JPS61207386A - アゼチジノン誘導体および製造法 - Google Patents
アゼチジノン誘導体および製造法Info
- Publication number
- JPS61207386A JPS61207386A JP60049517A JP4951785A JPS61207386A JP S61207386 A JPS61207386 A JP S61207386A JP 60049517 A JP60049517 A JP 60049517A JP 4951785 A JP4951785 A JP 4951785A JP S61207386 A JPS61207386 A JP S61207386A
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はβ−ラクタム系抗生物質の有用な合成中間体お
よびその製造法に関するものである。
よびその製造法に関するものである。
(従来の技術)
最近、4位にカルバモイルオキシメチル基を有スる1−
スルホ−2−アゼチジノン誘導体に優れた抗菌作用があ
ることが見い出された(日本国公開特許公報昭57−1
31758 )。それらのなかでも(3S 、 4S
)−3−42−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
(Z)−2−(カルポキシ〆トキシイミ/)アセタミド
〕−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
−1−スルホン酸(以下、AMA−1080と称する)
は緑膿菌を含むグラム陰性菌に強い抗菌作用を示しかつ
微生物の産生するβ−ラクタマーゼに対して極めて安定
であることが、日本国公開特許公報昭58−18917
6に開示されている。
スルホ−2−アゼチジノン誘導体に優れた抗菌作用があ
ることが見い出された(日本国公開特許公報昭57−1
31758 )。それらのなかでも(3S 、 4S
)−3−42−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
(Z)−2−(カルポキシ〆トキシイミ/)アセタミド
〕−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
−1−スルホン酸(以下、AMA−1080と称する)
は緑膿菌を含むグラム陰性菌に強い抗菌作用を示しかつ
微生物の産生するβ−ラクタマーゼに対して極めて安定
であることが、日本国公開特許公報昭58−18917
6に開示されている。
AMA−1080の合成については多数の特許出願がな
されている(たとえば、日本国公開特許公報昭58−4
6066、同昭59−53465、同昭59−1064
44.同昭59−112986など)。
されている(たとえば、日本国公開特許公報昭58−4
6066、同昭59−53465、同昭59−1064
44.同昭59−112986など)。
(発明が解決しようとする問題点)
AMA−1080はアゼチジノン環の4位にカルバモイ
ルオキシメチル基を有している。このよウナカルバモイ
ルオキシメチル体を合成する方法としては、ヒドロキシ
メチル体にクロロスルホニルイソシアナート、タロロア
セチルイソシアナート、ジクロロホスホリルイソシアナ
ートなどのインシアナート類を反応させたのち必要なら
ば窒素上の置換基を脱離する方法が一般的であった。し
かしながらこれらインシアナート類はいずれも毒性が非
常に強くしかも反応性が極めて高いため、工業化に際し
ては設備面および操作面で障害となっていた。
ルオキシメチル基を有している。このよウナカルバモイ
ルオキシメチル体を合成する方法としては、ヒドロキシ
メチル体にクロロスルホニルイソシアナート、タロロア
セチルイソシアナート、ジクロロホスホリルイソシアナ
ートなどのインシアナート類を反応させたのち必要なら
ば窒素上の置換基を脱離する方法が一般的であった。し
かしながらこれらインシアナート類はいずれも毒性が非
常に強くしかも反応性が極めて高いため、工業化に際し
ては設備面および操作面で障害となっていた。
本発明の発明者らは4位にカルバモイルオキシメチル基
を有する1−スルホ−2−アゼチジノン誘導体の新規で
かつ工業的に有利な製造法の開発を目的として鋭意研究
を重ねた結果、5−オキサ−1,8−ジアザビシクロ[
5,2,0]ノナン−4,9−ジオン誘導体が4−力ル
パモイルオキシメチル−2−アゼチジノン誘導体を合成
するための中間体として極めて有用であること、すなわ
ち5−オキサ−1,3−ジアザビシクロ[5,2,0]
ノナン−4,9−ジオン誘導体を中間体として経由する
とインシアナート類を使用せずに4−カルバモイルオキ
シメチル−2−アゼチジノン誘導体に導くことができる
ことを見出し、これに基づいて本発明を完成した。
を有する1−スルホ−2−アゼチジノン誘導体の新規で
かつ工業的に有利な製造法の開発を目的として鋭意研究
を重ねた結果、5−オキサ−1,8−ジアザビシクロ[
5,2,0]ノナン−4,9−ジオン誘導体が4−力ル
パモイルオキシメチル−2−アゼチジノン誘導体を合成
するための中間体として極めて有用であること、すなわ
ち5−オキサ−1,3−ジアザビシクロ[5,2,0]
ノナン−4,9−ジオン誘導体を中間体として経由する
とインシアナート類を使用せずに4−カルバモイルオキ
シメチル−2−アゼチジノン誘導体に導くことができる
ことを見出し、これに基づいて本発明を完成した。
(問題を解決するための手段)
本発明は、(1)一般式
[式中 R1はアミノ基または保護されたアミノ基を
R2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖をそれぞれ示
す]で表わされる5−オキサ−1,3−ジアザビシクロ
[5,2,0]ノナン−4,9−ジオン誘導体またはそ
の塩、(2)一般式 [式中、R1′は保護されたアミ7基を、R3は水素原
子またはエステル残基を、R2は前記と同意義を示す]
で表わされる化合物またはその塩を、一般式 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされる化合
物またはその塩に変換したのち、クルチフス転位反応つ
いで閉環反応に付し、さらに所望によりアミ7基の保護
基を脱離することを特徴とする、一般式[I]で表わさ
れる5−オキ?−1,3−ジアヂビシク口[5,n。
R2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖をそれぞれ示
す]で表わされる5−オキサ−1,3−ジアザビシクロ
[5,2,0]ノナン−4,9−ジオン誘導体またはそ
の塩、(2)一般式 [式中、R1′は保護されたアミ7基を、R3は水素原
子またはエステル残基を、R2は前記と同意義を示す]
で表わされる化合物またはその塩を、一般式 [式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされる化合
物またはその塩に変換したのち、クルチフス転位反応つ
いで閉環反応に付し、さらに所望によりアミ7基の保護
基を脱離することを特徴とする、一般式[I]で表わさ
れる5−オキ?−1,3−ジアヂビシク口[5,n。
0]ノナン−4,9−ジオン誘導体またはその塩の製造
法、および(3)一般式[I]で表わされる5−オキ丈
−1,3−ジアザビシクロ[5,2゜0]ノナン−4,
9−ジオン誘導体またはその塩を酸加水分解に付し、さ
らに所望により酸化反応に付したのち、さらに所望によ
りアミノ基の保護基を脱離することを特徴とする、一般
式 〔式中、R1は前記と同意義を示す〕で表わされる4−
カルバモイルオキシメチル−アゼチジノン誘導体または
その塩の製造法に関するものである。
法、および(3)一般式[I]で表わされる5−オキ丈
−1,3−ジアザビシクロ[5,2゜0]ノナン−4,
9−ジオン誘導体またはその塩を酸加水分解に付し、さ
らに所望により酸化反応に付したのち、さらに所望によ
りアミノ基の保護基を脱離することを特徴とする、一般
式 〔式中、R1は前記と同意義を示す〕で表わされる4−
カルバモイルオキシメチル−アゼチジノン誘導体または
その塩の製造法に関するものである。
前記の式[I]〜(fflにおいてR1はアミ7基また
は保護されたアミン基を、R1は保護されたアミン基を
示すが、このような保護されたアミノ基における保護基
としては、βーラククムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが適宜に採用され、アリールア
シル基,脂肪族アシル基,アリールスルホニル基,脂肪
族スルホニル基,一般式R’ OCO−〔式中 Reに
ついては後記する〕で示されるオキシカルボニル基、ま
たはそれ以外の基があげられる。これらの保護基にはア
ミノ基の水素原子1個と置換したものとアミノ基の水素
原子2個と置換したものとがあり、後者の場合にはもと
のアミノ基の窒素原子を含んで環を形成するような保護
基も含まれる。上記のアリールアシル基,脂肪族アシル
基,アリールスルホニル基,脂肪族スルホニル基ハ直鎖
状または分枝状の炭素数l〜6のアルキル基(たとえば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル。
は保護されたアミン基を、R1は保護されたアミン基を
示すが、このような保護されたアミノ基における保護基
としては、βーラククムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが適宜に採用され、アリールア
シル基,脂肪族アシル基,アリールスルホニル基,脂肪
族スルホニル基,一般式R’ OCO−〔式中 Reに
ついては後記する〕で示されるオキシカルボニル基、ま
たはそれ以外の基があげられる。これらの保護基にはア
ミノ基の水素原子1個と置換したものとアミノ基の水素
原子2個と置換したものとがあり、後者の場合にはもと
のアミノ基の窒素原子を含んで環を形成するような保護
基も含まれる。上記のアリールアシル基,脂肪族アシル
基,アリールスルホニル基,脂肪族スルホニル基ハ直鎖
状または分枝状の炭素数l〜6のアルキル基(たとえば
メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブ
チル、イソブチル。
sec−ブチル、 tert−ブチル、n−ペンチル。
インペンチル、 tert−アミル、ネオペンチル。
n−ヘキシル、イソヘキシルなど)、直鎖状または分枝
状の炭素数1〜6のアルコキシ基(たとえばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、n−ブト
キシ、インブトキシ、 sec−ブトキシ、 tert
−ブトキシ。
状の炭素数1〜6のアルコキシ基(たとえばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、n−ブト
キシ、インブトキシ、 sec−ブトキシ、 tert
−ブトキシ。
n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ。
n−へキシルオキシ、イソへキシルオキシなど)、置換
シリル基(たとえばトリメチルシリル、トリエチルシリ
ルなど)、炭素数1〜6のアルカノイル基(具体的ては
脂肪族アシル基におけるアルカノイル基として後記する
もの)、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基(タトエ
ハメタンスルホニル,エタンスルホニルなど)、ニトロ
基,シアン基,ハロゲン原子(たとえばフッ素,塩素,
臭素など)などの置換基を有していてもよい。アリール
アシル基は炭素数7〜12のものがよく、たとえば7タ
ロイル、ベンゾイル、4−二トロベンソイル,4−te
rt−ブチルベンゾイル。
シリル基(たとえばトリメチルシリル、トリエチルシリ
ルなど)、炭素数1〜6のアルカノイル基(具体的ては
脂肪族アシル基におけるアルカノイル基として後記する
もの)、炭素数1〜6のアルキルスルホニル基(タトエ
ハメタンスルホニル,エタンスルホニルなど)、ニトロ
基,シアン基,ハロゲン原子(たとえばフッ素,塩素,
臭素など)などの置換基を有していてもよい。アリール
アシル基は炭素数7〜12のものがよく、たとえば7タ
ロイル、ベンゾイル、4−二トロベンソイル,4−te
rt−ブチルベンゾイル。
ナフトイルなどがあげられる。脂肪族アシル基は炭素数
1〜6のものがよく、たとえばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、マレオイ
ル、サクシニルなどがあげられる。アリールスルホニル
基は炭素数6〜11のものがよく、タトえばベンセ°ン
スルホニル, 4 − tert−ブチルベンゼンスル
ホニル、4−tert−プチルベンセ°ンスルホニル,
パラトルエンスルホニルなどがあげられる。脂肪族スル
ホニル基は炭素数1〜6のものがよく、たとえばアルキ
ルスルホニル基の例として前記したものがあげられる。
1〜6のものがよく、たとえばホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、
トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、マレオイ
ル、サクシニルなどがあげられる。アリールスルホニル
基は炭素数6〜11のものがよく、タトえばベンセ°ン
スルホニル, 4 − tert−ブチルベンゼンスル
ホニル、4−tert−プチルベンセ°ンスルホニル,
パラトルエンスルホニルなどがあげられる。脂肪族スル
ホニル基は炭素数1〜6のものがよく、たとえばアルキ
ルスルホニル基の例として前記したものがあげられる。
一般式R’OCO−で示されるオキシカルボニル基のR
oとしては炭素数1〜6のアルキル基(たとえば前記し
たメチル以下ノモの)、炭素数1〜6のアルケニル基(
たとえばアリル、クロチル、3−メチル−3−ブテニル
など)、5〜6員シクロアルキル基(たトエハシクロペ
ンチル、シクロヘキシルなど)、炭素数6〜10のアリ
ール基(たとえばフェニル、ナフチルなど)、炭素数7
〜19のアラルキル基(たとえばベンジル、ベンズヒド
リル、トリチル、ナフチルメチルなど)がよく、これら
はさらに置換基を有していてもよい。したがって、この
ような一般式R’0CO−で示されるオキシカルボニル
基としてはたとえば、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、イングロボキシカルポニル。
oとしては炭素数1〜6のアルキル基(たとえば前記し
たメチル以下ノモの)、炭素数1〜6のアルケニル基(
たとえばアリル、クロチル、3−メチル−3−ブテニル
など)、5〜6員シクロアルキル基(たトエハシクロペ
ンチル、シクロヘキシルなど)、炭素数6〜10のアリ
ール基(たとえばフェニル、ナフチルなど)、炭素数7
〜19のアラルキル基(たとえばベンジル、ベンズヒド
リル、トリチル、ナフチルメチルなど)がよく、これら
はさらに置換基を有していてもよい。したがって、この
ような一般式R’0CO−で示されるオキシカルボニル
基としてはたとえば、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、イングロボキシカルポニル。
tert−ブトキシカルボニル、1.1−ジメチルエチ
ルオキシカルボニル、メトキシメチルオキシカルボニル
、エトキシメチルオキシカルボニル、メチルチオメチル
オキシカルボニル、フェニルチオメチルオキシカルボニ
ル。
ルオキシカルボニル、メトキシメチルオキシカルボニル
、エトキシメチルオキシカルボニル、メチルチオメチル
オキシカルボニル、フェニルチオメチルオキシカルボニ
ル。
2−ヨーFエチルオキシカルボニル、2,2.2− l
−’IJ クロロエチルオキシカルボニルシアノエチル
オキシカルポニル,2−シアノ− 1. l−ジメチル
エチルオキシカルボニル2−) 1) l fルシリル
エチルオキシカルポニル,アセチルメチルオキシカルボ
ニル、アセトキシメチルオキシカルボニル、プロピオニ
ルオキシメチルオキシカルボニル ルオキシメチルオキシカルポニル,フェナシルオキシカ
ルボニル、4−二トロベンソイルメチルオキシカルボニ
ル,4−(メタンスルホニル)ベンゾイルメチルオキシ
カルボニル。
−’IJ クロロエチルオキシカルボニルシアノエチル
オキシカルポニル,2−シアノ− 1. l−ジメチル
エチルオキシカルボニル2−) 1) l fルシリル
エチルオキシカルポニル,アセチルメチルオキシカルボ
ニル、アセトキシメチルオキシカルボニル、プロピオニ
ルオキシメチルオキシカルボニル ルオキシメチルオキシカルポニル,フェナシルオキシカ
ルボニル、4−二トロベンソイルメチルオキシカルボニ
ル,4−(メタンスルホニル)ベンゾイルメチルオキシ
カルボニル。
メタンスルホニルメチルオキシカルボニル2−(メタン
スルホニル ル、ベンゼンスルホニルメチルオキシカルボニル、メチ
ルスルフィニルメチルオキシカルボニル、2−(N,N
−ジメチルアミノ)エチルオキシカルボニル、サクシイ
ミドメチルオキシカルボニル、フタルイミドメチルオキ
シカルボニル、ピリジン−1−オキシド−2−メチルオ
キシカルボニル、ベンジルオキシメチルオキシカルボニ
ル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニルオ
キシカルボニル、3−メチル−3−ブテニルオキシカル
ボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−二トロペンジルオキシ力ルポニル,4−メト
キシベンジルオキシカルボニル,3.5−ジーtert
ーブチルー4ーヒドロキシベンジルオキシ力ルポニル,
ベンズヒドリルオキシカルボニル、ビス(4−/)キシ
フェニル)メチルオキシカルボニル、トリチルオキシカ
ルボニルなどがあげられる。
スルホニル ル、ベンゼンスルホニルメチルオキシカルボニル、メチ
ルスルフィニルメチルオキシカルボニル、2−(N,N
−ジメチルアミノ)エチルオキシカルボニル、サクシイ
ミドメチルオキシカルボニル、フタルイミドメチルオキ
シカルボニル、ピリジン−1−オキシド−2−メチルオ
キシカルボニル、ベンジルオキシメチルオキシカルボニ
ル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニルオ
キシカルボニル、3−メチル−3−ブテニルオキシカル
ボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−二トロペンジルオキシ力ルポニル,4−メト
キシベンジルオキシカルボニル,3.5−ジーtert
ーブチルー4ーヒドロキシベンジルオキシ力ルポニル,
ベンズヒドリルオキシカルボニル、ビス(4−/)キシ
フェニル)メチルオキシカルボニル、トリチルオキシカ
ルボニルなどがあげられる。
上記以外のアミノ基の保護基としてはたとえば、ter
t−ブチル、ベンジル、4−二トロベンジル,ベンズヒ
ドリル、トリチル、2−二トロフェニルチオ,ペン’;
+Jテン、 4−二)ロベンジリデン, R’OCO
CH = C(CH3)−、アミ保護されたアミノ基を
形成する基などのほかたとえば、R7 R8 R9 5
1−、ジ( R’R8R’ S+ ) +−Si (
R’ R8) X Si ( R’R” )−などの
置換シリル基などもあげられる。ここでR5 、 R7
、 R8 、 R9RIGはいずれも炭素数1〜6の
アルキル基(たとえば前記したメチル以下のもの)もし
くは炭素数6〜10のアリール基(たとえば前記したフ
ェニル、ナフチルなど)を表わし、R7, R8, R
9, RIGはそれぞれ同一でもまた異なっていてもよ
い。R6は炭素数6〜lOのアリール基(たとえば前記
したフェニル、す7チルなど)表わす。またXはたとえ
ば、メチレン、エチレンなどの炭素数1〜3のアルキレ
ン基を表わす。
t−ブチル、ベンジル、4−二トロベンジル,ベンズヒ
ドリル、トリチル、2−二トロフェニルチオ,ペン’;
+Jテン、 4−二)ロベンジリデン, R’OCO
CH = C(CH3)−、アミ保護されたアミノ基を
形成する基などのほかたとえば、R7 R8 R9 5
1−、ジ( R’R8R’ S+ ) +−Si (
R’ R8) X Si ( R’R” )−などの
置換シリル基などもあげられる。ここでR5 、 R7
、 R8 、 R9RIGはいずれも炭素数1〜6の
アルキル基(たとえば前記したメチル以下のもの)もし
くは炭素数6〜10のアリール基(たとえば前記したフ
ェニル、ナフチルなど)を表わし、R7, R8, R
9, RIGはそれぞれ同一でもまた異なっていてもよ
い。R6は炭素数6〜lOのアリール基(たとえば前記
したフェニル、す7チルなど)表わす。またXはたとえ
ば、メチレン、エチレンなどの炭素数1〜3のアルキレ
ン基を表わす。
本発明において保護されたアミノ基(R’JR”)とし
てはフタルイミド、ベンジルオキシカルボニルアミノが
最も好ましい。
てはフタルイミド、ベンジルオキシカルボニルアミノが
最も好ましい。
前記の式[I] 、 [II]および[I[[]におい
てR2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖を表わすが
、α−アミノ酸の側鎖は一般式R2CH(NH2)CO
OHで表わされる光学活性α−アミノ酸の側鎖R2であ
る。一般式R2CH(NH2)Cα上で表わされる光学
活性アミノ酸としてはたとえば、D−アスパラギン酸。
てR2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖を表わすが
、α−アミノ酸の側鎖は一般式R2CH(NH2)CO
OHで表わされる光学活性α−アミノ酸の側鎖R2であ
る。一般式R2CH(NH2)Cα上で表わされる光学
活性アミノ酸としてはたとえば、D−アスパラギン酸。
L−アスパラギン酸、D−アスパラギン、L−アスパラ
ギン、D−グルタミン酸、L−グルタミン酸、D−グル
タミン、L−グルタミン、D−アラニン、L−アラニン
、D−アルギニン。
ギン、D−グルタミン酸、L−グルタミン酸、D−グル
タミン、L−グルタミン、D−アラニン、L−アラニン
、D−アルギニン。
L−アルギニン、D−シスタチオニン、L−シスタチオ
ニン、D−シスチン、L−シスチン。
ニン、D−シスチン、L−シスチン。
D−ヒスチジン、L−ヒスチジン、D−ホモセリン、L
−ホモセリン、D−インロイシン、L−インロイシン、
D−ラシチオニン、L−ランチオニン、D−ロイシン、
L−ロイシン、D−リシン、L−リシン、D−メチオニ
ン、L−メチオニン、D−ノルロイシン、L−ノルロイ
シン、D−フルバリン、L−ノルバリン、D−オルニチ
ン、L−オルニチン、D−セリン、L−セリン、D−ル
オニン、L−トレオニン、D−チロシン、L−チロシン
、D−fロニン、I。
−ホモセリン、D−インロイシン、L−インロイシン、
D−ラシチオニン、L−ランチオニン、D−ロイシン、
L−ロイシン、D−リシン、L−リシン、D−メチオニ
ン、L−メチオニン、D−ノルロイシン、L−ノルロイ
シン、D−フルバリン、L−ノルバリン、D−オルニチ
ン、L−オルニチン、D−セリン、L−セリン、D−ル
オニン、L−トレオニン、D−チロシン、L−チロシン
、D−fロニン、I。
−チロニン、D−バリン、L−バリン、D−フェニルグ
リシン、L−フェニルグリシン、D−フェニルアラニン
、L−フェニルアラニンナトがあげられる。
リシン、L−フェニルグリシン、D−フェニルアラニン
、L−フェニルアラニンナトがあげられる。
上記のα−アミノ酸の側鎖(R2)中にカルボキシル基
、アミ7基、水酸基、メルカプト基などの官能基が存在
する場合は、該官能基は遊離の状態でもよいが、適当な
基で置換または保護されていてもよい。たとえば側鎖R
2中のカルボキシル基はその水素原子が置換されてエス
テル基を形成していてもよ−い。このようなエステル基
は前記した一般式R00CO−で示されるオキシカルボ
ニル基がここでもそのままあげられる。
、アミ7基、水酸基、メルカプト基などの官能基が存在
する場合は、該官能基は遊離の状態でもよいが、適当な
基で置換または保護されていてもよい。たとえば側鎖R
2中のカルボキシル基はその水素原子が置換されてエス
テル基を形成していてもよ−い。このようなエステル基
は前記した一般式R00CO−で示されるオキシカルボ
ニル基がここでもそのままあげられる。
したがってこのようなエステルを形成する置換基として
はRoとして前記した炭素数1〜6のアルキル基、炭素
数1〜6のアルケニル基、5〜6員シクロアルキル基、
炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜19のアラル
キル基およびそれらが置換基を有したものがここでもあ
げられる。ここでのRoを具体的にあげるとたとえば、
メチル、エチル、イソプロピル、 tert−ブチル。
はRoとして前記した炭素数1〜6のアルキル基、炭素
数1〜6のアルケニル基、5〜6員シクロアルキル基、
炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜19のアラル
キル基およびそれらが置換基を有したものがここでもあ
げられる。ここでのRoを具体的にあげるとたとえば、
メチル、エチル、イソプロピル、 tert−ブチル。
1.1−ジメチルグロビル、メトキシメチル、エトキシ
メチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル、2−
ヨードエチル、2,2,2−)リクロロエチル、2−シ
アノエチル、2−シアノ−1、1−ジメチルエチル、2
−トリメチルシリルエチル、アセチルメチル、アセトキ
シメチル。
メチル、メチルチオメチル、フェニルチオメチル、2−
ヨードエチル、2,2,2−)リクロロエチル、2−シ
アノエチル、2−シアノ−1、1−ジメチルエチル、2
−トリメチルシリルエチル、アセチルメチル、アセトキ
シメチル。
プロピオニルオキシメチル、ピバロイルオキシメチル、
フェナシル、4−ニトロベンツイルメチル、4−(メタ
ンスルホニル)ペンツイルメチル、メタンスルホニルメ
チル、2−(〆クンスルホニル)エチル、ベンセ°ンス
ルホニルメチル、メチルスルフィニルメチル、2−(N
、N−ジメチルアミノ)エチル、サクシイミドメチル、
7タルイミドメチル、ピリジン−1−オキシド−2−メ
チル、ベンジルオキシメチル、シクロヘキシル、ノルボ
ニル、3−メチル−3−ブテニル、フェニル、ベンジル
、4−二トロベンジル、4−メトキシベンジル、3.5
−ジーtert−フチルー4−ヒドロキシベンジル、ベ
ンズヒドリル、ビス(4−メトキシフェニル)メチル。
フェナシル、4−ニトロベンツイルメチル、4−(メタ
ンスルホニル)ペンツイルメチル、メタンスルホニルメ
チル、2−(〆クンスルホニル)エチル、ベンセ°ンス
ルホニルメチル、メチルスルフィニルメチル、2−(N
、N−ジメチルアミノ)エチル、サクシイミドメチル、
7タルイミドメチル、ピリジン−1−オキシド−2−メ
チル、ベンジルオキシメチル、シクロヘキシル、ノルボ
ニル、3−メチル−3−ブテニル、フェニル、ベンジル
、4−二トロベンジル、4−メトキシベンジル、3.5
−ジーtert−フチルー4−ヒドロキシベンジル、ベ
ンズヒドリル、ビス(4−メトキシフェニル)メチル。
トリチルなどの基のほか、一般式R7R8R’ Si
−で表わされるシリル基(ここでR7,R8,R9はそ
れぞれ前記々同意義を表わす。たとえばトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、 tert−ブチルジメチルシ
リル、 tert−ブチルジフェニルシリルなど)など
があげられる。またカルボキシル基は上記のエステル以
外の他の基に導くことによって保護してもよい。そのよ
うなエステル以外の基としては酸アミドを形成している
ものがあげられる。このような酸アミドは置換基を有し
ない−CONH2の形のものと、NH2の水素原子が置
換されたものと金含む。すなわちN−モノ置換アミド、
N、N−ジ置換アミドでもよい。
−で表わされるシリル基(ここでR7,R8,R9はそ
れぞれ前記々同意義を表わす。たとえばトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、 tert−ブチルジメチルシ
リル、 tert−ブチルジフェニルシリルなど)など
があげられる。またカルボキシル基は上記のエステル以
外の他の基に導くことによって保護してもよい。そのよ
うなエステル以外の基としては酸アミドを形成している
ものがあげられる。このような酸アミドは置換基を有し
ない−CONH2の形のものと、NH2の水素原子が置
換されたものと金含む。すなわちN−モノ置換アミド、
N、N−ジ置換アミドでもよい。
ジ置換アミドとしては環状アミンとのアミドであっても
よい。置換アミドの置換基としては炭素数1〜6のアル
キル基、炭素数6〜lOのアリール基、5〜6員のシク
ロアルキル基などがよく、具体的にはアルキル基(たと
えば前記したメチル以下のもの)、アリール基(たとえ
ばフェニル、ナフチルなト)、シクロアルキル基(たと
えばシクロペンチル、シクロヘキシルなど)(!:して
前記したものが用いられる。モノ置換アミドとし7ては
たとえばN−メチルアミド。
よい。置換アミドの置換基としては炭素数1〜6のアル
キル基、炭素数6〜lOのアリール基、5〜6員のシク
ロアルキル基などがよく、具体的にはアルキル基(たと
えば前記したメチル以下のもの)、アリール基(たとえ
ばフェニル、ナフチルなト)、シクロアルキル基(たと
えばシクロペンチル、シクロヘキシルなど)(!:して
前記したものが用いられる。モノ置換アミドとし7ては
たとえばN−メチルアミド。
N−エチルアミド、N−フェニルアミドなどがあげられ
る。ジ置換アミドとしてはたとえばN。
る。ジ置換アミドとしてはたとえばN。
N−ジメチルアミド、N、N−ジエチルアミド。
N−エチル−N−メチルアミド、N−メチル−N−フェ
ニルアミドなどがあげられる。環状アミンとのアミドに
おける環状アミンとしては5〜7員の環状第二級アミン
、またはさらに縮合環を有するものがあげられる。環状
アミンとのアミドとしては具体的には、ピロリジンアミ
ド。
ニルアミドなどがあげられる。環状アミンとのアミドに
おける環状アミンとしては5〜7員の環状第二級アミン
、またはさらに縮合環を有するものがあげられる。環状
アミンとのアミドとしては具体的には、ピロリジンアミ
ド。
ピペリジンアミド、モルフォリンアミド Nl−メチル
ビペラジンアミド、5.6−シヒドロフエナンスレンア
ミドなどがあげられる。α−アミノ酸の側鎖(R2)中
のカルボキシル基を上記のエステル、酸アミドに誘導す
る場合には公知の方法が採用される。前記のα−アミノ
酸の側鎖R2中にアミノ基がある場合はそのアミノ基は
つぎのような基で置換または保護されてもよい。アミ7
基の置換基としてはアルキル基、シクロアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基などかあげられる(ここでアル
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基
はそれぞれのRoとして前記した炭素数1〜6のアルキ
ル基、5〜6員シクロアルキル基、炭素数7〜19のア
ラルキル基、炭素数6〜10のアリール基と同意義を表
わす)。アミン基はこのような置換基と共に、たとえば
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノなど
の環状アミ7基を形成していてもよい。アミ7基の保護
基としてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられる前記のものがあげられる。化合物[
I] 、 [nl 、 Cu1lおよび〔■〕は塩を形
成していてもよい。すなわちα−アミノ酸の側鎖R2中
にカルボキシル基、スルホ基などの酸性基が存在する場
合は塩基との塩を形成していてもよい。
ビペラジンアミド、5.6−シヒドロフエナンスレンア
ミドなどがあげられる。α−アミノ酸の側鎖(R2)中
のカルボキシル基を上記のエステル、酸アミドに誘導す
る場合には公知の方法が採用される。前記のα−アミノ
酸の側鎖R2中にアミノ基がある場合はそのアミノ基は
つぎのような基で置換または保護されてもよい。アミ7
基の置換基としてはアルキル基、シクロアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基などかあげられる(ここでアル
キル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基
はそれぞれのRoとして前記した炭素数1〜6のアルキ
ル基、5〜6員シクロアルキル基、炭素数7〜19のア
ラルキル基、炭素数6〜10のアリール基と同意義を表
わす)。アミン基はこのような置換基と共に、たとえば
ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノなど
の環状アミ7基を形成していてもよい。アミ7基の保護
基としてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられる前記のものがあげられる。化合物[
I] 、 [nl 、 Cu1lおよび〔■〕は塩を形
成していてもよい。すなわちα−アミノ酸の側鎖R2中
にカルボキシル基、スルホ基などの酸性基が存在する場
合は塩基との塩を形成していてもよい。
このような塩基との塩としてはアルカリ金属塩(たとえ
ばナトリクム塩、カリクム塩など)。
ばナトリクム塩、カリクム塩など)。
アルカリ土類金属塩(たとえばカルシタム塩。
マグネシウム塩など)などの無機塩基塩、および有機塩
基塩(たとえばトリエチルアミン塩。
基塩(たとえばトリエチルアミン塩。
ジイソプロピルエチルアミン塩、トリブチルアミン塩、
ピリジン塩、ピコリン塩、ルチジン塩などがあげられる
。化合物〔■〕においてR3が水素原子の場合、それら
のカルボキシル基が上記のような塩基との塩を形成して
いてもよい。α−アミノ酸の側鎖R2中にアミ7基など
の塩基性基が存在する場合は酸付加塩を形成していても
よい。このような酸付加塩としては無機酸付加塩(たと
えば塩酸塩、a酸塩など)、および有機酸付加塩(たと
えばギ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、シュク酸塩、パラト
ルエンスルホン酸塩など)などがあげられる。また化合
物[I]、[N)においてR1がアミノ基の場合、この
アミン基が上記のような酸付加塩を形成していてもよい
。
ピリジン塩、ピコリン塩、ルチジン塩などがあげられる
。化合物〔■〕においてR3が水素原子の場合、それら
のカルボキシル基が上記のような塩基との塩を形成して
いてもよい。α−アミノ酸の側鎖R2中にアミ7基など
の塩基性基が存在する場合は酸付加塩を形成していても
よい。このような酸付加塩としては無機酸付加塩(たと
えば塩酸塩、a酸塩など)、および有機酸付加塩(たと
えばギ酸塩、トリフルオロ酢酸塩、シュク酸塩、パラト
ルエンスルホン酸塩など)などがあげられる。また化合
物[I]、[N)においてR1がアミノ基の場合、この
アミン基が上記のような酸付加塩を形成していてもよい
。
これらの塩は常法により容易に製造できる。さらに水酸
基およびメルカプト基の保護基としては、β−ラクタム
および有機化学の分野で通常水酸基およびメルカプト基
の保護基として使用し得るものはすべて利用できる。こ
れらの水酸基、メルカプト基の保護基としては、保護さ
れたアミノ基R1として前記したアリールアシル基。
基およびメルカプト基の保護基としては、β−ラクタム
および有機化学の分野で通常水酸基およびメルカプト基
の保護基として使用し得るものはすべて利用できる。こ
れらの水酸基、メルカプト基の保護基としては、保護さ
れたアミノ基R1として前記したアリールアシル基。
脂肪族アシル基、アリールスルホニル基、脂肪族スルホ
ニル基、一般式R’ 0CO−で示されるオキシカルボ
ニル基などのほか、たとえばtert−ブチル、ベンジ
ル、4−二トロベンジル、ベンズヒドリル9トリチル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、2−メトキシエト
キシメチルなどの置換されたアルキル基、たとえばトリ
メチルシリル、トリエチルシリル、 tert−ブチル
ジメチルシリル、 tert−ブチルジフェニルシリル
などの一般式R7R8R9Si −(ここでR7,R8
,R9は前記と同意義を表わす)で示されるシリル基。
ニル基、一般式R’ 0CO−で示されるオキシカルボ
ニル基などのほか、たとえばtert−ブチル、ベンジ
ル、4−二トロベンジル、ベンズヒドリル9トリチル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、2−メトキシエト
キシメチルなどの置換されたアルキル基、たとえばトリ
メチルシリル、トリエチルシリル、 tert−ブチル
ジメチルシリル、 tert−ブチルジフェニルシリル
などの一般式R7R8R9Si −(ここでR7,R8
,R9は前記と同意義を表わす)で示されるシリル基。
たとえば2−テトラヒドロピラニル、4−メトキシ−4
−テトラヒドロピラニルなどのピラニル基などがあげら
れる。上記のカルボキシル基。
−テトラヒドロピラニルなどのピラニル基などがあげら
れる。上記のカルボキシル基。
アミノ基、水酸基、メルカプト基などの保護基の選択は
本発明においては特に限定されるものではない。
本発明においては特に限定されるものではない。
前記の式[nlにおいてR3で示されるエステル残基と
しては、α−アミノ酸の側鎖R2中にカルボキ/ル基が
存在する場合の置換されたエステル基として前記したも
のがここでもその捷まあけられる。
しては、α−アミノ酸の側鎖R2中にカルボキ/ル基が
存在する場合の置換されたエステル基として前記したも
のがここでもその捷まあけられる。
本願中の化合物CI3〜[lV]は分子内に2個ないし
3個の不斉炭素(置換基R1〜R3およびR1′に不斉
炭素がある場合は分子内の不斉炭素の故は2〜3個にと
どまらない)があるため、4個以上の立体異性体が存在
し得るが、これらの各立体異性体およびこれらの混合物
も本発明て含まれる。これらの異性体が混在する場合に
は所望により種々のクロマトグラフィー、再結晶などの
常法によりそれぞれの異性体を単離することもできる。
3個の不斉炭素(置換基R1〜R3およびR1′に不斉
炭素がある場合は分子内の不斉炭素の故は2〜3個にと
どまらない)があるため、4個以上の立体異性体が存在
し得るが、これらの各立体異性体およびこれらの混合物
も本発明て含まれる。これらの異性体が混在する場合に
は所望により種々のクロマトグラフィー、再結晶などの
常法によりそれぞれの異性体を単離することもできる。
本発明の化合物〔■〕および〔■〕は次の反応式に従っ
て製造することができる。
て製造することができる。
上記の反応式中、R1−R3およびR1′は前記と同叡
義を示し、化合物[V] 、 [VT]および〔■〕も
化合物[I]〜〔■〕と同様に塩を形成しているものを
含む。これらの塩については化合物[I]〜[lV]の
塩として前記したものがここでもあてはめられる。記号
R11およびR”M前記のα−アミノ酸の側鎖(R2)
のα位の炭素原子上に少くとも1個の水素原子が存在す
る場合にこのような側鎖(R2)を一般式−CH4:;
で表わしたときのR11およのとをそれぞれ示す。すな
わち前記したα−アミノe R2CH(NH2)COO
H’kH:z〉CH−CH(NH2)COOH、!:
表わすことのできる場合のR15よびR12にほかなら
ない。たとえば該α−アミノ酸がフェニルアラニンの場
合はR” =C6H5,R12=Hで表わされ、また該
α−アミノ酸がバリンの場合はR11= R12=CH
3で表わされる。以下に上記の各工程を詳しく説明する
。
義を示し、化合物[V] 、 [VT]および〔■〕も
化合物[I]〜〔■〕と同様に塩を形成しているものを
含む。これらの塩については化合物[I]〜[lV]の
塩として前記したものがここでもあてはめられる。記号
R11およびR”M前記のα−アミノ酸の側鎖(R2)
のα位の炭素原子上に少くとも1個の水素原子が存在す
る場合にこのような側鎖(R2)を一般式−CH4:;
で表わしたときのR11およのとをそれぞれ示す。すな
わち前記したα−アミノe R2CH(NH2)COO
H’kH:z〉CH−CH(NH2)COOH、!:
表わすことのできる場合のR15よびR12にほかなら
ない。たとえば該α−アミノ酸がフェニルアラニンの場
合はR” =C6H5,R12=Hで表わされ、また該
α−アミノ酸がバリンの場合はR11= R12=CH
3で表わされる。以下に上記の各工程を詳しく説明する
。
第一工程は化合物[■]またはその塩にヒドラジン試薬
を反応させて酸ヒドラジッド化合物[V]またはその塩
を得る工程である。化合物[11]においてR3がエス
テル残基の場合は化合物[11]まだはその塩とヒドラ
ジン試薬とを溶媒中、約θ℃ないし約120℃(好まし
くは約0℃ないし約80℃)で反応させることにより化
合物[V]またはその塩を製造することができる。ヒド
ラジン試薬としては無水ヒドラジンあるいは抱水ヒドラ
ジンなどが繁用され、反応時間は通常、約5分間ないし
数日間(好ましくは約10時間ないし約20時間)であ
る。ヒドラジン試薬の使用量は通常、化合物〔■〕また
はその塩に対して当量ないし5当量(好ましくは当量な
いし3当量)である。溶媒としてはたとえば、メタノー
ル、エタノール、ブタノールなどのアルコール類やテト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類などがあ
げられる。上記の溶媒は単独で用いてもよいし、また混
合溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は化合物〔■
〕またはその塩1部(以下、部は重量部を示す)に対し
て通常5部ないし100部がよい。化合物[[1]にお
いてR3が水素原子の場合は通常、溶媒中で化合物[■
]またはその塩とヒドラジン試薬とをジシクロヘキシル
カルボジイミドなどの縮合試薬の存在下に反応させるこ
とにより化合物[V]またはその塩?製造する。ヒドラ
ジン試薬の使用量は化合物[旧またはその塩に対して当
量ないし5当量(好ましくは当量ないし3当量)である
。
を反応させて酸ヒドラジッド化合物[V]またはその塩
を得る工程である。化合物[11]においてR3がエス
テル残基の場合は化合物[11]まだはその塩とヒドラ
ジン試薬とを溶媒中、約θ℃ないし約120℃(好まし
くは約0℃ないし約80℃)で反応させることにより化
合物[V]またはその塩を製造することができる。ヒド
ラジン試薬としては無水ヒドラジンあるいは抱水ヒドラ
ジンなどが繁用され、反応時間は通常、約5分間ないし
数日間(好ましくは約10時間ないし約20時間)であ
る。ヒドラジン試薬の使用量は通常、化合物〔■〕また
はその塩に対して当量ないし5当量(好ましくは当量な
いし3当量)である。溶媒としてはたとえば、メタノー
ル、エタノール、ブタノールなどのアルコール類やテト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類などがあ
げられる。上記の溶媒は単独で用いてもよいし、また混
合溶媒として用いてもよい。溶媒の使用量は化合物〔■
〕またはその塩1部(以下、部は重量部を示す)に対し
て通常5部ないし100部がよい。化合物[[1]にお
いてR3が水素原子の場合は通常、溶媒中で化合物[■
]またはその塩とヒドラジン試薬とをジシクロヘキシル
カルボジイミドなどの縮合試薬の存在下に反応させるこ
とにより化合物[V]またはその塩?製造する。ヒドラ
ジン試薬の使用量は化合物[旧またはその塩に対して当
量ないし5当量(好ましくは当量ないし3当量)である
。
縮合試薬の量は特に限定されないが、化合物〔■]また
はその塩に対して通常0.5当量ないし3当量(好まし
くは当量ないし1,5当量)である。この反応において
は1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ
スクシンイミド。
はその塩に対して通常0.5当量ないし3当量(好まし
くは当量ないし1,5当量)である。この反応において
は1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N−ヒドロキシ
スクシンイミド。
ペンタクロロフェノールなどの試薬を化合物[11]ま
たはその塩に対して通常0.5当量々いし20当量(好
ましくは当量ないし5当量)添加すると反応が有利に進
行する場合がある。用い−られる溶媒としてはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、 tert
−ブタノールなどのアルコール類などのほか、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリルなどがあげられ、これら
が単独あるいは混合溶媒として用いられる。
たはその塩に対して通常0.5当量々いし20当量(好
ましくは当量ないし5当量)添加すると反応が有利に進
行する場合がある。用い−られる溶媒としてはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、 tert
−ブタノールなどのアルコール類などのほか、ジメチル
ホルムアミド、アセトニトリルなどがあげられ、これら
が単独あるいは混合溶媒として用いられる。
溶媒の量は化合物団〕またはその塩1部に対して通常5
部ないし100部がよい。反応温度は約10℃ないし約
50℃(好ましくは約o ’cないし約30°C)であ
り、反応時間は通常、約10分間ないし約20時間(好
ましくは約20分間ないし約5時間)である。化合物〔
■〕においてR3がエステル残基の場合、いったん加水
分解反応を行なってR3を水素原子に変換してからヒド
ラジン試薬と反応させてもよい。この場合のエステルの
加水分解は通常のカルボン酸エステルの加水分解反応す
なわち酸加水分解もしくは塩基存在下の加水分解をその
ままあてはめることができる。加水分解に用いられる試
薬は3位の置換基(R”)のアミン保護基の種類などを
考慮して適宜に選ばれる。酸加水分解に用いられる酸と
してはたとえば、塩酸、硫酸などの無機酸が、塩基存在
下の加水分解に用いられる塩基としてはたとえば、水酸
化ナトリクム、水酸化カリクム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基があげられ、水中もしくは水と混合しうる有機
溶媒(たとえばメタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、アセトンなどのケトン類などのほかジメチルスル
ホキシドなど)と水との混合溶媒中で行なわれる。溶媒
の使用量は化合物〔■〕またはその塩1部に対して通常
5部ないし100部がよい。酸または塩基の量はエステ
ル化合物[11]に対して当量ないしlO当量(好まし
くは当量ないし5当量)がよい。反応は通常は加温下に
行なわれ、約30℃ないし約100℃が好ましい。反応
時間は通常、約10分間ないし約20時間(好ましくは
約10分間ないし約5時間)である。
部ないし100部がよい。反応温度は約10℃ないし約
50℃(好ましくは約o ’cないし約30°C)であ
り、反応時間は通常、約10分間ないし約20時間(好
ましくは約20分間ないし約5時間)である。化合物〔
■〕においてR3がエステル残基の場合、いったん加水
分解反応を行なってR3を水素原子に変換してからヒド
ラジン試薬と反応させてもよい。この場合のエステルの
加水分解は通常のカルボン酸エステルの加水分解反応す
なわち酸加水分解もしくは塩基存在下の加水分解をその
ままあてはめることができる。加水分解に用いられる試
薬は3位の置換基(R”)のアミン保護基の種類などを
考慮して適宜に選ばれる。酸加水分解に用いられる酸と
してはたとえば、塩酸、硫酸などの無機酸が、塩基存在
下の加水分解に用いられる塩基としてはたとえば、水酸
化ナトリクム、水酸化カリクム、炭酸ナトリウムなどの
無機塩基があげられ、水中もしくは水と混合しうる有機
溶媒(たとえばメタノール、エタノールなどのアルコー
ル類、アセトンなどのケトン類などのほかジメチルスル
ホキシドなど)と水との混合溶媒中で行なわれる。溶媒
の使用量は化合物〔■〕またはその塩1部に対して通常
5部ないし100部がよい。酸または塩基の量はエステ
ル化合物[11]に対して当量ないしlO当量(好まし
くは当量ないし5当量)がよい。反応は通常は加温下に
行なわれ、約30℃ないし約100℃が好ましい。反応
時間は通常、約10分間ないし約20時間(好ましくは
約10分間ないし約5時間)である。
第2工程は化合物[V]またはその塩のヒドラジッド基
をたとえば亜硝酸のような酸化剤で処理して酸アジド基
に変換し、酸アジド化合物[I[[]またはその塩を製
造する工程である。亜硝酸は冷却下に亜硝酸塩(たとえ
ば亜硝酸ナトリクム、亜硝酸カリクムなど)を塩酸、硫
酸、硝酸などの無機酸もしくは酢酸などの有機酸を加え
ることにより得られる。したがって本工程はたとえば化
合物〔v〕またはその塩を水とまざり合わない有機溶媒
に溶解または懸濁させておき、冷却攪拌下に少過利ない
し過剰量(好ましくは1.5ないし20当量)の上記の
酸を含む水溶液を加え、さらに当量ないし少過!PIJ
(好ましくは当量ないし1.2当量)の上記の亜硝酸塩
を含む水溶液を加えることによって行なわれる。冷却温
度は0℃付近が好ましく、反応時間は約1分間ないし約
1時間(好ましくは約1分間ないし約80分間)である
。溶媒としてはジエチルエーテルなどのエーテル類のほ
か、ジクロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロ
エタンナトのハロゲン化アルキルが用いられる。溶媒の
使用量は化合物[73またはその塩1部に対して通常5
部ないし100部がよい。
をたとえば亜硝酸のような酸化剤で処理して酸アジド基
に変換し、酸アジド化合物[I[[]またはその塩を製
造する工程である。亜硝酸は冷却下に亜硝酸塩(たとえ
ば亜硝酸ナトリクム、亜硝酸カリクムなど)を塩酸、硫
酸、硝酸などの無機酸もしくは酢酸などの有機酸を加え
ることにより得られる。したがって本工程はたとえば化
合物〔v〕またはその塩を水とまざり合わない有機溶媒
に溶解または懸濁させておき、冷却攪拌下に少過利ない
し過剰量(好ましくは1.5ないし20当量)の上記の
酸を含む水溶液を加え、さらに当量ないし少過!PIJ
(好ましくは当量ないし1.2当量)の上記の亜硝酸塩
を含む水溶液を加えることによって行なわれる。冷却温
度は0℃付近が好ましく、反応時間は約1分間ないし約
1時間(好ましくは約1分間ないし約80分間)である
。溶媒としてはジエチルエーテルなどのエーテル類のほ
か、ジクロロメタン、クロロホルム、1.2−ジクロロ
エタンナトのハロゲン化アルキルが用いられる。溶媒の
使用量は化合物[73またはその塩1部に対して通常5
部ないし100部がよい。
第2′工程は化合物[11]中のR3が水素原子の場合
、当該カルボキシル基を反応性誘導体に導いたのち、酸
アジド基に変換して酸アジド化合物[1111またはそ
の塩を製造する工程である。カルボキシル基の反応性誘
導体としては、酸ハライド(たとえば酸クロリド、酸プ
ロミドなど)および酸無水物などが用いられる。これら
の反応性誘導体は常法に従って調製することができる。
、当該カルボキシル基を反応性誘導体に導いたのち、酸
アジド基に変換して酸アジド化合物[1111またはそ
の塩を製造する工程である。カルボキシル基の反応性誘
導体としては、酸ハライド(たとえば酸クロリド、酸プ
ロミドなど)および酸無水物などが用いられる。これら
の反応性誘導体は常法に従って調製することができる。
酸無水物としては通常の対称型酸無水物のほかたとえば
、モノアルキル炭酸混合酸無水物(たとえばモノエチル
炭酸混合酸無水物など)、脂肪族カルボン酸混合酸無水
物(たとえば酢酸。
、モノアルキル炭酸混合酸無水物(たとえばモノエチル
炭酸混合酸無水物など)、脂肪族カルボン酸混合酸無水
物(たとえば酢酸。
ビパル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロロ酢酸などと
の混合酸無水物)、芳香族カルホン酸混合酸無水物(た
とえば安息香酸などとの混合酸無水物)などの混合酸無
水物などが用いられる。化合物[11](R3=水素原
子)の反応性誘導体を溶媒中、当量ないし過剰量(好ま
しくは当量ないし5当量)のアジ化化合物と反応させて
化合物(I[I]またはその塩を製造する。アジ化化合
物としてはたとえば、アジ化ナトリクム、アジ化すチク
ム、アジ化アンモニクムなどが用いられる。溶媒として
は、ベンゼン、トルエン。
の混合酸無水物)、芳香族カルホン酸混合酸無水物(た
とえば安息香酸などとの混合酸無水物)などの混合酸無
水物などが用いられる。化合物[11](R3=水素原
子)の反応性誘導体を溶媒中、当量ないし過剰量(好ま
しくは当量ないし5当量)のアジ化化合物と反応させて
化合物(I[I]またはその塩を製造する。アジ化化合
物としてはたとえば、アジ化ナトリクム、アジ化すチク
ム、アジ化アンモニクムなどが用いられる。溶媒として
は、ベンゼン、トルエン。
キシレン、ニトロベンゼン、ピリジン、ジエチルエーテ
ル、酢酸、アセトン、メタノール、エタノール、ジオキ
サンなどが用いられる。溶媒の使用量は化合物[11)
の反応性誘導体1部に対して通常5部ないし100部が
よい。本反応は無水の条件下で行なってもよくあるいは
水の存在下で行なってもよい。反応温度は約10°Cな
いし約120°C(好ましくは約10℃ないし約80°
C)であり、反応時間は約10分間ないし約20時間(
好ましくは約30分間ないし約5時間)である。
ル、酢酸、アセトン、メタノール、エタノール、ジオキ
サンなどが用いられる。溶媒の使用量は化合物[11)
の反応性誘導体1部に対して通常5部ないし100部が
よい。本反応は無水の条件下で行なってもよくあるいは
水の存在下で行なってもよい。反応温度は約10°Cな
いし約120°C(好ましくは約10℃ないし約80°
C)であり、反応時間は約10分間ないし約20時間(
好ましくは約30分間ないし約5時間)である。
第3工程は酸アジド化合物[I[]またはその塩の酸ア
ジド基をインシアナート基に変換し、インシアナート化
合物[Vllまたはその塩を製造する工程である。本工
程は化合物[111]またはその塩をクルチフス転位反
応〔たとえば、オーガニック・リアクションズ(Org
anic Reactions)。
ジド基をインシアナート基に変換し、インシアナート化
合物[Vllまたはその塩を製造する工程である。本工
程は化合物[111]またはその塩をクルチフス転位反
応〔たとえば、オーガニック・リアクションズ(Org
anic Reactions)。
第8巻、337頁に記載の方法〕に付し、インシアナー
ト化合物[Vllまたはその塩へ変換するものである。
ト化合物[Vllまたはその塩へ変換するものである。
本反応は化合物[1[[]またはその塩を溶媒中で約1
0℃ないし約150℃(好ましくは約20℃ないし約1
00℃)で反応させることにより行なわれる。溶媒とし
ては、ジエチルエーテル、アセトニトリル、タロロホル
ム。
0℃ないし約150℃(好ましくは約20℃ないし約1
00℃)で反応させることにより行なわれる。溶媒とし
ては、ジエチルエーテル、アセトニトリル、タロロホル
ム。
ジクロロメタン、1.2−ジクロロエタン、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどが単独または温容溶媒として用
いられる。溶媒の使用量は化合物[1[1]またはその
塩1部に対して通常5部ないし100部がよい。反応時
間は通常約10分間ないし約20時間(好ましくは約1
0分間ないし約2時間)である。本反応はまた化合物(
I[[)またはその塩を無溶媒で、デシケータ−中波圧
下室温(約15〜30℃)で約20時間ないし約50時
間放置することによっても達成される。
トルエン、キシレンなどが単独または温容溶媒として用
いられる。溶媒の使用量は化合物[1[1]またはその
塩1部に対して通常5部ないし100部がよい。反応時
間は通常約10分間ないし約20時間(好ましくは約1
0分間ないし約2時間)である。本反応はまた化合物(
I[[)またはその塩を無溶媒で、デシケータ−中波圧
下室温(約15〜30℃)で約20時間ないし約50時
間放置することによっても達成される。
またあるいは化合物[1[[]またはその塩を前記の溶
媒中で超音波を照射することによっても行なわれる。こ
の場合の反応温度は通常室温(約15〜80℃)で、反
応時間は通常約80分ないし約5時間である。
媒中で超音波を照射することによっても行なわれる。こ
の場合の反応温度は通常室温(約15〜80℃)で、反
応時間は通常約80分ないし約5時間である。
第4工程はインシアナート化合物[Vllまたはその塩
の水酸基とインシアネート基とを分子内で反応させたの
ち所望によりアミン基の保護基を脱離して、本発明の化
合物[I]またはその塩を製造する工程である。本反応
はインシアナート化合物[W]またはその塩を溶媒中で
反応させることにより分子内で進行する。この際塩基あ
るいは酸などの触媒が存在すると反応が速やかに進行す
る場合がある。用いられる溶媒としてハ、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロ
エタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどがあげられ
、単独または混合溶媒として用いられる。溶媒の使用量
は化合物(Vllまたはその塩1部に対して通常5部な
いし100部がよい。反応温度は約10℃ないし約15
0℃(好ましくは約20℃ないし約100℃)であり、
反応時間は約80分間ないし約50時間(好ましくは約
1時間ないし約10時間)である。触媒として用いられ
る塩基としては、トリエチレンジアミン(DABCO)
、)リエチルアミン、1.2−ジメチルイミダゾール。
の水酸基とインシアネート基とを分子内で反応させたの
ち所望によりアミン基の保護基を脱離して、本発明の化
合物[I]またはその塩を製造する工程である。本反応
はインシアナート化合物[W]またはその塩を溶媒中で
反応させることにより分子内で進行する。この際塩基あ
るいは酸などの触媒が存在すると反応が速やかに進行す
る場合がある。用いられる溶媒としてハ、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロ
エタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどがあげられ
、単独または混合溶媒として用いられる。溶媒の使用量
は化合物(Vllまたはその塩1部に対して通常5部な
いし100部がよい。反応温度は約10℃ないし約15
0℃(好ましくは約20℃ないし約100℃)であり、
反応時間は約80分間ないし約50時間(好ましくは約
1時間ないし約10時間)である。触媒として用いられ
る塩基としては、トリエチレンジアミン(DABCO)
、)リエチルアミン、1.2−ジメチルイミダゾール。
N−メチルピペリジン、N、N−ジメチルシクロヘキシ
ルアミンなどの8級アミン類が、また酸とし7ては三フ
ッ化ホク素エーテラート、塩化水素、塩化アルミニウム
、ジメチルスズジクロリド、ジ−n−ブチルスズジアセ
テート、塩化スズなどがあげられる。触媒の使用量は化
合物[W]またはその塩に対して通常0001当量ない
し0. g当量(好ましくは001当量ないし0゜5当
量)である。
ルアミンなどの8級アミン類が、また酸とし7ては三フ
ッ化ホク素エーテラート、塩化水素、塩化アルミニウム
、ジメチルスズジクロリド、ジ−n−ブチルスズジアセ
テート、塩化スズなどがあげられる。触媒の使用量は化
合物[W]またはその塩に対して通常0001当量ない
し0. g当量(好ましくは001当量ないし0゜5当
量)である。
なお上記の第2〜4工程において、酸アジド化合物[f
[[]またはその塩あるいはインシアナート化合物〔■
〕またはその塩は単離もしくは精製することなく、同一
容器内で次反応工程に使用することもでき、反応工程か
短縮され工業的に有利な製造法を提供することができる
。さらに化合物[11]またはその塩においてR3が水
素原子の化合物は、塩入らの方法〔ジャーナル・オグ・
アメリカン・ケミカル・ンサエテイ(Journalo
f American Chemical 5ocie
ty) 、第94巻。
[[]またはその塩あるいはインシアナート化合物〔■
〕またはその塩は単離もしくは精製することなく、同一
容器内で次反応工程に使用することもでき、反応工程か
短縮され工業的に有利な製造法を提供することができる
。さらに化合物[11]またはその塩においてR3が水
素原子の化合物は、塩入らの方法〔ジャーナル・オグ・
アメリカン・ケミカル・ンサエテイ(Journalo
f American Chemical 5ocie
ty) 、第94巻。
6208頁、 1.972年;有機合成化学会誌。
31巻、666頁、1973年〕によって、−挙に本発
明の化合物CI)またはその塩を製造するこ七ができる
。すなわちカルボン酸[口](R3= )1 )または
その塩を当量ないし少過利(好ましくは当量ないし12
当量)のジフェニルリン酸アジドあるいはジエチルリン
酸アジドなどの試薬上、たとえばトリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、トリエチレンジアミン(D
ABCO)などの3級アミンの存在下にジオキザン、ア
セトニトリル、ベンゼン、 1.2−ジクロロエタンな
どの反応に影響を及ぼさない溶媒中で加熱還流する仁と
により、化合物[I]またはその塩を得ることができる
。溶媒の使用量は化合物〔■〕またはその塩1部に対し
て通常5部ないし100部がよい。この反応において3
級アミンは当量ないし少過利(好ましくは当量ないし1
.2当量)を用い、反応時間は約20分間ないし約30
時間(好ましくは約30分間ないし約10時間)である
。
明の化合物CI)またはその塩を製造するこ七ができる
。すなわちカルボン酸[口](R3= )1 )または
その塩を当量ないし少過利(好ましくは当量ないし12
当量)のジフェニルリン酸アジドあるいはジエチルリン
酸アジドなどの試薬上、たとえばトリエチルアミン、ジ
イソプロピルエチルアミン、トリエチレンジアミン(D
ABCO)などの3級アミンの存在下にジオキザン、ア
セトニトリル、ベンゼン、 1.2−ジクロロエタンな
どの反応に影響を及ぼさない溶媒中で加熱還流する仁と
により、化合物[I]またはその塩を得ることができる
。溶媒の使用量は化合物〔■〕またはその塩1部に対し
て通常5部ないし100部がよい。この反応において3
級アミンは当量ないし少過利(好ましくは当量ないし1
.2当量)を用い、反応時間は約20分間ないし約30
時間(好ましくは約30分間ないし約10時間)である
。
化合物[I]のR1がアミ7基の保護基である場合、所
望により該保護基を脱離してもよい。アミノ基の保護基
の脱離もまたβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野で
この目的に用いられる公知方法もしくは自体公知の方法
が適宜に採用される。
望により該保護基を脱離してもよい。アミノ基の保護基
の脱離もまたβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野で
この目的に用いられる公知方法もしくは自体公知の方法
が適宜に採用される。
wJ5工程は化合物[I)またはその塩を酸で処理した
のち所望によりアミノ基の保護基を脱離することにより
化合物[fflまたはその塩を製造する工程である。本
反応は化合物[I]またはその塩を溶媒中で酸と反応さ
せることにより行なわれる。溶媒としてはジクロロメタ
ン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、無水酢酸、無水クロロ酢酸、無水トリフル
オロ酢酸、無水安息香酸、水などが用いられる。溶媒の
使用量は化合物[I)またはその塩1部に対して通常、
5sないし100部がよい。溶媒として酸無水物を使用
した場合、化合物[fflがアシル化された化合物〔■
す[式中、R1は前記と同意義を、R4はアシル基を示
す]が得られる場合がある。すなわちたとえば、上記の
無水酢酸、無水クロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無
水安息香酸などを使用すると、アシル休(IV’l (
それぞれR’=COCH3゜COCH2Cl!、 C0
CF3. C0C6H5”)が得られる場合がある。化
合物[■′]が得られた場合は後記するように所望によ
り加水分解反応を行なって化合物〔■りを化合物[N]
に容易に導びくことかできる。第5工程で使用される酸
としてはたとえば塩酸、a酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、
リン酸。
のち所望によりアミノ基の保護基を脱離することにより
化合物[fflまたはその塩を製造する工程である。本
反応は化合物[I]またはその塩を溶媒中で酸と反応さ
せることにより行なわれる。溶媒としてはジクロロメタ
ン、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド、無水酢酸、無水クロロ酢酸、無水トリフル
オロ酢酸、無水安息香酸、水などが用いられる。溶媒の
使用量は化合物[I)またはその塩1部に対して通常、
5sないし100部がよい。溶媒として酸無水物を使用
した場合、化合物[fflがアシル化された化合物〔■
す[式中、R1は前記と同意義を、R4はアシル基を示
す]が得られる場合がある。すなわちたとえば、上記の
無水酢酸、無水クロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無
水安息香酸などを使用すると、アシル休(IV’l (
それぞれR’=COCH3゜COCH2Cl!、 C0
CF3. C0C6H5”)が得られる場合がある。化
合物[■′]が得られた場合は後記するように所望によ
り加水分解反応を行なって化合物〔■りを化合物[N]
に容易に導びくことかできる。第5工程で使用される酸
としてはたとえば塩酸、a酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、
リン酸。
臭化亜鉛、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム。
塩化スズなどの無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、パ
ラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸などの有機酸あるいはこれらの
酸を適宜組み合わせたもののほか、酸性イオン交換樹脂
も用いられる。また上記の酸のなかでも、たとえば、ギ
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などは溶媒を兼ねて用いら
れることがある。好適な酸の組ミ合わせとしては、パラ
トルエンスルホン酸−酢酸、三フッ化ホク素エーテラー
トー酢酸、過塩素酸−酢酸などがあげられる。酸を混合
した場合の混合比率は特に限定されない。反応温度は約
10°Cないし約100℃(好ましくは約20℃ないし
約80℃)であり、反応時間は約10分間ないし約80
時間(好ましくは約10分間ないし約5時間)である。
ラトルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、トリクロロ酢酸などの有機酸あるいはこれらの
酸を適宜組み合わせたもののほか、酸性イオン交換樹脂
も用いられる。また上記の酸のなかでも、たとえば、ギ
酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などは溶媒を兼ねて用いら
れることがある。好適な酸の組ミ合わせとしては、パラ
トルエンスルホン酸−酢酸、三フッ化ホク素エーテラー
トー酢酸、過塩素酸−酢酸などがあげられる。酸を混合
した場合の混合比率は特に限定されない。反応温度は約
10°Cないし約100℃(好ましくは約20℃ないし
約80℃)であり、反応時間は約10分間ないし約80
時間(好ましくは約10分間ないし約5時間)である。
なお本反応でR2が/R11
−CHXR12で表わされる場合、条件によっては目的
化合物[N]またはその塩の他に化合物〔■〕またはそ
の塩を副生成物として与える場合がある。たとえば化合
物CI]においてR2がベンジル基の場合、化合物[■
] (R11=−cH2c6H5,R12WH)または
その塩を副生成物として与える場合がある。またたとえ
ば化合物(IlにおいてR2がイングロビル基の場合、
化合物[ff]またはその塩と化合物[■](R11=
RL2=CH3)またはその塩の混合物を与える場合が
ある。化合物〔■〕は第51工程で説明するように酸化
反応により容易に目的化合物〔■〕に導びくことができ
る。したがつて化合物[■]が副生ずる場合は[lV]
と〔■〕を分離して〔■〕を単離したのち、捷たは[I
V]と[■〕の混合物の!ま酸化反応を行なって所望の
化合物[IV)のみを得ることができる。また化合物[
IV]のアシル体〔■りが得られた場合、所望により通
常の加水分解反応により化合物〔■りを化合物[IV]
またはその塩に変換することもできる。
化合物[N]またはその塩の他に化合物〔■〕またはそ
の塩を副生成物として与える場合がある。たとえば化合
物CI]においてR2がベンジル基の場合、化合物[■
] (R11=−cH2c6H5,R12WH)または
その塩を副生成物として与える場合がある。またたとえ
ば化合物(IlにおいてR2がイングロビル基の場合、
化合物[ff]またはその塩と化合物[■](R11=
RL2=CH3)またはその塩の混合物を与える場合が
ある。化合物〔■〕は第51工程で説明するように酸化
反応により容易に目的化合物〔■〕に導びくことができ
る。したがつて化合物[■]が副生ずる場合は[lV]
と〔■〕を分離して〔■〕を単離したのち、捷たは[I
V]と[■〕の混合物の!ま酸化反応を行なって所望の
化合物[IV)のみを得ることができる。また化合物[
IV]のアシル体〔■りが得られた場合、所望により通
常の加水分解反応により化合物〔■りを化合物[IV]
またはその塩に変換することもできる。
この加水分解反応は酸加水分解もしくは塩基存在下の加
水分解である。酸加水分解に用いられる酸としてはたと
えば塩酸、硫酸などの無機酸が、塩基存在下の加水分解
に用いられる塩基としてはたとえば水酸化ナトリクム、
水酸化カリクム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基があげ
られ、水中もしくは水と混合しうる有機溶媒(たとえば
メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン
などのケトン類などのほかジメチルスルホキシドなど)
と水との混合溶媒中で行なわれる。溶媒の使用量は化合
物[IV]またはその塩1部に対して通常5部ないし1
00部がよい。酸または塩基の量は化合物[IV]また
はその塩に対して当量ないしlO当量(好ましくは当量
ないし5当量)がよい。反応は通常は加温下に行なわれ
、約80℃ないし約100℃が好ましい。反応時間は通
常約10分間ないし約20時間(好ましくは約10分間
ないし約5時間)である。また化合物[IV′](R’
=クロロアセチルなど)またはその塩をN−メチルジチ
オカルバミン酸と常法により処理することにより化合物
[IV]またはその塩が得られる場合もある。
水分解である。酸加水分解に用いられる酸としてはたと
えば塩酸、硫酸などの無機酸が、塩基存在下の加水分解
に用いられる塩基としてはたとえば水酸化ナトリクム、
水酸化カリクム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基があげ
られ、水中もしくは水と混合しうる有機溶媒(たとえば
メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン
などのケトン類などのほかジメチルスルホキシドなど)
と水との混合溶媒中で行なわれる。溶媒の使用量は化合
物[IV]またはその塩1部に対して通常5部ないし1
00部がよい。酸または塩基の量は化合物[IV]また
はその塩に対して当量ないしlO当量(好ましくは当量
ないし5当量)がよい。反応は通常は加温下に行なわれ
、約80℃ないし約100℃が好ましい。反応時間は通
常約10分間ないし約20時間(好ましくは約10分間
ないし約5時間)である。また化合物[IV′](R’
=クロロアセチルなど)またはその塩をN−メチルジチ
オカルバミン酸と常法により処理することにより化合物
[IV]またはその塩が得られる場合もある。
化合物〔■〕のR1がアミノ基の保護基である場合、所
望により該保護基を脱離してもよい。アミノ保護基の脱
離は化合物(Ilのアミノ保護基の脱離と同様に行うこ
とができる。
望により該保護基を脱離してもよい。アミノ保護基の脱
離は化合物(Ilのアミノ保護基の脱離と同様に行うこ
とができる。
第5I工程は化合物〔■〕またはその塩の1位の置換基
−CH=C/:、■)二を除去したのち要すればアミノ
基の保護基を脱離して化合物[N]−またけその塩を製
造する工程である。本反応は化合物〔■〕またはその塩
を溶媒中で酸化剤と処理することにより実施される。本
反応で用いられる酸化痢としては、たとえばオゾン、過
マンガン酸カリクム、クロム酸、四酸化オスミクムー過
酸化水素(あるいは過ヨク素酸)などが用いられる。溶
媒としては、水、アセトン、 tert−ブチルアルコ
ール、ピリジン、ジオキサン、ベンゼン、ジクロロメタ
ン、メタノールなど反応に影響を及ぼさないものが単独
あるいは混合溶媒として使用される。反応温度は約−8
0℃ないし約30℃(好ましくは約−60℃ないし約1
0℃)で行なわれ、反応時間は約10分間ないし約10
時間(好ましくは約20分ないし約5時間)である。酸
化反応後、必要に応じてたとえばオゾン酸化の場合は、
ナトリウムメトキシド−メタノールなどにより処理をし
て化合物〔■〕またはその塩を製造する場合もある。
−CH=C/:、■)二を除去したのち要すればアミノ
基の保護基を脱離して化合物[N]−またけその塩を製
造する工程である。本反応は化合物〔■〕またはその塩
を溶媒中で酸化剤と処理することにより実施される。本
反応で用いられる酸化痢としては、たとえばオゾン、過
マンガン酸カリクム、クロム酸、四酸化オスミクムー過
酸化水素(あるいは過ヨク素酸)などが用いられる。溶
媒としては、水、アセトン、 tert−ブチルアルコ
ール、ピリジン、ジオキサン、ベンゼン、ジクロロメタ
ン、メタノールなど反応に影響を及ぼさないものが単独
あるいは混合溶媒として使用される。反応温度は約−8
0℃ないし約30℃(好ましくは約−60℃ないし約1
0℃)で行なわれ、反応時間は約10分間ないし約10
時間(好ましくは約20分ないし約5時間)である。酸
化反応後、必要に応じてたとえばオゾン酸化の場合は、
ナトリウムメトキシド−メタノールなどにより処理をし
て化合物〔■〕またはその塩を製造する場合もある。
本発明の出発原料である化合物[11]またはその塩の
一般的な合成法は知られており、たとえば、α−アミノ
酸誘導体から次の反応式に従って容易に製造される。
一般的な合成法は知られており、たとえば、α−アミノ
酸誘導体から次の反応式に従って容易に製造される。
化合物〔■〕 化合物(Il()化合
物C[l) 〔式中、R1’、 R2およびR3は前記と同意義を示
す〕第1工程はα−アミノ酸のエステルとα、β−不飽
和アルデヒド類(上記の反応式ではシンナムアルデヒド
を例示)とから調製したイミン化合物[■]に置換酢酸
類の反応性誘導体を反応させβ−ラクタム化合物[IK
]またはその塩を製造する工程である。本反応は、たと
えば日本国特許出願昭59−232162記載の方法の
反応条件を適用することによって行なわれる。すなわち
α−アミノ酸エステルとα、β−不飽和アルデヒド類(
上記反応式中では、シンナムアルデヒドを用いた場合を
図示したが、かならずしもこ八に限定されるものではな
い)とから導かれるイミン体〔■〕(本化合物は、単離
せず次の反応に使用することもできる)に一般式R1′
cH2COOH〔式中R1゛は前記と同意義を示す〕で
表わされる置換酢酸類の反応性誘導体とを溶媒中で塩基
の存在下に反応させ化合物[H]またはその塩を製造す
る。化合物〔■〕はα−アミノ酸エステルとアルデヒド
類との通常の脱水反応により製造することができる。た
とえば無水硫酸ナトリクム、無水硫酸マグネシウム、シ
リカゲル、モレキュラージーブス等の脱水剤、あるいけ
ベンゼン、トルエンなどとの共沸により脱水して化合物
〔■〕を調製する。R1′CH2C0OHで表わされる
置換酢酸類の反応性誘導体としては、たとえば前記した
カルボン酸ハライド、カルボン酸無水物および混合酸無
水物のほかカルボン酸活性エステル(たとえばジェトキ
シリン酸エステル、p−ニトロフェニルエステル、シア
ノメチルエステル。
物C[l) 〔式中、R1’、 R2およびR3は前記と同意義を示
す〕第1工程はα−アミノ酸のエステルとα、β−不飽
和アルデヒド類(上記の反応式ではシンナムアルデヒド
を例示)とから調製したイミン化合物[■]に置換酢酸
類の反応性誘導体を反応させβ−ラクタム化合物[IK
]またはその塩を製造する工程である。本反応は、たと
えば日本国特許出願昭59−232162記載の方法の
反応条件を適用することによって行なわれる。すなわち
α−アミノ酸エステルとα、β−不飽和アルデヒド類(
上記反応式中では、シンナムアルデヒドを用いた場合を
図示したが、かならずしもこ八に限定されるものではな
い)とから導かれるイミン体〔■〕(本化合物は、単離
せず次の反応に使用することもできる)に一般式R1′
cH2COOH〔式中R1゛は前記と同意義を示す〕で
表わされる置換酢酸類の反応性誘導体とを溶媒中で塩基
の存在下に反応させ化合物[H]またはその塩を製造す
る。化合物〔■〕はα−アミノ酸エステルとアルデヒド
類との通常の脱水反応により製造することができる。た
とえば無水硫酸ナトリクム、無水硫酸マグネシウム、シ
リカゲル、モレキュラージーブス等の脱水剤、あるいけ
ベンゼン、トルエンなどとの共沸により脱水して化合物
〔■〕を調製する。R1′CH2C0OHで表わされる
置換酢酸類の反応性誘導体としては、たとえば前記した
カルボン酸ハライド、カルボン酸無水物および混合酸無
水物のほかカルボン酸活性エステル(たとえばジェトキ
シリン酸エステル、p−ニトロフェニルエステル、シア
ノメチルエステル。
ペンタクロロフェニルエステル、l−ヒドロキシベンゾ
トリアゾールエステルなど)、カルボン酸活性チオエス
テル(たとえば2−ピリジルチオールエステル、2−ベ
ンゾチアゾリルチオールエステルなど)などがあげられ
る。本反応で用いられる塩基としては、たとえばトリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチル
モルホリン、ピリジン、ルチジン、1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−クンデセン(DBU)などの
有機塩基類があげられる。本反応は通常は溶媒中で実施
され、溶媒としては、たとえばジオキサン、テトラヒド
ロ7ラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホル
ム。
トリアゾールエステルなど)、カルボン酸活性チオエス
テル(たとえば2−ピリジルチオールエステル、2−ベ
ンゾチアゾリルチオールエステルなど)などがあげられ
る。本反応で用いられる塩基としては、たとえばトリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチル
モルホリン、ピリジン、ルチジン、1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]−7−クンデセン(DBU)などの
有機塩基類があげられる。本反応は通常は溶媒中で実施
され、溶媒としては、たとえばジオキサン、テトラヒド
ロ7ラン、ジエチルエーテル、酢酸エチル、クロロホル
ム。
ジクロロメタン、四塩化炭素、トリクレン、ベンゼン、
トルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなど
が単独または混合溶媒として用いられる。反応温度は約
−80℃ないし約50℃(好ましくは一80℃ないし0
℃)であり、反応時間は約10分間ないし約30時間(
好ましくは約30分間ないし約5時間)である。
トルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなど
が単独または混合溶媒として用いられる。反応温度は約
−80℃ないし約50℃(好ましくは一80℃ないし0
℃)であり、反応時間は約10分間ないし約30時間(
好ましくは約30分間ないし約5時間)である。
上記の反応において光学活性なα−アミノ酸エステルを
使用した場合、化合物〔■〕またはその塩は原料アミノ
酸の種類、アミノ酸側鎖中の官能基の置換基や保護基9
反応溶媒2反応温度などを選択することにより、8位お
よび4位に関しシスのジアステレオマーの一方(たとえ
ば3S、4R体)を他方(たとえば3R,43体)より
優位に生成することができる。あるいは反応条件により
、(3S、4R)体と(3R14S)体とをはソ1:1
の混合物として得ることも出来る。(BS、4R)休お
よび(3R94S)体は分別再結あるいは各種クロマト
グラフィー等、通常の精製分離手段によって、容易にそ
れぞれの異性体に分離することが可能である。
使用した場合、化合物〔■〕またはその塩は原料アミノ
酸の種類、アミノ酸側鎖中の官能基の置換基や保護基9
反応溶媒2反応温度などを選択することにより、8位お
よび4位に関しシスのジアステレオマーの一方(たとえ
ば3S、4R体)を他方(たとえば3R,43体)より
優位に生成することができる。あるいは反応条件により
、(3S、4R)体と(3R14S)体とをはソ1:1
の混合物として得ることも出来る。(BS、4R)休お
よび(3R94S)体は分別再結あるいは各種クロマト
グラフィー等、通常の精製分離手段によって、容易にそ
れぞれの異性体に分離することが可能である。
化合物[fflのR1′で表わされる保護されたアミ7
基の保護基は必要に応じて適宜能の保護基に変換するこ
とができる。この変換は自体公知の方法によって実施す
ることができる。
基の保護基は必要に応じて適宜能の保護基に変換するこ
とができる。この変換は自体公知の方法によって実施す
ることができる。
第2工程は化合物[IK]またはその塩の4位側鎖をヒ
ドロキシメチル基に変換し、化合物[nlまたはその塩
を製造する工程であり、公知の方法または自体公知の方
法を用ハることができる。
ドロキシメチル基に変換し、化合物[nlまたはその塩
を製造する工程であり、公知の方法または自体公知の方
法を用ハることができる。
本反応はたとえば化合物[IX]またはその塩を溶媒中
、酸化剤と反応させ、ついで還元剤と処理することによ
り実施される。使用される酸化剤および溶媒としては前
記のものがあげられる。
、酸化剤と反応させ、ついで還元剤と処理することによ
り実施される。使用される酸化剤および溶媒としては前
記のものがあげられる。
還元剤としては、たとえば水素化ホク素ナトリクム、水
素化ホウ素すチクム、水素化シアノホク素ナトリクムな
どが用いられる。使用される溶媒としては、メタノール
、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水あ
るいは前記の酸化反応の際て用いた溶媒との混合溶媒な
どが用いられる。反応温度は約−80℃ないし約20℃
であり、反応時間は約20分間ないし約10時間である
。
素化ホウ素すチクム、水素化シアノホク素ナトリクムな
どが用いられる。使用される溶媒としては、メタノール
、エタノール、ジオキサン、テトラヒドロフラン、水あ
るいは前記の酸化反応の際て用いた溶媒との混合溶媒な
どが用いられる。反応温度は約−80℃ないし約20℃
であり、反応時間は約20分間ないし約10時間である
。
前記の化合物[I] 、 [II]および〔■〕の製造
法において、目的化合物およびそれらの合成中間体は、
自体公知の手段たとえば濃縮、液性変換。
法において、目的化合物およびそれらの合成中間体は、
自体公知の手段たとえば濃縮、液性変換。
転溶、溶媒抽出、凍結乾燥、結晶化、再結晶。
分留、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
ができる。
(作用および発明の効果)
かくして得られた化合物[fflは、前記のAMA−1
080をはじめとするβ−ラクタム系抗生物質の合成中
間体として極めて重要な化合物である。化合物[IV]
のうち特にR1がベンジルオキシカルボニルアミノ基で
35 、4 S配位の化合物(以後、化合物[N’つと
記す。実施例3記載の化合物(3b))は公知物質(日
本国公開特許公報昭58−46066)であり、さらに
同公報に記載の一連の反応を行うことによりAMA−1
080に誘導することができる。化合物[FりからAM
A−1080への反応を図示すると下記のとおりである
。
080をはじめとするβ−ラクタム系抗生物質の合成中
間体として極めて重要な化合物である。化合物[IV]
のうち特にR1がベンジルオキシカルボニルアミノ基で
35 、4 S配位の化合物(以後、化合物[N’つと
記す。実施例3記載の化合物(3b))は公知物質(日
本国公開特許公報昭58−46066)であり、さらに
同公報に記載の一連の反応を行うことによりAMA−1
080に誘導することができる。化合物[FりからAM
A−1080への反応を図示すると下記のとおりである
。
化合物〔■〃〕 化合物〔x
〕化合物〔罵〕 AMA−1080ナトリクム塩 但し Cbz=ベンジルオキシカルボニルpy =ピリ
ジン PNB=バラニトロベンジル TEA=4リエチルアミン 上記化合物〔■りを室温で2当量のピリジン/三酸化イ
オタ錯体を反応させたのち、重炭酸ナトリクム処理とク
ロマトグラフィーを行なって(35,4S)−8−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4−カルバモイルオキシ
メチル−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリクム
塩〔x〕を得る。化合物[11を無水メタノール中pc
t/c触媒下に水素化すると(3S、4S)−3−アミ
ノ−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
−1−スルホン酸ナトリクム〔創が得られる。等モルの
化合物(刺と(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−[(パラニトロペンジルオキシ力ルポニルメ
トキシ)イミノ]酢酸 2−ベンズチアゾリルチオエス
テルとを無水アセトン中に懸濁し2.2倍モルのトリエ
チルアミンで処理したのち、クロマトグラフィーを行な
い、(as、+5)−a−(Z)−2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−[(パラニトロペンジルオキシ
力ルポニ!レメトキシイミノ)アセトアミド〕−手−刀
ルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン−1−スル
ホン酸トリエチルアミン塩[X1tlt[ル。
〕化合物〔罵〕 AMA−1080ナトリクム塩 但し Cbz=ベンジルオキシカルボニルpy =ピリ
ジン PNB=バラニトロベンジル TEA=4リエチルアミン 上記化合物〔■りを室温で2当量のピリジン/三酸化イ
オタ錯体を反応させたのち、重炭酸ナトリクム処理とク
ロマトグラフィーを行なって(35,4S)−8−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−4−カルバモイルオキシ
メチル−2−アゼチジノン−1−スルホン酸ナトリクム
塩〔x〕を得る。化合物[11を無水メタノール中pc
t/c触媒下に水素化すると(3S、4S)−3−アミ
ノ−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
−1−スルホン酸ナトリクム〔創が得られる。等モルの
化合物(刺と(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−[(パラニトロペンジルオキシ力ルポニルメ
トキシ)イミノ]酢酸 2−ベンズチアゾリルチオエス
テルとを無水アセトン中に懸濁し2.2倍モルのトリエ
チルアミンで処理したのち、クロマトグラフィーを行な
い、(as、+5)−a−(Z)−2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−[(パラニトロペンジルオキシ
力ルポニ!レメトキシイミノ)アセトアミド〕−手−刀
ルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン−1−スル
ホン酸トリエチルアミン塩[X1tlt[ル。
化合物〔■〕をメタノール中、多孔性ケイ藻土担持パラ
ジウム触媒下に水素化し、重炭酸ナトリクム処理とクロ
マトグラフィーを行なうとAMA−1080ナトリクム
塩が得られる。
ジウム触媒下に水素化し、重炭酸ナトリクム処理とクロ
マトグラフィーを行なうとAMA−1080ナトリクム
塩が得られる。
(以下余白)
(実施例)
以F、本発明全参考例、実施例によって詳細に説明する
が、これによって本発明が限定されるものではない。
が、これによって本発明が限定されるものではない。
参考例1゜
(88,48)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−4−ヒドロキシメチル−1−((1sJ−(1−メト
キシ刀ルボニルー2−メチルノプロピル〕−2−アゼチ
ジノン〔化合物(R−1c)Jの製造: (a) (38,4R)−1−((l5)−(1−
メトキンカルボニル−2−メチルJプロピル〕−3−フ
タルイミド−4−スチリル−2−アゼチジノン(化合物
(R−1a)〕の〕製造 :L−バリンメチルエステル塩酸塩419pのジクロロ
メタン250ゴ溶液に、゛氷冷下トリエチル7ミ73G
、39yを加え、30分間攪拌後減圧下に溶媒を留去す
る。残留物に酢酸エチルを加え、不溶物をろ去し、ろ液
を減圧下に濃縮する。残留物にジクaaメタン500x
lfgJえ、シンカムアルデヒド51.99.無水硫酸
マグネシウム37,5グとともに2時間室温で攪拌する
。不溶物をろ去し、ろ液を濃縮後、残留物をジクロロメ
タン500蛸二拗1丁。−70℃〜−60℃に冷却下、
トリエチルアミン33.02gを加え、ついて攪拌下、
2−ブタルイミド酢酸クロライド56.011Iのジク
ロロメタン250ゴ溶液を30分間で滴下する。反応液
を室温(−もどし、さらに1時間攪拌後、水で2回、I
N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄す
る。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると(
3S、4R)の立体構造を有する化合物(R−13)お
よび(SR,48)の立体構造を有する化合物(R−1
a′)の混合物87.5fiが得られる。氷晶は化合物
(R−13)と化合物(R−13’)の約1:1の混合
物である。メタノールから再結晶すると、化合物(R−
Ia)88.9gが無色針状晶として得られ、ろ液を濃
縮後、残留物をジエチルエーテル−ジクロロメタン混合
溶媒から再結晶すると、化合物(R−1a’)24.4
グが無色プリズム状晶として得られる。なお化合物(R
−1a)の絶対構造はX線解析によす決定し、以下の化
合物は本化合物との関連においてその構造を決定した。
−4−ヒドロキシメチル−1−((1sJ−(1−メト
キシ刀ルボニルー2−メチルノプロピル〕−2−アゼチ
ジノン〔化合物(R−1c)Jの製造: (a) (38,4R)−1−((l5)−(1−
メトキンカルボニル−2−メチルJプロピル〕−3−フ
タルイミド−4−スチリル−2−アゼチジノン(化合物
(R−1a)〕の〕製造 :L−バリンメチルエステル塩酸塩419pのジクロロ
メタン250ゴ溶液に、゛氷冷下トリエチル7ミ73G
、39yを加え、30分間攪拌後減圧下に溶媒を留去す
る。残留物に酢酸エチルを加え、不溶物をろ去し、ろ液
を減圧下に濃縮する。残留物にジクaaメタン500x
lfgJえ、シンカムアルデヒド51.99.無水硫酸
マグネシウム37,5グとともに2時間室温で攪拌する
。不溶物をろ去し、ろ液を濃縮後、残留物をジクロロメ
タン500蛸二拗1丁。−70℃〜−60℃に冷却下、
トリエチルアミン33.02gを加え、ついて攪拌下、
2−ブタルイミド酢酸クロライド56.011Iのジク
ロロメタン250ゴ溶液を30分間で滴下する。反応液
を室温(−もどし、さらに1時間攪拌後、水で2回、I
N−塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄す
る。無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると(
3S、4R)の立体構造を有する化合物(R−13)お
よび(SR,48)の立体構造を有する化合物(R−1
a′)の混合物87.5fiが得られる。氷晶は化合物
(R−13)と化合物(R−13’)の約1:1の混合
物である。メタノールから再結晶すると、化合物(R−
Ia)88.9gが無色針状晶として得られ、ろ液を濃
縮後、残留物をジエチルエーテル−ジクロロメタン混合
溶媒から再結晶すると、化合物(R−1a’)24.4
グが無色プリズム状晶として得られる。なお化合物(R
−1a)の絶対構造はX線解析によす決定し、以下の化
合物は本化合物との関連においてその構造を決定した。
化合物(R−1a):融点1 s s、s”−t s
4.5.”c工Rv¥KBr、、l: 1丁85(肩)
、1772,1743゜1722.1885,1203
,980,717゜NMR(90MHz 、CDCl
B)δ: 1.02 (d 、 J=7)Lx 。
4.5.”c工Rv¥KBr、、l: 1丁85(肩)
、1772,1743゜1722.1885,1203
,980,717゜NMR(90MHz 、CDCl
B)δ: 1.02 (d 、 J=7)Lx 。
CHB ) 、1.22(d 、J=7Hz 、CHB
) 、 2.65(m。
) 、 2.65(m。
CH) 、 8.’l 6(S 、0CH4) t 8
.85(d 、J=9Hz 、CH)、4.62(dd
、J=6.9Hz 、C4−H)。
.85(d 、J=9Hz 、CH)、4.62(dd
、J=6.9Hz 、C4−H)。
5.57(d、J=6Hz、Cg−H)、6.22(d
d、J=9.16Hz、−CH=CHPh)、6.62
(d、J=16Hz 、 −CH=CHPh ) 、
7.22(s 、 芳香族プC71−ン) t 7.6
0 7.98(rn、芳香族プoトy)。
d、J=9.16Hz、−CH=CHPh)、6.62
(d、J=16Hz 、 −CH=CHPh ) 、
7.22(s 、 芳香族プC71−ン) t 7.6
0 7.98(rn、芳香族プoトy)。
元素分析値 C26H24N 205
計算値: C69,48,H5,59,N 6.48
%実測値: C69,41,H’5.49. N 6
.5(%〔α)p−21−2°(C=0.645.メタ
ノール〕〔α〕甘せ2062°(c=9.445.クロ
ロホルムン化合物(R−13’Ji融点124.5°−
125,5℃I Rvp’j’、cm ’: 1770
−1780.1720−1750゜1380.1340
,1205,979,721゜N M R(90MHz
、CDCI a )δ:0.92(d、J=7Hz
。
%実測値: C69,41,H’5.49. N 6
.5(%〔α)p−21−2°(C=0.645.メタ
ノール〕〔α〕甘せ2062°(c=9.445.クロ
ロホルムン化合物(R−13’Ji融点124.5°−
125,5℃I Rvp’j’、cm ’: 1770
−1780.1720−1750゜1380.1340
,1205,979,721゜N M R(90MHz
、CDCI a )δ:0.92(d、J=7Hz
。
CHa ) + 1.23 (dy J =7Hz t
CHs ) t 2−23 (mt CH) + 3
.76 (s p OCHa)、4.12(d 、J=
9Hz ? CHJ p 4−98 (d d t J
=6 y 9 Hz p Ca H) C5,58
(d、J=6Hz 、C3−H)、6.10(dd 、
J=9.16Hz、−CH=CHPh)、6.72(d
、J=16Hz、−CH=CHPh)、7゜21(S
、芳香族プロトン)、7.60−7.98(m、芳香族
プロトン)。
CHs ) t 2−23 (mt CH) + 3
.76 (s p OCHa)、4.12(d 、J=
9Hz ? CHJ p 4−98 (d d t J
=6 y 9 Hz p Ca H) C5,58
(d、J=6Hz 、C3−H)、6.10(dd 、
J=9.16Hz、−CH=CHPh)、6.72(d
、J=16Hz、−CH=CHPh)、7゜21(S
、芳香族プロトン)、7.60−7.98(m、芳香族
プロトン)。
元素分析値 C25H24N205
計算値: C69,4B、 H5,59,N 6.4
8%実測値: C69,52,H5,41,N L4
6%(α]、+18.1°(c=0.770 、メタノ
ール〕〔α〕2o8+44.5°(C=0.58.クロ
ロホルム](b) (38,4R)−1−((+5)
−(1−メトキシカルボニル−2−メチルノブロヒル〕
−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−スチリル
−2−アゼチジノン〔化合物(R−1bJJの製造: 前記で得られた化合物(R−1aJ86.8yのジクロ
ロメタン500m/溶液に、窒素ガス気流中、メチルヒ
ドラジン15.7gを加え、室温で9時間攪拌する。溶
媒を減圧下に濃縮し、再びジクロロメタン500m1/
に溶かして室温に2日間放置する。
8%実測値: C69,52,H5,41,N L4
6%(α]、+18.1°(c=0.770 、メタノ
ール〕〔α〕2o8+44.5°(C=0.58.クロ
ロホルム](b) (38,4R)−1−((+5)
−(1−メトキシカルボニル−2−メチルノブロヒル〕
−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−スチリル
−2−アゼチジノン〔化合物(R−1bJJの製造: 前記で得られた化合物(R−1aJ86.8yのジクロ
ロメタン500m/溶液に、窒素ガス気流中、メチルヒ
ドラジン15.7gを加え、室温で9時間攪拌する。溶
媒を減圧下に濃縮し、再びジクロロメタン500m1/
に溶かして室温に2日間放置する。
不溶物をろ去し、ろ液を減圧下に濃縮する。残留物に酢
酸エチル500m1を加え、水洗、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
する。残留物にジクロロメタン2501!/、1.2−
ブチレンオキサイド39m/を加え、水冷上攪拌しなが
らベンジルオキシカルボニルクロライド15.1’のジ
クロロメタン10m/溶液を20分間で1する。室温で
1,5時間攪拌後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジ
エチルエーテルを加えると結晶が析出する。これをろ取
し、乾燥すると、化合物(R−1b)C4,5グが得ら
れる。融点:158.5’−160℃ IRv¥a2 、i” 1785 (肩)、17?2,
1743゜1722.1387,1205゜ NM R(90MHz 、CDCl 3) δ二 0.
99(t 、J=7H2。
酸エチル500m1を加え、水洗、飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去
する。残留物にジクロロメタン2501!/、1.2−
ブチレンオキサイド39m/を加え、水冷上攪拌しなが
らベンジルオキシカルボニルクロライド15.1’のジ
クロロメタン10m/溶液を20分間で1する。室温で
1,5時間攪拌後、減圧下に溶媒を留去し、残留物にジ
エチルエーテルを加えると結晶が析出する。これをろ取
し、乾燥すると、化合物(R−1b)C4,5グが得ら
れる。融点:158.5’−160℃ IRv¥a2 、i” 1785 (肩)、17?2,
1743゜1722.1387,1205゜ NM R(90MHz 、CDCl 3) δ二 0.
99(t 、J=7H2。
CH,)、2.45(m、CHJ、3.63(S、0C
H3)。
H3)。
8.91 (d 、J=9)1! 、C)l) 、 4
.5 o(dd、J=s 。
.5 o(dd、J=s 。
9Hz、C4−H) 、 5.04(S、Cl−12)
、s、C5(dd、J=5 、8Hz 、C3−H)
、 5.48(br、d、J=8Hz、NH) 。
、s、C5(dd、J=5 、8Hz 、C3−H)
、 5.48(br、d、J=8Hz、NH) 。
6.08 (dd、J=9.16Hz 、−C旦=cH
−p h ) 、 6.61(d、 J=16Hz 、
−Q−1=心’U ph)、7.21(s、芳香族プロ
トンL7.aa(s、芳香族プロトン)。
−p h ) 、 6.61(d、 J=16Hz 、
−Q−1=心’U ph)、7.21(s、芳香族プロ
トンL7.aa(s、芳香族プロトン)。
元素分析値 025H28N20゜
計算値: C68,79,H6,47,N 6.42
%実測値: C68,84,H6,+9. N 6.
52%〔α〕〒+20.7°(C=0.98 、クロロ
ホルム)(C) 題記化合物(R−1c)の製造:前
記で得られた化合物(R−1b)21.Slのジクロロ
メタン溶液400rxlに、ドライアイス−アセトン浴
冷却下、オゾンガスを2時間通ずる。
%実測値: C68,84,H6,+9. N 6.
52%〔α〕〒+20.7°(C=0.98 、クロロ
ホルム)(C) 題記化合物(R−1c)の製造:前
記で得られた化合物(R−1b)21.Slのジクロロ
メタン溶液400rxlに、ドライアイス−アセトン浴
冷却下、オゾンガスを2時間通ずる。
つぎに窒素ガスを通じて過駄の万シンガスを除き、メタ
ノール1000tZおよび水素化ホウ素ナトリウム2.
1 y’a’加え、徐々に0℃まで昇温させる。
ノール1000tZおよび水素化ホウ素ナトリウム2.
1 y’a’加え、徐々に0℃まで昇温させる。
ついで同温度で、水素化ホウ素ナトリウム各0.42g
を4回、各0.21gを2回、それぞれ約20分間隔で
加える。反応終了後、酢酸6.31を加えて減圧濃縮す
る。残留物に200m/の水を加え、酢酸エチル各30
θmlで2回抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧留去したの
ち残留物をシリカゲルを用いるカラムグロマトグラフイ
ーに付し、n−へキチン:酢酸エチル(1: 1.Y/
V )で溶出すると、題記化合物(R−IC)19.8
9が結晶として得られる。融点二65°−67℃ IRstK5pcm’: 848G、3880,297
0゜175G、1710,1540,1270,126
0゜730゜ N M R(90MHz t CDCl a )δ:
1.00(d 、J=7Hz。
を4回、各0.21gを2回、それぞれ約20分間隔で
加える。反応終了後、酢酸6.31を加えて減圧濃縮す
る。残留物に200m/の水を加え、酢酸エチル各30
θmlで2回抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧留去したの
ち残留物をシリカゲルを用いるカラムグロマトグラフイ
ーに付し、n−へキチン:酢酸エチル(1: 1.Y/
V )で溶出すると、題記化合物(R−IC)19.8
9が結晶として得られる。融点二65°−67℃ IRstK5pcm’: 848G、3880,297
0゜175G、1710,1540,1270,126
0゜730゜ N M R(90MHz t CDCl a )δ:
1.00(d 、J=7Hz。
CH3X2 ) 、 2.0−2.5(m、CH) 、
8.77(s 。
8.77(s 。
0CH8J 、4.88(d 、J=7.5Hz 、C
H)、5.12(S。
H)、5.12(S。
CH2)、5.80(dd 、J=5.10Hz 、C
3−H)。
3−H)。
6.17(d、J=10H2、NH)、’r、aa(s
、芳香族プロトンノ。
、芳香族プロトンノ。
元素分析値 Cl8H24N206
計算値: C59,8B、H6,64,N 7.69
%実測値: C59,47,H6゜7B、 N 7.
55%参考例2゜ (’as、48)−3−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4−ヒドロキシメチル−1−((Is〕−(1−メ
t4ジカルボニルー2−フェニルノエチル〕−2−アゼ
チジノン〔化合物(R−2J)の製造: (a) (88,4R)−1−((Is)−(1−メト
キシカルボニル−2−フェニルノエチル〕−3−ペンジ
ルオキン力ルポニルアミノ−4−スチリル−2−アゼチ
ジノン(化合物(R−2a))の製造: L−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩8.64i
i’をクロロホルム60ゴに懸濁し、飽和炭酸水素ナト
リクム水溶液40txlf加えてよく振り混ぜる・有機
層を分取し、水層をクロロホルムで2回抽出する。有機
層7合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去
する。残留物をジクロロメタン200m1に溶解し、シ
ンナムアルデヒド7.96グ、無水硫酸マグネシウム1
2グを加え、室温で1時間攪拌する。不溶物乞ろ去し、
ろ液を濃縮するとシッフ塩基が得られる。一方、N−ベ
ンジル万キシカルボニルグリシン16.89およびトリ
エチルアミン24.289のジクロロメタン200tn
l溶液を一40℃に冷却し、エチルクロロフォルメート
26.08グを加え、−20℃で10分間攪拌後、前記
シッフ塩基およびトリエチルアミン6.085’のクロ
ロホルム溶液(80ml)f加え室温で2時間攪拌する
。ついで溶媒に減圧留去し、残留物全酢酸エチルに溶解
後、有機層を、IN塩酸、炭酸水素ナトリクム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。
%実測値: C59,47,H6゜7B、 N 7.
55%参考例2゜ (’as、48)−3−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−4−ヒドロキシメチル−1−((Is〕−(1−メ
t4ジカルボニルー2−フェニルノエチル〕−2−アゼ
チジノン〔化合物(R−2J)の製造: (a) (88,4R)−1−((Is)−(1−メト
キシカルボニル−2−フェニルノエチル〕−3−ペンジ
ルオキン力ルポニルアミノ−4−スチリル−2−アゼチ
ジノン(化合物(R−2a))の製造: L−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩8.64i
i’をクロロホルム60ゴに懸濁し、飽和炭酸水素ナト
リクム水溶液40txlf加えてよく振り混ぜる・有機
層を分取し、水層をクロロホルムで2回抽出する。有機
層7合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去
する。残留物をジクロロメタン200m1に溶解し、シ
ンナムアルデヒド7.96グ、無水硫酸マグネシウム1
2グを加え、室温で1時間攪拌する。不溶物乞ろ去し、
ろ液を濃縮するとシッフ塩基が得られる。一方、N−ベ
ンジル万キシカルボニルグリシン16.89およびトリ
エチルアミン24.289のジクロロメタン200tn
l溶液を一40℃に冷却し、エチルクロロフォルメート
26.08グを加え、−20℃で10分間攪拌後、前記
シッフ塩基およびトリエチルアミン6.085’のクロ
ロホルム溶液(80ml)f加え室温で2時間攪拌する
。ついで溶媒に減圧留去し、残留物全酢酸エチルに溶解
後、有機層を、IN塩酸、炭酸水素ナトリクム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。
溶媒暑減圧留去し、残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−〇−へキチン
(2:()で溶出すると[8,4R)の立体配置を有す
る化合物(R−2a)および(3R,4SJの立体配置
を有する化合物(R−2aつの混合物(l:1118.
72fが結晶として得られる。酢酸エチル−〇−へキチ
ンの混合溶媒から再結晶すると、化合物(R−22)5
.22が結晶として得られる。
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−〇−へキチン
(2:()で溶出すると[8,4R)の立体配置を有す
る化合物(R−2a)および(3R,4SJの立体配置
を有する化合物(R−2aつの混合物(l:1118.
72fが結晶として得られる。酢酸エチル−〇−へキチ
ンの混合溶媒から再結晶すると、化合物(R−22)5
.22が結晶として得られる。
融点:133°−135℃
工RI/鼎(3)t’:827G、1755(肩)、1
788゜1720.1535,1275゜ N M R(90Hz e CDC1a )δ: 8
.34(m、CH2) 。
788゜1720.1535,1275゜ N M R(90Hz e CDC1a )δ: 8
.34(m、CH2) 。
3、.72(s、0CH8)、4.10(dd、J=6
.9Hz、CH)、4.85(dd、J=5.9Hz、
C4−H)。
.9Hz、CH)、4.85(dd、J=5.9Hz、
C4−H)。
5、00 (S y CH2) t 5.00 5−8
0 (”’ y CII −HおよびNHJ、5.50
(da、J=9.16Hz。
0 (”’ y CII −HおよびNHJ、5.50
(da、J=9.16Hz。
−CH=CHPh ) 、 6.32 (d 、J=1
6Hz 、 −CH=CHPh)、7.20(St芳芳
香族プロトフン7.27(S、芳香族プロトンノ、?−
05−7,45(m、芳香族プロトン〕。
6Hz 、 −CH=CHPh)、7.20(St芳芳
香族プロトフン7.27(S、芳香族プロトンノ、?−
05−7,45(m、芳香族プロトン〕。
元素分析値 C29)128N205
計算値: C71,89,H5,82,N 5゜78
%C71,66、H5,79,N 5.70%〔α〕D
−74.7°(c=1.025yジクロロメタンフ一方
、ろ液から対応する化合物(R−23’)が泡状物とし
て得られる。
%C71,66、H5,79,N 5.70%〔α〕D
−74.7°(c=1.025yジクロロメタンフ一方
、ろ液から対応する化合物(R−23’)が泡状物とし
て得られる。
NMR(90MHz、CDCl8)δ: a、10−3
.80(m。
.80(m。
CH2)、8.71(S、0CR8)、4J1(dd、
J=5−9Hz * C4H) * 4−61(dd
、 J =6 、9Hz 。
J=5−9Hz * C4H) * 4−61(dd
、 J =6 、9Hz 。
、CH)、4.99(s 、CH,) 、5.00−5
.20(m、C3−H) 、 5.45 (d 、J=
9Hz 、NH) 、 5.88 (dd、J=9 。
.20(m、C3−H) 、 5.45 (d 、J=
9Hz 、NH) 、 5.88 (dd、J=9 。
16Hz、−CH=CH−Ph) 、6.61(d、J
==16Hz。
==16Hz。
−CH=CH−Ph)、7.20(S、芳香族7”0)
/)。
/)。
7.27(S、芳香族プロ)y) 、 7.07−7.
45 (m。
45 (m。
芳香族プロトン)。
(b) 題記化合物(R−2b)の製造:前記で得ら
れた化合物(R−2aJ5.17に用い、参考例1(り
の方法と同様に反応および処理すると、題記化合物(R
−2b)&7H’が油状物として得られる。
れた化合物(R−2aJ5.17に用い、参考例1(り
の方法と同様に反応および処理すると、題記化合物(R
−2b)&7H’が油状物として得られる。
N M R(90′Mk4z t CDCl s )δ
: 2.8−4.1 (m、C4−H,CH2O,CH
2Ph、OH)、a、7s(s 、QCH,) 、 4
.88(dd、J=5.11Hz 、OH)、4.9
1(ddtJ=6 tlOH2tc3−)1)、5.0
7(s 、CH2)、。
: 2.8−4.1 (m、C4−H,CH2O,CH
2Ph、OH)、a、7s(s 、QCH,) 、 4
.88(dd、J=5.11Hz 、OH)、4.9
1(ddtJ=6 tlOH2tc3−)1)、5.0
7(s 、CH2)、。
6.08(d、J=10Hz、NH)、7.0−7.5
(m。
(m。
10H2芳香族プロトンフ。
実施例1゜
(2R,78,88)−8−ベンジル万キシカルボニル
アミノ−2−(1−メチルノエチルー5−万キサ−1,
3−ジアザビシクロ(5,2,OJノナン−4,9−ジ
オン〔化合物(ld))の製造:(1) (aS、4S
)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−((I
J−1−ヒドラジノカルボニル−2メチル〕プロピル−
4−ヒドロキシメチル−2−アゼチジノン〔化合物(1
aJJの製造: 参考例1で得られた(38.48)−3−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1−(、
(Is)−1−メトキシカルボニル−2−メチル〕プロ
ピルー2−アゼチジノンし化合物(R−IC))11−
587のテトラヒドロフラン300m/溶液中に、水冷
下IN水酸化すlラム水溶液45+t/i加えて20分
間攪拌する。
アミノ−2−(1−メチルノエチルー5−万キサ−1,
3−ジアザビシクロ(5,2,OJノナン−4,9−ジ
オン〔化合物(ld))の製造:(1) (aS、4S
)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−((I
J−1−ヒドラジノカルボニル−2メチル〕プロピル−
4−ヒドロキシメチル−2−アゼチジノン〔化合物(1
aJJの製造: 参考例1で得られた(38.48)−3−ベンジルオキ
シカルボニルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1−(、
(Is)−1−メトキシカルボニル−2−メチル〕プロ
ピルー2−アゼチジノンし化合物(R−IC))11−
587のテトラヒドロフラン300m/溶液中に、水冷
下IN水酸化すlラム水溶液45+t/i加えて20分
間攪拌する。
IN塩酸18alf加えたのち減圧濃縮し、残留物に酢
酸エチル−テトラヒドロフラン(3: 1 、v/v)
100mJ、飽和食塩水50ゴおよびIN塩酸30Mを
加えて振り混ぜる。有機層を分液し、水層を酢酸エチル
−テトラヒドロフラン< a : 1 # v/v)各
50rrtlで2回抽出する。有機層を合わせて飽和食
塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
酸エチル−テトラヒドロフラン(3: 1 、v/v)
100mJ、飽和食塩水50ゴおよびIN塩酸30Mを
加えて振り混ぜる。有機層を分液し、水層を酢酸エチル
−テトラヒドロフラン< a : 1 # v/v)各
50rrtlで2回抽出する。有機層を合わせて飽和食
塩水で洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥する。
溶媒?減圧留去後、残留物をテトラヒドロフラン200
m/に溶解し、水冷攪拌下に1−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール4.835’およびジンクロヘキノル力ルポジ
イミド6.51”!!/加える。
m/に溶解し、水冷攪拌下に1−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール4.835’およびジンクロヘキノル力ルポジ
イミド6.51”!!/加える。
10分後にさらに抱水ヒドラジン1.53m/を加え水
冷下1時間ついで室温で1時間攪拌する。反応後、析出
した結晶をろ去し、テトラヒドロフランで洗浄する。ろ
液および洗液を合わせ、減圧濃縮し、残留物に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水7加え、酢酸エ
チル−テトラヒドロフラン(2:1.V/VJで2回抽
出する。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃
縮し、残留物はシリカゲル(180グ)を用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル
−)9/−ル(10:10:2.V/V/V )で溶出
すると、化合物(1a710.1)が無色泡状物として
得られる。
冷下1時間ついで室温で1時間攪拌する。反応後、析出
した結晶をろ去し、テトラヒドロフランで洗浄する。ろ
液および洗液を合わせ、減圧濃縮し、残留物に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水7加え、酢酸エ
チル−テトラヒドロフラン(2:1.V/VJで2回抽
出する。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃
縮し、残留物はシリカゲル(180グ)を用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸エチル
−)9/−ル(10:10:2.V/V/V )で溶出
すると、化合物(1a710.1)が無色泡状物として
得られる。
I Ryoeatham 1: 8310.2950
、1770−ax 1720.1660,1520,1250,1055゜
915.715゜ N M R(90MHz t cl)cl g )δ:
0.85.0.90(各3 Ht d s J =
7Hz J t L8 2−4 (I H* rr+
) e 5−08 (2H,s ) 、 6.f)1(
IH,d 、J=9Hz) 、74O(5H。
、1770−ax 1720.1660,1520,1250,1055゜
915.715゜ N M R(90MHz t cl)cl g )δ:
0.85.0.90(各3 Ht d s J =
7Hz J t L8 2−4 (I H* rr+
) e 5−08 (2H,s ) 、 6.f)1(
IH,d 、J=9Hz) 、74O(5H。
S)、9.12(LH,b)。
(2)題記化合物(1d)の製造:
前記で得られた化合物(la)1.83Pのジクロロメ
タン50ffi/溶液に食塩−氷浴冷却下、5N塩酸5
ytl、ついで亜硝酸ナトリウム845”iの水溶液5
tx15加え、20分間攪拌する。反応液を水に注加し
、有機層を分液する。水層はジクロロメタンで2回抽出
する。有機層ン合わせて飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去すると、
化合物(1b)が油neat 1 状物として得られる(’ I Rνmaxc111 =
2130)。
タン50ffi/溶液に食塩−氷浴冷却下、5N塩酸5
ytl、ついで亜硝酸ナトリウム845”iの水溶液5
tx15加え、20分間攪拌する。反応液を水に注加し
、有機層を分液する。水層はジクロロメタンで2回抽出
する。有機層ン合わせて飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去すると、
化合物(1b)が油neat 1 状物として得られる(’ I Rνmaxc111 =
2130)。
ついで化合物(lb)’il、2−ジクロロエタン50
m/に溶解し、60℃で15分間加温後溶媒を減圧留去
すると化合物(IC)が油状物として得られる(IRν
富で9m 1:2240)。
m/に溶解し、60℃で15分間加温後溶媒を減圧留去
すると化合物(IC)が油状物として得られる(IRν
富で9m 1:2240)。
化合物(lC)にアセトニトリル80m1およびトリエ
チレンジアミン280■を加え、室温で17時間放置す
る。減圧下に溶媒を留去し、残留物はシリカゲル(85
yJ’&用いるカラムクロマトグラフィーに付し、n−
へキチン−酢酸エチル(1:2.V/V〕で溶出すると
、題記化合物(ld)1.25yが無色泡状物として得
られる。
チレンジアミン280■を加え、室温で17時間放置す
る。減圧下に溶媒を留去し、残留物はシリカゲル(85
yJ’&用いるカラムクロマトグラフィーに付し、n−
へキチン−酢酸エチル(1:2.V/V〕で溶出すると
、題記化合物(ld)1.25yが無色泡状物として得
られる。
lRu9;(m’: 8300.2970.1770゜
17.10,1510,1840,1800,1245
゜1090.1045゜ NMR(90MHz 、CDCl8)δ: 0.87
、0.96 (各8H,d、J=THz)、1.8−2
4(IH,m)、8.8−4.5(3H,m)、 4
.50(1)1.dd、J=5.10H2) * 5
.0g(2HeS) e 5.21 (tH、d d
、J−5,9Hz)、6.57(IH,d、J=9H
z)、6.67(IH,d、J=5Hz)、 7
.30(5H,s )。
17.10,1510,1840,1800,1245
゜1090.1045゜ NMR(90MHz 、CDCl8)δ: 0.87
、0.96 (各8H,d、J=THz)、1.8−2
4(IH,m)、8.8−4.5(3H,m)、 4
.50(1)1.dd、J=5.10H2) * 5
.0g(2HeS) e 5.21 (tH、d d
、J−5,9Hz)、6.57(IH,d、J=9H
z)、6.67(IH,d、J=5Hz)、 7
.30(5H,s )。
元素分析値 C1□H21N305
計算値: C58,78,H6,09,N 12.1
0%実測値: C58,99,H6,24,N 11
.83%実施例2゜ (28,78,8S)−8−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−2−ベンジル−5−スキーt−193−ジアザ
ビシクロ(5,2,OJノナノー4゜9−ジオン〔化合
物(2d))の製造:(1) (as、4s)−s−ベ
ンジルオキシカルボニルアミ八・−1−((Is)−1
−ヒドラジノ力ルホユルー2−フェニルノエチル−4−
ヒドロキシメチル−2−アゼチジノンし化合物(2a月
の製造: 参考例2で得られた( 38.48)−3−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1−(
(18)−1−メトキシカルボニル−2−フェニル〕エ
チルー2−アゼチジノン〔化合物(R−2b)、13.
72yのテトラヒトフラン90jt/溶液中に水冷下I
N水酸化すlクム水溶液16.48m/を加え40分間
攪拌する。減圧下にテトラヒドロフランを留去し、残留
物に氷水およびIN塩酸17□7dを加え、酢酸エチル
30*/で2回抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し
たのち残留物をテトラヒドロフラン20m1に溶解し、
水冷攪拌下に1−ヒドロキノペンシトリアゾール1,4
04Pおよびジシクロへキシルカルボi;’ (ミド1
.89グを加える。10分後に抱水ヒドラジンO143
8mlのジメチルホルムアミド2.5 txt溶液を加
え、水冷下1.5時間攪拌する。反応後析出した結晶を
ろ去し、結晶をテトラヒドロフランで洗浄する。ろ液お
よび洗液を合わせて濃縮し、残留物に食塩水および炭酸
水素すlラム水溶液を加え、酢酸エチル−テトラヒドロ
フラン(3;I I V/V )各30ffi/で2回
抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留物をシリ
カゲルを用いるカラムクロマトグラフ1−に付し、クロ
ロホルム−酢酸エチル−メタノール(3:3:l。
0%実測値: C58,99,H6,24,N 11
.83%実施例2゜ (28,78,8S)−8−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−2−ベンジル−5−スキーt−193−ジアザ
ビシクロ(5,2,OJノナノー4゜9−ジオン〔化合
物(2d))の製造:(1) (as、4s)−s−ベ
ンジルオキシカルボニルアミ八・−1−((Is)−1
−ヒドラジノ力ルホユルー2−フェニルノエチル−4−
ヒドロキシメチル−2−アゼチジノンし化合物(2a月
の製造: 参考例2で得られた( 38.48)−3−ベンジルオ
キシカルボニルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1−(
(18)−1−メトキシカルボニル−2−フェニル〕エ
チルー2−アゼチジノン〔化合物(R−2b)、13.
72yのテトラヒトフラン90jt/溶液中に水冷下I
N水酸化すlクム水溶液16.48m/を加え40分間
攪拌する。減圧下にテトラヒドロフランを留去し、残留
物に氷水およびIN塩酸17□7dを加え、酢酸エチル
30*/で2回抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し
たのち残留物をテトラヒドロフラン20m1に溶解し、
水冷攪拌下に1−ヒドロキノペンシトリアゾール1,4
04Pおよびジシクロへキシルカルボi;’ (ミド1
.89グを加える。10分後に抱水ヒドラジンO143
8mlのジメチルホルムアミド2.5 txt溶液を加
え、水冷下1.5時間攪拌する。反応後析出した結晶を
ろ去し、結晶をテトラヒドロフランで洗浄する。ろ液お
よび洗液を合わせて濃縮し、残留物に食塩水および炭酸
水素すlラム水溶液を加え、酢酸エチル−テトラヒドロ
フラン(3;I I V/V )各30ffi/で2回
抽出する。有機層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留物をシリ
カゲルを用いるカラムクロマトグラフ1−に付し、クロ
ロホルム−酢酸エチル−メタノール(3:3:l。
v/v/v )で溶出すると、化合物(2aJ8.61
S’が無色泡状物として得られる。なお本島は、アルカ
リ加水分解した際に一部ラセミ化した1(1)位がR配
置を有する化合物が約lO%含まれていることがNMR
により観測された。
S’が無色泡状物として得られる。なお本島は、アルカ
リ加水分解した際に一部ラセミ化した1(1)位がR配
置を有する化合物が約lO%含まれていることがNMR
により観測された。
■ RI′品−髪”’ : 38GG、 17
55. 1720゜1665、 1520. 125
5゜ NMR(90MHz tCDCIg) δ : 2
.8−4.2 (5H,m )。
55. 1720゜1665、 1520. 125
5゜ NMR(90MHz tCDCIg) δ : 2
.8−4.2 (5H,m )。
4.75(tH,da 、J=6 、9H2)、 4
.92(IH。
.92(IH。
dd、J=5.10Hz)、 5.03(2H,SJ
、 6.87(IH,d 、J=1oHz ) 、
7.1 7.4(5H9m) t7.30(’5)(
、S)、9.05(tH,b)。
、 6.87(IH,d 、J=1oHz ) 、
7.1 7.4(5H9m) t7.30(’5)(
、S)、9.05(tH,b)。
(2)題記化合物(2d)の製造:
前記で得られた化合物(2a)82511Igをジクロ
ロメタン20fi/に溶解し、食塩−氷浴冷却下、5N
塩酸2rxlを加え、ついで亜硝酸ナトリウム138■
の水溶液(0,6Hg)を加え15分間攪拌する。有機
層7分液し、水層をジクロロメタンで抽出後、有機層を
合わせ飽和食塩水で洗浄する。
ロメタン20fi/に溶解し、食塩−氷浴冷却下、5N
塩酸2rxlを加え、ついで亜硝酸ナトリウム138■
の水溶液(0,6Hg)を加え15分間攪拌する。有機
層7分液し、水層をジクロロメタンで抽出後、有機層を
合わせ飽和食塩水で洗浄する。
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去すると化合
物(2bりが油状物として得られる(IRneat
−1・ νmax” 、2150)。
物(2bりが油状物として得られる(IRneat
−1・ νmax” 、2150)。
化合物(2b)を1,2〜ジクロロメタン20+1!/
に溶解し、60℃で15分間加温後、溶媒を留去すると
化合物(2C)が淡黄色泡状物として得られる( IR
I/””’ell ’ : 2260)。ツイテ化合a
x 物(2C)をアセトニトリル85m1に溶解し、トリエ
チレンジアミン172■を加えて室温で2時間放置する
。減圧上溶媒を留去し、残留物をシリカゲルを用いるカ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エ
チル(2:8.V/V)で溶出すると、題記化合物(2
d)(5(ηが、n−ヘキサン−酢酸エチル(1:2.
v//]でひきつづき溶出すると、題記化合物(2dJ
と2位のR異性体との混合物(約1:1.NMR)14
4■がそれぞれ無色泡状物として得られる。
に溶解し、60℃で15分間加温後、溶媒を留去すると
化合物(2C)が淡黄色泡状物として得られる( IR
I/””’ell ’ : 2260)。ツイテ化合a
x 物(2C)をアセトニトリル85m1に溶解し、トリエ
チレンジアミン172■を加えて室温で2時間放置する
。減圧上溶媒を留去し、残留物をシリカゲルを用いるカ
ラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エ
チル(2:8.V/V)で溶出すると、題記化合物(2
d)(5(ηが、n−ヘキサン−酢酸エチル(1:2.
v//]でひきつづき溶出すると、題記化合物(2dJ
と2位のR異性体との混合物(約1:1.NMR)14
4■がそれぞれ無色泡状物として得られる。
IR峡汎cm1:3300.1770.1720゜15
1.124G、Too。
1.124G、Too。
N M R(90MHz p CDCl s)δ: a
、oo(2)1.a、、T;’lHz ) p 3.
9 4.5(aHem) p 5.07 (2HtS
)、 5.0−5.4(2H,m)、 6.15(
LH,d 、J=4Hz几 6.31(IH,d、J=
9HzJ、7.0−7.4(5H,m)、 7.3
0(5H,s)。
、oo(2)1.a、、T;’lHz ) p 3.
9 4.5(aHem) p 5.07 (2HtS
)、 5.0−5.4(2H,m)、 6.15(
LH,d 、J=4Hz几 6.31(IH,d、J=
9HzJ、7.0−7.4(5H,m)、 7.3
0(5H,s)。
元素分析値 C2IH21Na05
計算値: C68,79,H5,85,N 10.6
3%実測値: C63,31,H5,64,N 10.
36%実施例3゜ (38,48)−3−ベンジル万キシカルボ、=ルアミ
ノ−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
〔化合物(3b))の製造:(1) (as、4J−a
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−カルバモイル
オキシメチル−1−スチリル−2−アゼチジノン〔化合
物(aaJ)の製造: 実施例2で得られた化合物(2d)99ηを酢酸2ml
に溶解し、パラトルエンスルホン酸48■を加えて18
時間室温で放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム3.
37の水溶液(20wtl)中に注加し、酢酸エチル−
テトラヒドロフラン(2:1゜v/v )各3oat/
で2回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、n−へキナンー酢酸エチル(1: 1 eV/V)
で溶出すると、化合物(aa)35Twiが無色泡状物
として得られIRvKBrcrIv’: 3490.
3840.3320゜ax 1765、 1700. 1645. 1603゜15
35、 1400. 1325. 750. 695゜
N M R(90へ4■1z 、ds DMSO
+CDCl a) δ : 4.1−4.6(I
H,m)、5.09(2H,S)、5.20(LH。
3%実測値: C63,31,H5,64,N 10.
36%実施例3゜ (38,48)−3−ベンジル万キシカルボ、=ルアミ
ノ−4−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン
〔化合物(3b))の製造:(1) (as、4J−a
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−カルバモイル
オキシメチル−1−スチリル−2−アゼチジノン〔化合
物(aaJ)の製造: 実施例2で得られた化合物(2d)99ηを酢酸2ml
に溶解し、パラトルエンスルホン酸48■を加えて18
時間室温で放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム3.
37の水溶液(20wtl)中に注加し、酢酸エチル−
テトラヒドロフラン(2:1゜v/v )各3oat/
で2回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、n−へキナンー酢酸エチル(1: 1 eV/V)
で溶出すると、化合物(aa)35Twiが無色泡状物
として得られIRvKBrcrIv’: 3490.
3840.3320゜ax 1765、 1700. 1645. 1603゜15
35、 1400. 1325. 750. 695゜
N M R(90へ4■1z 、ds DMSO
+CDCl a) δ : 4.1−4.6(I
H,m)、5.09(2H,S)、5.20(LH。
dd 、J=5.9Hz)、 6.37(IH,d
、J=14Hz)、6.51(2H,s)、7.07(
LH,d、J=14Hz )、 7.1−7.5(
5H,m)、 7.85(5H。
、J=14Hz)、6.51(2H,s)、7.07(
LH,d、J=14Hz )、 7.1−7.5(
5H,m)、 7.85(5H。
S)、7.96(IH,d、J=9H2)。
(2)題詞化合物(3b)の製造:
前記で得た化合物(8a)601Niをアセトン4tx
lに溶解し、水冷攪拌下に0.3mmoVrxlの過マ
ンガン酸カリウム水溶液0.5m1f加える。25分後
に0.5ml、38分後に0.25拭48分後に0.2
5m1を追加した。55分後にチオ硫酸ナトリウム水溶
液を加えて、反応液を退色させ、不溶物をセライトフィ
ルターでろ去してアセトンで洗浄する。ろ液および洗f
Flを合わせ濃縮し、濃縮液に食塩?加え飽和させ、酢
酸エチル−テトラヒドロフラン(1:l p V/V
Jで2回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルを用いる刀ラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチルで溶出すると、題詞化合物(3J22■
が結晶として得られる。融点:193’−195℃I
Rye;cm ’ : 3490.3100.1765
゜1705.1695,1545,1265,1075
゜NMR(90MHz 、ds DMSO+CD C
1a)δ:3.7−4.4(aH,m)、 5.00
(IH,dd、J=4.11Hz)。
lに溶解し、水冷攪拌下に0.3mmoVrxlの過マ
ンガン酸カリウム水溶液0.5m1f加える。25分後
に0.5ml、38分後に0.25拭48分後に0.2
5m1を追加した。55分後にチオ硫酸ナトリウム水溶
液を加えて、反応液を退色させ、不溶物をセライトフィ
ルターでろ去してアセトンで洗浄する。ろ液および洗f
Flを合わせ濃縮し、濃縮液に食塩?加え飽和させ、酢
酸エチル−テトラヒドロフラン(1:l p V/V
Jで2回抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去し、残留
物をシリカゲルを用いる刀ラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチルで溶出すると、題詞化合物(3J22■
が結晶として得られる。融点:193’−195℃I
Rye;cm ’ : 3490.3100.1765
゜1705.1695,1545,1265,1075
゜NMR(90MHz 、ds DMSO+CD C
1a)δ:3.7−4.4(aH,m)、 5.00
(IH,dd、J=4.11Hz)。
5.06C2H,S)、6.33(2H,s)、7.1
3(5H。
3(5H。
s ) 、 7.79 (IH,d 、J=11Hz)
、8.17(tH,s)。
、8.17(tH,s)。
〔α〕2シ+61.2°(C=1.0.メタノール)実
施例4゜ (88,48)−4−アセチルカルバモイルオキシメチ
ル−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−アゼチ
ジノン(化合物<4’b)Eの製造:(1) (38
,48ノー4−アセチルカルバモイルオキシメチル−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−スチリル−2
−アゼチジノン〔化合物(4a))の製造: パラトルエンスルホン酸100■と無水酢酸1dの混合
物を5日間室温で放置する。この混合物中へ実施例2で
得られた化合物(2cl)99ηを加え、室温で16時
間放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液−酢酸
エチル中に注加し、酢酸エチル各5dで2回抽出する。
施例4゜ (88,48)−4−アセチルカルバモイルオキシメチ
ル−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−アゼチ
ジノン(化合物<4’b)Eの製造:(1) (38
,48ノー4−アセチルカルバモイルオキシメチル−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−スチリル−2
−アゼチジノン〔化合物(4a))の製造: パラトルエンスルホン酸100■と無水酢酸1dの混合
物を5日間室温で放置する。この混合物中へ実施例2で
得られた化合物(2cl)99ηを加え、室温で16時
間放置する。反応液を炭酸水素ナトリウム水溶液−酢酸
エチル中に注加し、酢酸エチル各5dで2回抽出する。
有機層は飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留物ンシリカゲルを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し、n−へキサン−
酢酸エチル<8:29V/V)で溶出すると、化合物(
4a)85■が結晶として得られる。
乾燥し、溶媒を減圧留去する。残留物ンシリカゲルを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し、n−へキサン−
酢酸エチル<8:29V/V)で溶出すると、化合物(
4a)85■が結晶として得られる。
IR禰敷crs’: 3380.1765.1748゜
1730.1720,1195゜ NMR(90睡、CDCl5)δ : 2.31(3
H,s)。
1730.1720,1195゜ NMR(90睡、CDCl5)δ : 2.31(3
H,s)。
3−9 4−5 (2Ht I’r’ J * 5
.0 ’5.3 (I H+ rr+ ) 。
.0 ’5.3 (I H+ rr+ ) 。
5.11(2HtABq p JAB−12Hz )t
5−40(IH−dd、J=6.10Hz)、6.
08(IH,d、J=15Hz)、7.1−7.6(5
H,m)、7.34(5H,S)。
5−40(IH−dd、J=6.10Hz)、6.
08(IH,d、J=15Hz)、7.1−7.6(5
H,m)、7.34(5H,S)。
7.39(IH,d、J=15Hz)、7.41(IH
,d 。
,d 。
J=10Hz)。
(2) 題詞化合物(4b)の製造:(リ 前記で得
られた化合物(4a)85■をアセトン5mlに溶解し
、水冷攪拌下にQ、 3mmol /ratの過マンガ
ン酸カリウム水溶液2,2ytlを加え、15分後にチ
万硫酸力1ウムの水溶液を加えた後、セライトフィルタ
ーにより不溶物をろ去し、アセトンで洗浄する。ろ液お
よび洗液を合わせ濃縮し、濃縮液に食塩を加え、酢酸エ
チル各5ytlで2回抽出する。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧
留去し、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチルで溶出すると、題詞化合物
(4b)40”’iが粉末として得られる。
られた化合物(4a)85■をアセトン5mlに溶解し
、水冷攪拌下にQ、 3mmol /ratの過マンガ
ン酸カリウム水溶液2,2ytlを加え、15分後にチ
万硫酸力1ウムの水溶液を加えた後、セライトフィルタ
ーにより不溶物をろ去し、アセトンで洗浄する。ろ液お
よび洗液を合わせ濃縮し、濃縮液に食塩を加え、酢酸エ
チル各5ytlで2回抽出する。有機層を飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧
留去し、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付し、酢酸エチルで溶出すると、題詞化合物
(4b)40”’iが粉末として得られる。
IRν結rxc、 ’ : 3280.1780.17
55゜1720.15.25,1245,1200゜N
MR(90MHz 、CDCl、)δ : 2.2
6(8H,s)。
55゜1720.15.25,1245,1200゜N
MR(90MHz 、CDCl、)δ : 2.2
6(8H,s)。
8、’l −4,2(2H,m)、 4.9−5.2
(IH,m) 。
(IH,m) 。
5.11(2H,ABQ、JAB=12Hz)、5.2
8(IH。
8(IH。
dd、J=5,9H2)、7.14(IH,S)?7.
31(5H,S)、 9.93(IH,S)。
31(5H,S)、 9.93(IH,S)。
(直り 化合物(4a)50■をメタノール15dに溶
解し、ドライアイス−アセトン浴冷却下、オゾンガスを
5分間通じる。ジメチルヌルフィト0.2txlf加え
室温にもどし、減圧丁に3wlまで濃縮液に0.168
%(W/Vノナトリクムメトキシドーメタノール溶液溶
液1暑 する。減圧濃縮し、残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付すと、題詞化合物(4J31η
が得られる。本島は(i)で得られた化合物とIR 、
NMRが完全に一致した。
解し、ドライアイス−アセトン浴冷却下、オゾンガスを
5分間通じる。ジメチルヌルフィト0.2txlf加え
室温にもどし、減圧丁に3wlまで濃縮液に0.168
%(W/Vノナトリクムメトキシドーメタノール溶液溶
液1暑 する。減圧濃縮し、残留物をシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付すと、題詞化合物(4J31η
が得られる。本島は(i)で得られた化合物とIR 、
NMRが完全に一致した。
実施例5。
(as,4s)−a−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−4−カルバモイルオキシメチル−2=アゼチジノン〔
化合物(3bJ)の製造:実施例1で得られた化合物(
1d)2o0111!iを酢酸t o xttに溶解し
、パラトルエンスルホン酸110011Iを加えて55
℃で2時間反応する。反応液を炭酸水素ナト’Jクムの
水溶液中に加え、酢酸エチル−テトラヒドロフラン(
2 : 1 1V/V)各5xiで3回抽出し、有機層
全飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物ンシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出すると、
まず(as,4B)−a−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−4−カルバモイルオキシメチル−1−インブテニ
ル−2−アゼチジノン〔化合物(5a)〕62W!9が
、ついで題詞化合物(3b)33■が得られる。本島は
実施例3で得た化合物(8b)とIR,NMRが完全に
一致した。
−4−カルバモイルオキシメチル−2=アゼチジノン〔
化合物(3bJ)の製造:実施例1で得られた化合物(
1d)2o0111!iを酢酸t o xttに溶解し
、パラトルエンスルホン酸110011Iを加えて55
℃で2時間反応する。反応液を炭酸水素ナト’Jクムの
水溶液中に加え、酢酸エチル−テトラヒドロフラン(
2 : 1 1V/V)各5xiで3回抽出し、有機層
全飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥す
る。溶媒を留去し、残留物ンシリカゲルを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチルで溶出すると、
まず(as,4B)−a−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ−4−カルバモイルオキシメチル−1−インブテニ
ル−2−アゼチジノン〔化合物(5a)〕62W!9が
、ついで題詞化合物(3b)33■が得られる。本島は
実施例3で得た化合物(8b)とIR,NMRが完全に
一致した。
化合物(5a):
IH禰れ(m’: 3430, 3350, 1760
。
。
1740、1710,1700,1540,1260。
1080。
N M R (9 0 MHz 、C−DC.1 g
)δ: 1.69( 6H, s ) 。
)δ: 1.69( 6H, s ) 。
3、9−4.2(2H,m)、 4.61(IH,m
)、 5.11(28,S)、5.15(IH,da
,J=6.10Hz)。
)、 5.11(28,S)、5.15(IH,da
,J=6.10Hz)。
5、20( IH,dd 、J=5 、 9Hz) 、
5.65( IH,m)。
5.65( IH,m)。
6、85(2H,b)、 7.36( 5H,s )
。
。
元素分析値 Cl7H21NilO5
計算値 C 58.78,H 6.09,N 12.1
0%実測値 C 58.97,H 6.30,N 11
.92%実施例6。
0%実測値 C 58.97,H 6.30,N 11
.92%実施例6。
(7.8)−シス−8−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ−5−オキサ−1,8−ジアザビンクロ(5. 2.
0)ノナン−4,9−ジオン〔化合物(6d)Jの製
造: (1) (3,4)−シス−3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−1−ヒドラジノカルボニルメチル−4−ヒ
ドロキシメチル−2−アゼチジノン〔化合物(5a〕〕
の製造: 参考例2の方法と同様にして、グリシンエチルエステル
から得られた。(”t4J−シス−3−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−1−エトキシ方ルポニルメチルー4
ーヒドロキシメチル−2−アゼチジノン350rF!9
をメタノール10m/に溶解し、抱水ヒドラジン80■
を加え室温で4.5時間放置する。反応液を減圧上濃縮
乾固し、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ジクロロメタン−メタノール( 4
: 1 eV/V)から溶出される画分から化合物(6
a7150■が結晶として得られる。融点:116”−
137°CIRシrnWxi’ : 3380t 33
00t 1760y1720.1680,1620,1
520,1420゜1320.1280,1040゜ N M R(90■七−CDCl s )δ: 3.5
−4.5(6H,m)。
ノ−5−オキサ−1,8−ジアザビンクロ(5. 2.
0)ノナン−4,9−ジオン〔化合物(6d)Jの製
造: (1) (3,4)−シス−3−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−1−ヒドラジノカルボニルメチル−4−ヒ
ドロキシメチル−2−アゼチジノン〔化合物(5a〕〕
の製造: 参考例2の方法と同様にして、グリシンエチルエステル
から得られた。(”t4J−シス−3−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−1−エトキシ方ルポニルメチルー4
ーヒドロキシメチル−2−アゼチジノン350rF!9
をメタノール10m/に溶解し、抱水ヒドラジン80■
を加え室温で4.5時間放置する。反応液を減圧上濃縮
乾固し、残留物をシリカゲルを用いるカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ジクロロメタン−メタノール( 4
: 1 eV/V)から溶出される画分から化合物(6
a7150■が結晶として得られる。融点:116”−
137°CIRシrnWxi’ : 3380t 33
00t 1760y1720.1680,1620,1
520,1420゜1320.1280,1040゜ N M R(90■七−CDCl s )δ: 3.5
−4.5(6H,m)。
5.08(2H,s)、5.10(IH,dd、J=5
.10Hz ) 、 6.55(IH,d 、J=9
Hz) 、 7.80(5H。
.10Hz ) 、 6.55(IH,d 、J=9
Hz) 、 7.80(5H。
S)、8.80(IH,b)。
元素分析値 Cl4H1llN405
計算値: C52,17,H5,63,N 17J8
%実測値: C51,89,H5,55,N 17.
06%(2)照射化合物(6d)の製造: 前記で得られた化合物(6a)145■を1゜2−ジク
ロロエタン18attに懸濁させ、水冷攪拌Fに水9w
l、5N塩酸0.9 weを加える。ついで亜硝酸ナト
リウム31,5ηの水溶液(’0.45m/)y滴下す
る。15分後に1.2−vクロロエタン層を分液し、水
洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
%実測値: C51,89,H5,55,N 17.
06%(2)照射化合物(6d)の製造: 前記で得られた化合物(6a)145■を1゜2−ジク
ロロエタン18attに懸濁させ、水冷攪拌Fに水9w
l、5N塩酸0.9 weを加える。ついで亜硝酸ナト
リウム31,5ηの水溶液(’0.45m/)y滴下す
る。15分後に1.2−vクロロエタン層を分液し、水
洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
1.2−ジクロロエタンを約4 xl迄濃縮後、トルエ
ン1:Jzlを調え、105°C(内温)で15時間加
温する。溶媒を減圧留去すると、照射化合物(5d)1
141Niが結晶として得られる。
ン1:Jzlを調え、105°C(内温)で15時間加
温する。溶媒を減圧留去すると、照射化合物(5d)1
141Niが結晶として得られる。
IR様5Qcm1: aaoo、 1760.1700
−1730、 1580. 1250゜ 元素分析値 C14H15NilO5 計算値: C55,08,H4,95,N 18.7
6%実測値: C55,aO,)] 4.99.N
1a、1%実施例7゜ (2R,78,88)−8−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−2−(1−メチルノエチルー5−オキサ−1,
3−ジアザビシクロ(5,2,0)ノナン−4,9−ジ
オン〔化合物(ld))の製造: 参考例!で得られた化合物(R−IC) 115.8η
のテトラヒドロフラン3Nl溶液中に、水冷下IN水酸
化ナトリウム水溶液Q、45dを加えて20分間攪拌す
る。IN塩酸0.18d1に加えたのち、減圧濃縮し、
残留物に酢酸エチル−テトラヒトフラン(8:1.V%
す、飽和食塩水およびIN塩酸0、3 rxl乞加えて
振り混ぜる。有機層を分岐し、水層な酢酸エチル−テト
ラヒドロフラン(8:1゜η〜〕各5tllで2回抽出
する。有機層は合わせ、飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去して残留
物ヲ1,2−ジクロロエタン5.0 mlに溶解し、つ
いでジフェニルリン酸アジド90η、およびトリエチレ
ンジ7ミy(DABCO)40”S”&71Dえて3時
間還流する。反応液を濃縮し、残留物をシリカゲルを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン
−酢酸エチル(1:1.v/v)で溶出すると、照射化
合物25.2■が得られる。本島は実施例1で得られた
化合物(1dJとIR,およびNMRが一致した。
−1730、 1580. 1250゜ 元素分析値 C14H15NilO5 計算値: C55,08,H4,95,N 18.7
6%実測値: C55,aO,)] 4.99.N
1a、1%実施例7゜ (2R,78,88)−8−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−2−(1−メチルノエチルー5−オキサ−1,
3−ジアザビシクロ(5,2,0)ノナン−4,9−ジ
オン〔化合物(ld))の製造: 参考例!で得られた化合物(R−IC) 115.8η
のテトラヒドロフラン3Nl溶液中に、水冷下IN水酸
化ナトリウム水溶液Q、45dを加えて20分間攪拌す
る。IN塩酸0.18d1に加えたのち、減圧濃縮し、
残留物に酢酸エチル−テトラヒトフラン(8:1.V%
す、飽和食塩水およびIN塩酸0、3 rxl乞加えて
振り混ぜる。有機層を分岐し、水層な酢酸エチル−テト
ラヒドロフラン(8:1゜η〜〕各5tllで2回抽出
する。有機層は合わせ、飽和食塩水で洗浄したのち無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧留去して残留
物ヲ1,2−ジクロロエタン5.0 mlに溶解し、つ
いでジフェニルリン酸アジド90η、およびトリエチレ
ンジ7ミy(DABCO)40”S”&71Dえて3時
間還流する。反応液を濃縮し、残留物をシリカゲルを用
いるカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメタン
−酢酸エチル(1:1.v/v)で溶出すると、照射化
合物25.2■が得られる。本島は実施例1で得られた
化合物(1dJとIR,およびNMRが一致した。
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基を
、R^2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖をそれぞ
れ示す〕で表わされる5−オキサ−1,3−ジアザビシ
クロ〔5.2.0〕ノナン−4,9−ジオン誘導体また
はその塩。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1′は保護されたアミノ基を、R^2は水
素原子またはα−アミノ酸の側鎖を、R^3は水素原子
またはエステル残基をそれぞれ示す〕で表わされる化合
物またはその塩を、一般式▲数式、化学式、表等があり
ます▼ 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表 わされる化合物またはその塩に変換したのち、クルチウ
ス転位反応ついで閉環反応に付すことを特徴とする、一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基を
、R^2は前記と同意義を示す〕で表わされる5−オキ
サ−1,3−ジアザビシクロ〔5.2.0〕ノナン−4
,9−ジオン誘導体またはその塩の製造法。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基を
、R^2は水素原子またはα−アミノ酸の側鎖をそれぞ
れ示す〕で表わされる化合物またはその塩を酸加水分解
反応に付し、ついで所望により酸化反応に付すことを特
徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は前記と同意義を示す〕で表わされる4
−カルバモイルオキシメチル−2−アゼチジノン誘導体
またはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60049517A JPS61207386A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | アゼチジノン誘導体および製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60049517A JPS61207386A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | アゼチジノン誘導体および製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61207386A true JPS61207386A (ja) | 1986-09-13 |
Family
ID=12833329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60049517A Pending JPS61207386A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | アゼチジノン誘導体および製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61207386A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0627418A1 (en) * | 1993-04-23 | 1994-12-07 | Bristol-Myers Squibb Company | N-subtituted 2-azetidinones and processes for the production of N-unsubstituted 2-azetidinones therefrom |
-
1985
- 1985-03-12 JP JP60049517A patent/JPS61207386A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0627418A1 (en) * | 1993-04-23 | 1994-12-07 | Bristol-Myers Squibb Company | N-subtituted 2-azetidinones and processes for the production of N-unsubstituted 2-azetidinones therefrom |
CN1063439C (zh) * | 1993-04-23 | 2001-03-21 | 布里斯托尔-米尔斯·斯奎布公司 | N-取代的2-氮杂环丁酮 |
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