JPS61213804A - 光フアイバ端面の反射防止膜形成装置 - Google Patents
光フアイバ端面の反射防止膜形成装置Info
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- JPS61213804A JPS61213804A JP60054248A JP5424885A JPS61213804A JP S61213804 A JPS61213804 A JP S61213804A JP 60054248 A JP60054248 A JP 60054248A JP 5424885 A JP5424885 A JP 5424885A JP S61213804 A JPS61213804 A JP S61213804A
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- vacuum chamber
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- optical fibers
- vacuum
- optical fiber
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/241—Light guide terminations
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ファイバ端面に反射防止膜を形成する光ファ
イバ端面の反射防止膜形成装置に関する。
イバ端面の反射防止膜形成装置に関する。
光ファイバはその端面な研磨面のままで使用すると、光
ファイバの材質が有する屈折率に起因して、本質的ζ二
４９Ｇ前後の反射ロスを生ずる。そこでζ真空蒸着によ
り光ファイバ端面に反射防止膜を形成することが、一般
的に行なわれているが、数１０ｍ若しくは数１００ｍ程
度の光ファイバの場合、真空室に光ファイバを設置する
のに際して種々の問題がある。
ファイバの材質が有する屈折率に起因して、本質的ζ二
４９Ｇ前後の反射ロスを生ずる。そこでζ真空蒸着によ
り光ファイバ端面に反射防止膜を形成することが、一般
的に行なわれているが、数１０ｍ若しくは数１００ｍ程
度の光ファイバの場合、真空室に光ファイバを設置する
のに際して種々の問題がある。
第２図は光ファイバ端面に反射防止膜を形成する従来の
真空蒸着装置の概略図であって、基本的には特開昭５８
−２２５６５９号公報：二記載されたものと同一のもの
である。第２図において、（１）は所定の真空度を有す
る真空室、（２）は真空室（１）を真空にする排気装置
、（３）はボート、（４）は蒸着源、（５）はりヤツタ
、（６）は基板ドーム、（７）は加熱ヒータ、（８）は
、ファイバ孔、（９）は光ファイバ、（至）はドラムで
ある。この真空蒸着装置は数１０ｍ迄の長さの光ファイ
バ端面（二反射防止膜を形成する場合に使用されるもの
で、ドラム■（二巻き付けた光ファイバ（９）を真空室
（１）（二収納するよう（＝シている。真空室（１）ミ
ニ収納できる光ファイバ（９）の長さは真空室（１）の
容積によって決まるが、真空蒸着に鑑みると数１０ｍ程
度の光ファイバ（９）を束ねて真空室（二収納すること
は、以下Ｃ：述べる理由（二より、望ましいことではな
い。第１Ｃ二真空室（１）の容積を大きくすることＣ二
伴って排気装置（２）を大型化しなければならず、設備
費が増大してしまうこと１：なる。第２に放出ガス量の
多い構成物からなる光ファイバ（９）を真空室（１０＝
収納するため４二、放出ガスの排気時間を冗長化し、作
業効率が低下してしまう。第６１＝数１０ｍ程度の光フ
ァイバ（９）を巻き付けるドラム叫及び冷却のための配
管類等の設置Ｃ：より、真空室（１）内が複雑化してし
まう。
真空蒸着装置の概略図であって、基本的には特開昭５８
−２２５６５９号公報：二記載されたものと同一のもの
である。第２図において、（１）は所定の真空度を有す
る真空室、（２）は真空室（１）を真空にする排気装置
、（３）はボート、（４）は蒸着源、（５）はりヤツタ
、（６）は基板ドーム、（７）は加熱ヒータ、（８）は
、ファイバ孔、（９）は光ファイバ、（至）はドラムで
ある。この真空蒸着装置は数１０ｍ迄の長さの光ファイ
バ端面（二反射防止膜を形成する場合に使用されるもの
で、ドラム■（二巻き付けた光ファイバ（９）を真空室
（１）（二収納するよう（＝シている。真空室（１）ミ
ニ収納できる光ファイバ（９）の長さは真空室（１）の
容積によって決まるが、真空蒸着に鑑みると数１０ｍ程
度の光ファイバ（９）を束ねて真空室（二収納すること
は、以下Ｃ：述べる理由（二より、望ましいことではな
い。第１Ｃ二真空室（１）の容積を大きくすることＣ二
伴って排気装置（２）を大型化しなければならず、設備
費が増大してしまうこと１：なる。第２に放出ガス量の
多い構成物からなる光ファイバ（９）を真空室（１０＝
収納するため４二、放出ガスの排気時間を冗長化し、作
業効率が低下してしまう。第６１＝数１０ｍ程度の光フ
ァイバ（９）を巻き付けるドラム叫及び冷却のための配
管類等の設置Ｃ：より、真空室（１）内が複雑化してし
まう。
以上のようＣ二第２図の真空蒸着装置では、性能の良い
反射防止膜を効率良く形成する事は困難である。
反射防止膜を効率良く形成する事は困難である。
そこで、第２図の真空蒸着装置の一欠点を全て解決する
ものとして、第６図（二示すような真空蒸着装置が考え
られた。なお、第３図（＝おいて第２図と同様の機能を
果たす部分（二ついては、同一の符号を付し、その説明
は省略する。この真空蒸着装置毫：おいて、束ねた光フ
ァイバ（９）は真空室（１）（＝挿入する部分をゴム弾
性を有する円筒状のファイバホルダα旧二挟み込まれ、
ボート（２）を介して光ファイバ（９）端面をファイバ
孔（８）（＝導かれるのＣ二必要な長さだけ、真空室（
１）内（＝挿入されるようになっている。
ものとして、第６図（二示すような真空蒸着装置が考え
られた。なお、第３図（＝おいて第２図と同様の機能を
果たす部分（二ついては、同一の符号を付し、その説明
は省略する。この真空蒸着装置毫：おいて、束ねた光フ
ァイバ（９）は真空室（１）（＝挿入する部分をゴム弾
性を有する円筒状のファイバホルダα旧二挟み込まれ、
ボート（２）を介して光ファイバ（９）端面をファイバ
孔（８）（＝導かれるのＣ二必要な長さだけ、真空室（
１）内（＝挿入されるようになっている。
しかし、光ファイバ（９）を束ねているので、ファイバ
ホルダＣ１１）からの外気の多少のリークが生じ、又、
ファイバホルダ（１１）の設置状態のばらつき口より真
空室（１）の真空条件の不安定化を招くので、所謂質の
良い真空状態が得られないという問題があった。
ホルダＣ１１）からの外気の多少のリークが生じ、又、
ファイバホルダ（１１）の設置状態のばらつき口より真
空室（１）の真空条件の不安定化を招くので、所謂質の
良い真空状態が得られないという問題があった。
又、質の良い真空状態が得られなければ、光ファイバ（
９）の端面≦：影形成れた反射防止膜の膜特性が一定の
ものとならず、製品のばらつきをもたらすという問題が
あった。
９）の端面≦：影形成れた反射防止膜の膜特性が一定の
ものとならず、製品のばらつきをもたらすという問題が
あった。
本発明は上記問題点を解決するためＩ：なされたもので
、質の良い真空状態で光ファイバの端面（二反射防止膜
を形成する光ファイバ端面の反射防止膜形成装置を提供
することを目的とする。
、質の良い真空状態で光ファイバの端面（二反射防止膜
を形成する光ファイバ端面の反射防止膜形成装置を提供
することを目的とする。
そこで本発明では、束ねた光ファイバの各端面（二反射
防止膜を形成するための真空室（二、この真空室と同程
度の真空度を有する副真空室を真空室（二接続した光フ
ァイバ端面の反射防止膜形成装置を構成する。
防止膜を形成するための真空室（二、この真空室と同程
度の真空度を有する副真空室を真空室（二接続した光フ
ァイバ端面の反射防止膜形成装置を構成する。
上記構成の光ファイバ端面の反射防止膜形成装置は、束
ねた光ファイバを副真空室を介して真空室（二挿入し、
束ねた光ファイバの各端面（二反射防止膜を形成する。
ねた光ファイバを副真空室を介して真空室（二挿入し、
束ねた光ファイバの各端面（二反射防止膜を形成する。
以下、本発明の一実施例を添付図面を参照して詳細（二
説明する。
説明する。
第１図は本発明Ｃ：係る光ファイバ端面の反射防止膜形
成装置の概略図である。なお、第１図（二おいて、第２
図及び第３図と同様の機能を果たす部分口″ついては同
一の符号を付し、その説明は省略する。また、（２）は
ポート、α４は副排気装置、（至）は副真空室、ｒｓは
ファイバホルダである。
成装置の概略図である。なお、第１図（二おいて、第２
図及び第３図と同様の機能を果たす部分口″ついては同
一の符号を付し、その説明は省略する。また、（２）は
ポート、α４は副排気装置、（至）は副真空室、ｒｓは
ファイバホルダである。
この真空蒸着装置は光ファイバ（９）端面（二反射防止
展を形成する真空室Ｃニポートυを介して副真空室が接
続されている。束ねた光ファイバ（９）は副真空室（至
）挿入部分がゴム弾性を有する円筒状のファイバホルダ
ｃｍ ｔ＝挾み込まれ、ボート（至）を介して副真空室
（至）内に導かれ、さらに真空室（１）挿入部分がファ
イバホルダαｍｌ＋＝挾み込まれ、ポート（６）を介し
て真空室（１）内（＝導かれている。従って、少なくと
も真空室（１）内は前述した質の良い真空状態（ニなっ
ている。
展を形成する真空室Ｃニポートυを介して副真空室が接
続されている。束ねた光ファイバ（９）は副真空室（至
）挿入部分がゴム弾性を有する円筒状のファイバホルダ
ｃｍ ｔ＝挾み込まれ、ボート（至）を介して副真空室
（至）内に導かれ、さらに真空室（１）挿入部分がファ
イバホルダαｍｌ＋＝挾み込まれ、ポート（６）を介し
て真空室（１）内（＝導かれている。従って、少なくと
も真空室（１）内は前述した質の良い真空状態（ニなっ
ている。
副真空室（２）は束ねた光ファイバ（９）を真空室（１
）（二導くだけであるので、真空室（１）の容積より小
さくてもよく、副排気装置へ４も設置面積の小さい小排
気量のもので十分である。従って、副排気装置α４は例
えば、直結型油回転ポンプとターボ乃至ポンプとを組合
せたものを使用すれば、非常（ニコンパクト（二できる
。
）（二導くだけであるので、真空室（１）の容積より小
さくてもよく、副排気装置へ４も設置面積の小さい小排
気量のもので十分である。従って、副排気装置α４は例
えば、直結型油回転ポンプとターボ乃至ポンプとを組合
せたものを使用すれば、非常（ニコンパクト（二できる
。
次Ｃ″−１本発明（＝係る光ファイバ端面の反射防止膜
形成装置の全体の動作口ついて説明する。まず、第１図
（＝示すよう（二束ねた光ファイバ（９）を設置し、副
真空室（２）の蓋（図示せず）を閉じ、排気装置（２）
及び副排気装置Ｃ１４を作動し、真空室（υ及び副真空
室（至）の真空排気をする。また、ヒータ（７） ｌ：
より束ねた光ファイバ（９）の端面を加熱する。
形成装置の全体の動作口ついて説明する。まず、第１図
（＝示すよう（二束ねた光ファイバ（９）を設置し、副
真空室（２）の蓋（図示せず）を閉じ、排気装置（２）
及び副排気装置Ｃ１４を作動し、真空室（υ及び副真空
室（至）の真空排気をする。また、ヒータ（７） ｌ：
より束ねた光ファイバ（９）の端面を加熱する。
次いで、真空室（１）の真空度が５ Ｘ １０−″’Ｔ
ｏｒｒ以下（＝達するととも（二、光ファイバ（９）の
端面が所定温度Ｃ二なったときＣ二、真空蒸着を開始す
る。束ねた光ファイバ（９）の各端面（二対する真空蒸
着は、シャッタ（５）を閉じた状態でボート（３）を通
電加熱して、蒸着源（４）の溶融ガス出しを十分（−行
なった後、シャッタ（５）を開くこと（二よって行なう
。なお、蒸着膜厚は光学式膜厚計を使って計測し、蒸着
速度は水晶振動式膜厚計を使って制御する。
ｏｒｒ以下（＝達するととも（二、光ファイバ（９）の
端面が所定温度Ｃ二なったときＣ二、真空蒸着を開始す
る。束ねた光ファイバ（９）の各端面（二対する真空蒸
着は、シャッタ（５）を閉じた状態でボート（３）を通
電加熱して、蒸着源（４）の溶融ガス出しを十分（−行
なった後、シャッタ（５）を開くこと（二よって行なう
。なお、蒸着膜厚は光学式膜厚計を使って計測し、蒸着
速度は水晶振動式膜厚計を使って制御する。
真空蒸着を完了した後、ヒータ（７）（二よる加熱な停
止するととも（＝、真空室（１）及び副真空室四の排気
を停止し、真空室（１）内及び副真空室（至）内（二大
気を戻し、反射防止膜が形成された束ねた光ファイバ（
９）を取り出す。
止するととも（＝、真空室（１）及び副真空室四の排気
を停止し、真空室（１）内及び副真空室（至）内（二大
気を戻し、反射防止膜が形成された束ねた光ファイバ（
９）を取り出す。
なお、本実施例では、副真空室（至）内（二束ねた光フ
ァイバを通すよう（−シたが、ドラム４二巻いた光ファ
イバ（９）を副真空室部内Ｃ：収納しても良い。この場
合、副真空室（至）内の光ファイバ（９）（＝熱が伝わ
る恐れがないので、従来のよう（二元ファイバ（９）を
冷却する必要はない。従って、副真空室四は非常（：簡
単な構成となり、蒸着物の汚れが付着せず、光ファイバ
（９）を清浄な環境（二置くことができる。
ァイバを通すよう（−シたが、ドラム４二巻いた光ファ
イバ（９）を副真空室部内Ｃ：収納しても良い。この場
合、副真空室（至）内の光ファイバ（９）（＝熱が伝わ
る恐れがないので、従来のよう（二元ファイバ（９）を
冷却する必要はない。従って、副真空室四は非常（：簡
単な構成となり、蒸着物の汚れが付着せず、光ファイバ
（９）を清浄な環境（二置くことができる。
これは、副真空室（２）及び副排気装置α４の定期的な
りリーニングの回数を大幅に減少させること（＝なり、
光ファイバ（９）の製造価格の引き下げ嬬ユ寄与する。
りリーニングの回数を大幅に減少させること（＝なり、
光ファイバ（９）の製造価格の引き下げ嬬ユ寄与する。
また、本発明（＝よれば排気装置を２系統運転する事ζ
二なるが、排気装置は互いＣ二関係なく独立して操作で
きるので、自動運転（二よる排気及び真空蒸着を、相互
の動作タイミングを考慮せず（二、比較的簡単（二行な
える。
二なるが、排気装置は互いＣ二関係なく独立して操作で
きるので、自動運転（二よる排気及び真空蒸着を、相互
の動作タイミングを考慮せず（二、比較的簡単（二行な
える。
以上説明したよう！二本発明Ｃ二よれば、束ねた先光フ
ァイバの各端面（二反射防止膜を形成するため（二使用
する真空室（二側真空室を接続し、該副真空室を介して
束ねた光ファイバを真空室（二挿入し、該束ねた光ファ
イバの各端面Ｃ二反射防止膜を形成するよ、うにしたの
で、真空室を真空度５ Ｘ １０”’Ｔｏｒｒ とい
う質の良い真空状態Ｃ二保持することができ、束ねた光
ファイバの端面（二優れた特性を有する反射防止膜が形
成され、歩留りの向上が期待される。
ァイバの各端面（二反射防止膜を形成するため（二使用
する真空室（二側真空室を接続し、該副真空室を介して
束ねた光ファイバを真空室（二挿入し、該束ねた光ファ
イバの各端面Ｃ二反射防止膜を形成するよ、うにしたの
で、真空室を真空度５ Ｘ １０”’Ｔｏｒｒ とい
う質の良い真空状態Ｃ二保持することができ、束ねた光
ファイバの端面（二優れた特性を有する反射防止膜が形
成され、歩留りの向上が期待される。
第１図は本発明（＝係る光ファイバ端面の反射防止膜形
成装置の概略図、第２図及び第６図は光ファイバ端面（
−反射防止膜を形成するため（＝使用する従来の真空蒸
着装置の概略図である。 図（二おいて、１は真空室、２は排気装置、６はボート
、４は蒸着源、５はシャッタ、６は基板ドーム、７は加
熱ヒータ、８はファイバ孔、９は光ファイバ、１１．１
６はファイバホルダ、１２゜１３はボート、１４は副排
気装置、１５は副真空室である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示すもので
ある。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１図 第２図
成装置の概略図、第２図及び第６図は光ファイバ端面（
−反射防止膜を形成するため（＝使用する従来の真空蒸
着装置の概略図である。 図（二おいて、１は真空室、２は排気装置、６はボート
、４は蒸着源、５はシャッタ、６は基板ドーム、７は加
熱ヒータ、８はファイバ孔、９は光ファイバ、１１．１
６はファイバホルダ、１２゜１３はボート、１４は副排
気装置、１５は副真空室である。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示すもので
ある。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 第１図 第２図
Claims (2)
- （１）それぞれ端面が研磨された複数本の光ファイバを
束ね、該束ねた光ファイバの端部を所定の真空度を有す
る真空室内に挿入し、該真空室内で真空蒸着により、前
記束ねた光ファイバの各端面に反射防止膜を形成する光
ファイバ端面の反射防止膜形成装置において、前記真空
室の真空度と同程度に真空度を有し、前記真空室に接続
された副真空室を備え、該副真空室を介して前記束ねた
光ファイバを前記真空室に挿入して、該束ねた光ファイ
バの各端面に反射防止膜を形成することを特徴とする光
ファイバ端面の反射防止膜形成装置。 - （２）束ねた光ファイバは、ゴム弾性を有するファイバ
ホルダに挾み込まれ、前記副真空室及び真空室に挿入さ
れる特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ端面の反射
防止膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60054248A JPS61213804A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 光フアイバ端面の反射防止膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60054248A JPS61213804A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 光フアイバ端面の反射防止膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61213804A true JPS61213804A (ja) | 1986-09-22 |
Family
ID=12965240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60054248A Pending JPS61213804A (ja) | 1985-03-20 | 1985-03-20 | 光フアイバ端面の反射防止膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61213804A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002286937A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ端面への誘電体膜成膜方法と誘電体膜成膜装置 |
-
1985
- 1985-03-20 JP JP60054248A patent/JPS61213804A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002286937A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-03 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ端面への誘電体膜成膜方法と誘電体膜成膜装置 |
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