合のチップ全体のレイアウトの一例
を示す説明図、 第2図(A)は、上記チップに対するワイヤボンディン
グ方式の一例を示す説明図、 第2図CB)は、本発明の詳細な説明するための模式図
、 第3図は、上記スタティックRAMにおけるセンス回路
およびデータ出力バッファ回路の一例を示す回路図。 第4図は1本発明者が出願前に開発したスタティックR
AMの全体概略図、 第5図は、本発明者が開発したスタティックRAMのセ
ンス回路およびデータ出力バッファ回路の一例を示す回
路図である。 M−MATl−M−MAT4・・・・メモリマット、X
−DECI、X−DEC2・・・・Xデコーダ、Y−D
ECI−Y−DEC4・・・・Yデコーダ、DOB・・
・・データ出力バッフ7回路、P1〜P24・・・・パ
ッド、L1〜L4・・・・電源ライン、LT、〜LT2
.・・・・リード端子、BWI〜BW24・・・・ボン
ディング・ワイヤ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、出力回路の動作が、制御信号により制御される半導
    体集積回路装置であって、前記半導体集積回路が形成さ
    れた半導体基板上に、同一の電源電圧に対するパッドが
    互いに近接して2以上設けられ、これらの電源電圧用パ
    ッドには共通の電源電圧用リード端子から別々に延設さ
    れたボンディング・ワイヤの端部が各々結合されてなる
    ことを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記半導体集積回路に供給される第1の電源電圧と
    第2の電源電圧に対応して、各々2以上電源電圧用パッ
    ドが設けられ、これらの電源電圧用パッドには共通の電
    源電圧用リード端子から別々に延設されたボンディング
    ・ワイヤの端部が各々結合されてなることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置。 3、2以上設けられた上記電源電圧用パッドのうち一つ
    には、出力回路のみが接続されてなることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項もしくは第2項記載の半導体集積
    回路装置。 4、上記出力回路は、最終出力段が一対の絶縁ゲート型
    電界効果トランジスタによりプッシュ・プル型の回路に
    構成され、かつそのトランジスタの駆動信号がバイポー
    ラトランジスタにより形成されることを特徴とする特許
    請求の範囲第3項記載の半導体集積回路装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63234623A (ja) * 1987-03-23 1988-09-29 Toshiba Corp 半導体集積回路
US5670802A (en) * 1995-03-30 1997-09-23 Nec Corporation Semiconductor device

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JPH0473893B2 (ja) * 1987-03-23 1992-11-24
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