JPS6120109B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6120109B2 JPS6120109B2 JP56055211A JP5521181A JPS6120109B2 JP S6120109 B2 JPS6120109 B2 JP S6120109B2 JP 56055211 A JP56055211 A JP 56055211A JP 5521181 A JP5521181 A JP 5521181A JP S6120109 B2 JPS6120109 B2 JP S6120109B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- signal
- circuit
- pulse
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims description 6
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 5
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/22—Optical, image processing or photographic arrangements associated with the tube
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料上で電子線を走査し、該試料から
発生したＸ線に基づいて該試料のＸ線像を陰極線
管に表示するようにしたＸ線像表示装置に関し、
特に観察の容易な鮮明なＸ線像を得ることのでき
るＸ線像表示装置に関する。
発生したＸ線に基づいて該試料のＸ線像を陰極線
管に表示するようにしたＸ線像表示装置に関し、
特に観察の容易な鮮明なＸ線像を得ることのでき
るＸ線像表示装置に関する。
例えばＸ線マイクロアナイザーにおいては試料
上で電子線を走査し、該試料への電子線の照射に
よつて発生したＸ線をＸ線分光器に導き特定波長
のＸ線を検出している。該検出されたパルス信号
は該試料上の電子線の走査と同期した陰極線管に
供給され、該試料のＸ線像が表示される。該Ｘ線
像は特定波長のＸ線に基づいているため、該試料
の表面部分の特定元素の分布を示したものとなる
が、該試料表面には特定元素が高密度に分布して
いる場所と低密度に分布している場所が存在す
る。通常該特定元素の高密度分布場所からのＸ線
に基づく像が試料の分析上有用であり、低密度分
布場所からのＸ線はバツクグラウンドノイズとな
りＸ線像の必要部分の鮮明度に悪影響を及ぼす。
上で電子線を走査し、該試料への電子線の照射に
よつて発生したＸ線をＸ線分光器に導き特定波長
のＸ線を検出している。該検出されたパルス信号
は該試料上の電子線の走査と同期した陰極線管に
供給され、該試料のＸ線像が表示される。該Ｘ線
像は特定波長のＸ線に基づいているため、該試料
の表面部分の特定元素の分布を示したものとなる
が、該試料表面には特定元素が高密度に分布して
いる場所と低密度に分布している場所が存在す
る。通常該特定元素の高密度分布場所からのＸ線
に基づく像が試料の分析上有用であり、低密度分
布場所からのＸ線はバツクグラウンドノイズとな
りＸ線像の必要部分の鮮明度に悪影響を及ぼす。
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、
その目的は、バツクグラウンドノイズとなる特定
元素の低密度分布場所からのＸ線に基づく信号を
消去して鮮明なＸ線像を得ると共に、該消去され
た信号のみを切換えて陰極線管に供給し消去され
る信号の程度を確認できるようにすることであ
る。
その目的は、バツクグラウンドノイズとなる特定
元素の低密度分布場所からのＸ線に基づく信号を
消去して鮮明なＸ線像を得ると共に、該消去され
た信号のみを切換えて陰極線管に供給し消去され
る信号の程度を確認できるようにすることであ
る。
上述した目的を達成するために、本発明におい
ては、試料上で電子線を走査し、該試料から発生
したＸ線の内、所定波長のＸ線に基づく検出パル
ス信号を該走査に同期した陰極線管に供給するよ
うにしたＸ線像表示装置において、該検出パルス
信号が供給される第１と第２のゲート回路と、該
検出パルス信号の各パルスに基づいて設定された
時間幅の第１のゲート信号と該第１のゲート信号
を反転した第２のゲート信号を発生し、夫々のゲ
ート信号を該第１と第２のゲート回路に供給する
ためのゲート信号発生回路と、該第１と第２のゲ
ート回路の出力パルス信号を切換えて前記陰極線
管に供給するためのスイツチ手段とを備え、一連
の該検出パルス信号の内直前のパルスから所定の
時間内に該第１のゲート回路に入るパルスのみ該
第１のゲート回路を通過させ、該第１のゲート回
路によつて消去されたパルスを第２のゲート回路
を通過させると共に、該第１のゲート信号の時間
幅を任意に変え得るように構成したことを特徴と
している。
ては、試料上で電子線を走査し、該試料から発生
したＸ線の内、所定波長のＸ線に基づく検出パル
ス信号を該走査に同期した陰極線管に供給するよ
うにしたＸ線像表示装置において、該検出パルス
信号が供給される第１と第２のゲート回路と、該
検出パルス信号の各パルスに基づいて設定された
時間幅の第１のゲート信号と該第１のゲート信号
を反転した第２のゲート信号を発生し、夫々のゲ
ート信号を該第１と第２のゲート回路に供給する
ためのゲート信号発生回路と、該第１と第２のゲ
ート回路の出力パルス信号を切換えて前記陰極線
管に供給するためのスイツチ手段とを備え、一連
の該検出パルス信号の内直前のパルスから所定の
時間内に該第１のゲート回路に入るパルスのみ該
第１のゲート回路を通過させ、該第１のゲート回
路によつて消去されたパルスを第２のゲート回路
を通過させると共に、該第１のゲート信号の時間
幅を任意に変え得るように構成したことを特徴と
している。
以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述
する。
する。
第１図において１は電子銃であり、該電子銃１
から発生した電子線は収束レンズ２によつて試料
３上に細く収束される。該電子線は走査信号発生
回路４から走査信号が供給される偏向コイル５に
よつて偏向され、その結果試料３上で電子線は走
査される。該試料３への電子線の照射によつて該
試料からはＸ線が発生するが、該Ｘ線はＸ線分光
器６によつて特定波長のＸ線が選別され検出され
る。該検出されたパルス信号は波形整形回路７に
よつて波形整形された後、遅延回路８、第１と第
２のゲート回路９及び１０及びスイツチ１１に供
給される。該遅延回路８に供給されたパルス信号
は一定時間遅延された後ゲート信号発生回路１２
に供給される。該ゲート信号発生回路１２は供給
される各パルス信号に基づいて一定時間幅の第１
のゲト信号を作成して、第１のゲート回路９に供
給すると共に、該第１のゲート信号を反転した第
２のゲート信号を第２のゲート回路１０に供給す
る。該第１のゲート回路及び第２のゲート回路を
通過した信号は夫々スイツチ１１に供給される
が、該スイツチは波形整形回路７、第１のゲート
回路９、第２のゲート回路１０の出力信号を切換
えて走査信号発生回路４から走査信号が供給され
ている陰極線管１３に輝度信号として供給する。
から発生した電子線は収束レンズ２によつて試料
３上に細く収束される。該電子線は走査信号発生
回路４から走査信号が供給される偏向コイル５に
よつて偏向され、その結果試料３上で電子線は走
査される。該試料３への電子線の照射によつて該
試料からはＸ線が発生するが、該Ｘ線はＸ線分光
器６によつて特定波長のＸ線が選別され検出され
る。該検出されたパルス信号は波形整形回路７に
よつて波形整形された後、遅延回路８、第１と第
２のゲート回路９及び１０及びスイツチ１１に供
給される。該遅延回路８に供給されたパルス信号
は一定時間遅延された後ゲート信号発生回路１２
に供給される。該ゲート信号発生回路１２は供給
される各パルス信号に基づいて一定時間幅の第１
のゲト信号を作成して、第１のゲート回路９に供
給すると共に、該第１のゲート信号を反転した第
２のゲート信号を第２のゲート回路１０に供給す
る。該第１のゲート回路及び第２のゲート回路を
通過した信号は夫々スイツチ１１に供給される
が、該スイツチは波形整形回路７、第１のゲート
回路９、第２のゲート回路１０の出力信号を切換
えて走査信号発生回路４から走査信号が供給され
ている陰極線管１３に輝度信号として供給する。
上述した如き構成において、Ｘ線分光器６から
は第２図ａに示す如き一連のパルス信号が得られ
る。該パルス信号は波形整形回路７によつて第２
図ｂの如く波形整形された後遅延回路８によつて
遅延され（第２図ｃ）ゲート信号発生回路１２に
供給される。該回路１２は第２図ｃの信号に基づ
いて第２図ｄに示す一定時間幅Ｗのゲート信号を
発生し第１のゲート回路９に供給する。更に該回
路１２は第２図ｄの信号を反転した第２図ｅの信
号を発生し第２のゲート回路１０に供給する。こ
の結果第１のゲート回路９に供給される一連のパ
ルス信号の内直前のパルスから所定の時間内に該
ゲート回路９に入るパルスP5，P6，P7，P8が該回
路９を通過して第２図ｆに示す信号がスイツチ１
１に供給される。又第２のゲート回路１０に供給
される一連のパルス信号の内、該第１のゲート回
路９によつてカツトされたパルスP1，P2，P3，
P4，P9，P10が該第２のゲート回路１０を通過し
て第２図ｇに示す信号がスイツチ１１に供給され
る。ここでスイツチ１１を操作して波形整形回路
７の出力信号（第２図ｂ）を陰極線管１３に供給
すれば、バツクグラウンドノイズを含んだＸ線像
が表示される。又スイツチ１１によつて第１のゲ
ート回路９を通過したパルス信号（第２図ｆ）を
陰極線管１３に導けば、試料表面の特定元素の低
密度分布場所からのＸ線信号が消去されているた
め、表示されるＸ線像はバツクグラウンドノイズ
を含まない特定元素の高密度分布場所からのＸ線
信号に基づくものであり、鮮明な像が得られる。
さて、該第１のゲート回路９によつて消去される
信号の割合は第２図ｄに示すゲート信号の時間隔
Ｗを変化させることによつて変えることができ
る。例えば該幅Ｗを長くすればより多くのパルス
信号が通過し、逆に幅を狭くすれば、多くのパル
ス信号が消去されることになる。従つて該時間幅
Ｗを調整することによつて鮮明度の良い観察に適
したＸ線像を表示することができる。ここで該第
２のゲート回路１０の出力パルス信号をスイツチ
１１を介して陰極線管１３に供給すれば、バツク
グラウンドノイズとして消去される信号による像
が得られ、この像を観察しながら該幅Ｗを調整す
れば、消去される信号の割合を最適に選定するこ
とが可能となる。
は第２図ａに示す如き一連のパルス信号が得られ
る。該パルス信号は波形整形回路７によつて第２
図ｂの如く波形整形された後遅延回路８によつて
遅延され（第２図ｃ）ゲート信号発生回路１２に
供給される。該回路１２は第２図ｃの信号に基づ
いて第２図ｄに示す一定時間幅Ｗのゲート信号を
発生し第１のゲート回路９に供給する。更に該回
路１２は第２図ｄの信号を反転した第２図ｅの信
号を発生し第２のゲート回路１０に供給する。こ
の結果第１のゲート回路９に供給される一連のパ
ルス信号の内直前のパルスから所定の時間内に該
ゲート回路９に入るパルスP5，P6，P7，P8が該回
路９を通過して第２図ｆに示す信号がスイツチ１
１に供給される。又第２のゲート回路１０に供給
される一連のパルス信号の内、該第１のゲート回
路９によつてカツトされたパルスP1，P2，P3，
P4，P9，P10が該第２のゲート回路１０を通過し
て第２図ｇに示す信号がスイツチ１１に供給され
る。ここでスイツチ１１を操作して波形整形回路
７の出力信号（第２図ｂ）を陰極線管１３に供給
すれば、バツクグラウンドノイズを含んだＸ線像
が表示される。又スイツチ１１によつて第１のゲ
ート回路９を通過したパルス信号（第２図ｆ）を
陰極線管１３に導けば、試料表面の特定元素の低
密度分布場所からのＸ線信号が消去されているた
め、表示されるＸ線像はバツクグラウンドノイズ
を含まない特定元素の高密度分布場所からのＸ線
信号に基づくものであり、鮮明な像が得られる。
さて、該第１のゲート回路９によつて消去される
信号の割合は第２図ｄに示すゲート信号の時間隔
Ｗを変化させることによつて変えることができ
る。例えば該幅Ｗを長くすればより多くのパルス
信号が通過し、逆に幅を狭くすれば、多くのパル
ス信号が消去されることになる。従つて該時間幅
Ｗを調整することによつて鮮明度の良い観察に適
したＸ線像を表示することができる。ここで該第
２のゲート回路１０の出力パルス信号をスイツチ
１１を介して陰極線管１３に供給すれば、バツク
グラウンドノイズとして消去される信号による像
が得られ、この像を観察しながら該幅Ｗを調整す
れば、消去される信号の割合を最適に選定するこ
とが可能となる。
以上本発明を詳述したが、本発明は簡単な構成
でバツクグラウンドノイズを消去した鮮明なＸ線
像を得ることが可能であり、更には消去するノイ
ズ信号に基づく像を表示し得るように構成してい
るため、消去するノイズの割合を適正に選定する
ことが可能となる。
でバツクグラウンドノイズを消去した鮮明なＸ線
像を得ることが可能であり、更には消去するノイ
ズ信号に基づく像を表示し得るように構成してい
るため、消去するノイズの割合を適正に選定する
ことが可能となる。
第１図は本発明の一実施例を示すブロツク図、
第２図は第１図の実施例を説明するための信号波
形を示す図である。 １…電子銃、２…収束レンズ、３…試料、４…
走査信号発生回路、５…偏向コイル、６…Ｘ線分
光器、７…波形整形回路、８…遅延回路、９，１
０…ゲート回路、１１…スイツチ、１２…ゲート
信号発生回路、１３…陰極線管。
第２図は第１図の実施例を説明するための信号波
形を示す図である。 １…電子銃、２…収束レンズ、３…試料、４…
走査信号発生回路、５…偏向コイル、６…Ｘ線分
光器、７…波形整形回路、８…遅延回路、９，１
０…ゲート回路、１１…スイツチ、１２…ゲート
信号発生回路、１３…陰極線管。
Claims (1)
- １ 試料上で電子線を走査し、該試料から発生し
たＸ線の内、所定波長のＸ線に基づく検出パルス
信号を該走査に同期した陰極線管に供給するよう
にしたＸ線像表示装置において、該検出パルス信
号が供給される第１と第２のゲート回路と、該検
出パルス信号の各パルスに基づいて設定された時
間幅の第１のゲート信号と該第１のゲート信号を
反転した第２のゲート信号を発生し、夫々のゲー
ト信号を該第１と第２のゲート回路に供給するた
めのゲート信号発生回路と、該第１と第２のゲー
ト回路の出力パルス信号を切換えて前記陰極線管
に供給するためのスイツチ手段とを備え、一連の
該検出パルス信号の内直前のパルスから所定の時
間内に該第１のゲート回路に入るパルスのみ該第
１のゲート回路を通過させ、該第１のゲート回路
によつて消去されたパルスを第２のゲート回路を
通過させると共に、該第１のゲート信号の時間幅
を任意に変え得るように構成したＸ線像表示装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56055211A JPS57170452A (en) | 1981-04-13 | 1981-04-13 | X-ray image display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56055211A JPS57170452A (en) | 1981-04-13 | 1981-04-13 | X-ray image display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57170452A JPS57170452A (en) | 1982-10-20 |
| JPS6120109B2 true JPS6120109B2 (ja) | 1986-05-20 |
Family
ID=12992296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56055211A Granted JPS57170452A (en) | 1981-04-13 | 1981-04-13 | X-ray image display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57170452A (ja) |
-
1981
- 1981-04-13 JP JP56055211A patent/JPS57170452A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57170452A (en) | 1982-10-20 |
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