JPS61186188A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS61186188A JPS61186188A JP60025648A JP2564885A JPS61186188A JP S61186188 A JPS61186188 A JP S61186188A JP 60025648 A JP60025648 A JP 60025648A JP 2564885 A JP2564885 A JP 2564885A JP S61186188 A JPS61186188 A JP S61186188A
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- Japan
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- light
- laser
- mirror
- laser light
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はレーザ加工装置、とくに金属等の高反射率を
もつ被加工物も安定に加工できるものに関するものであ
る。
もつ被加工物も安定に加工できるものに関するものであ
る。
第4図は例えば特開昭51−121892号公報に示さ
れた従来のレーザ加工装置の概念のみを抜粋した概略構
成図であり、CI)はレーザ媒質で、(2)は部分反射
鏡、(3)は全反射鏡、(4)は偏光選択用反射鏡であ
り、共振器内で光路を折返す折返しミラ+、 (51は
共振器内で光路を折返すことにより発生した直線偏光レ
ーザ光、(6)は外部にとり出された直線偏光したレー
ザ光、(7)は90°位相シフト反射鏡、+81は円偏
光レーザ光、(9)は集光レンズ、(IQは被加工物+
(88) は加工物からの反射光、αDは内部に
発生した直線偏光レーザ光(5)の電場方向が紙面に垂
直であることを示す矢印、 (66) (55)は
それぞれ被加工物からの反射光の反射鏡(7)による反
射光及び共振器へ入射した反射光を表わす。
れた従来のレーザ加工装置の概念のみを抜粋した概略構
成図であり、CI)はレーザ媒質で、(2)は部分反射
鏡、(3)は全反射鏡、(4)は偏光選択用反射鏡であ
り、共振器内で光路を折返す折返しミラ+、 (51は
共振器内で光路を折返すことにより発生した直線偏光レ
ーザ光、(6)は外部にとり出された直線偏光したレー
ザ光、(7)は90°位相シフト反射鏡、+81は円偏
光レーザ光、(9)は集光レンズ、(IQは被加工物+
(88) は加工物からの反射光、αDは内部に
発生した直線偏光レーザ光(5)の電場方向が紙面に垂
直であることを示す矢印、 (66) (55)は
それぞれ被加工物からの反射光の反射鏡(7)による反
射光及び共振器へ入射した反射光を表わす。
つぎに動作について説明する。鏡+21. (3+によ
り構成された共振器間を往復する光は、レーザ媒質(1
1により増幅される。レーザ媒質としてはガスレーザで
あればたとえば放電励起された循環ガスであり、ガラス
レーザであればフラッシュランプ等により励起されたガ
ラス体である。光路は折返しミラー(4)によって折返
されているので紙面に垂直な方向に電場成分をもつ光と
、平行な成分をもつ光との間に反射率の差が生じる。レ
ーザ光のコヒーレント効果より、より損失の少ない光が
共振器間に生成されるため、この場合折返しミラー(4
)での反射率が高い、すなわち損失の少ない紙面に垂直
な方向に電場成分をもつ直線偏光レーザ光(5)が発生
する。発生された直線偏光レーザ光(5)は外部に直線
偏光レーザ光(6)として1部とり出され、90゜位相
シフト反射鏡(7)により円偏光レーザ光(8)として
反射され、集光レンズ+S+により集光され、被加工物
Oqの加工を行なう。
り構成された共振器間を往復する光は、レーザ媒質(1
1により増幅される。レーザ媒質としてはガスレーザで
あればたとえば放電励起された循環ガスであり、ガラス
レーザであればフラッシュランプ等により励起されたガ
ラス体である。光路は折返しミラー(4)によって折返
されているので紙面に垂直な方向に電場成分をもつ光と
、平行な成分をもつ光との間に反射率の差が生じる。レ
ーザ光のコヒーレント効果より、より損失の少ない光が
共振器間に生成されるため、この場合折返しミラー(4
)での反射率が高い、すなわち損失の少ない紙面に垂直
な方向に電場成分をもつ直線偏光レーザ光(5)が発生
する。発生された直線偏光レーザ光(5)は外部に直線
偏光レーザ光(6)として1部とり出され、90゜位相
シフト反射鏡(7)により円偏光レーザ光(8)として
反射され、集光レンズ+S+により集光され、被加工物
Oqの加工を行なう。
従来のレーザ加工装置は以上のように構成されているの
で、高反射率の被加工物を加工する場合。
で、高反射率の被加工物を加工する場合。
被加工物からの反射光(88)がレーザ発振器内へ反射
光(55)として逆戻りし、鏡(21,+31間を往復
する間に増幅され共振器内部のレーザ光(5)ヲ著しく
増大させミラー(21,(31,+41を破壊する。も
しくは共振器内部のレーザ光(5)の不安定さを招き、
安定な加工が行えない等の問題点があったーまた反射鏡
(3)に数%の透過率をもたせ、内部強度の測定を行う
場合9反射光の為正確な値が測定できないなどの問題が
あった。
光(55)として逆戻りし、鏡(21,+31間を往復
する間に増幅され共振器内部のレーザ光(5)ヲ著しく
増大させミラー(21,(31,+41を破壊する。も
しくは共振器内部のレーザ光(5)の不安定さを招き、
安定な加工が行えない等の問題点があったーまた反射鏡
(3)に数%の透過率をもたせ、内部強度の測定を行う
場合9反射光の為正確な値が測定できないなどの問題が
あった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、高反射率の被加工物を加工する場合において
も、共振器を構成するミラーに衝撃を与えずに、安定な
レーザ光で加工できるレーザ加工装置を得ることを目的
とする。
たもので、高反射率の被加工物を加工する場合において
も、共振器を構成するミラーに衝撃を与えずに、安定な
レーザ光で加工できるレーザ加工装置を得ることを目的
とする。
この発明に係るレーザ加工装置は、共振器内の光路を折
返すミラーの1つを、直線偏光したレーザ光と90°電
場方向の異なるレーザ光に対し透過性のミラーで構成し
たものである。
返すミラーの1つを、直線偏光したレーザ光と90°電
場方向の異なるレーザ光に対し透過性のミラーで構成し
たものである。
この発明における共振器内の折返し用ミラーの1つは、
被加工物からの反射光をほとんど透過し。
被加工物からの反射光をほとんど透過し。
光路外部へとり出し2反射光による影響を与えなくさせ
る。
る。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例によるレーザ加工装置を示
す概略構成図である。図において(4)は折返しミラー
で、+41はこのミラー(4)の折返し表面に施され、
偏光方向により反射率が異なるコーティング層である。
す概略構成図である。図において(4)は折返しミラー
で、+41はこのミラー(4)の折返し表面に施され、
偏光方向により反射率が異なるコーティング層である。
+31は円偏光化された光で、 (aa) はこの
レーザ光(8)の加工物からの反射レーザ光であり、入
射レーザ光(8)と回転方向が逆の円偏光である。(6
6)は反射光(88)のうち90°位相シフト反射鏡(
7)により直線偏光化されたレーザ光で。
レーザ光(8)の加工物からの反射レーザ光であり、入
射レーザ光(8)と回転方向が逆の円偏光である。(6
6)は反射光(88)のうち90°位相シフト反射鏡(
7)により直線偏光化されたレーザ光で。
α2はこのレーザ光(66)の電場ベクトルの方向を示
す矢印である。(56)は折返しミラー(4)により外
部に取出された反射光で、α3はこの反射光(56)を
吸収するレーザ光吸収体である。
す矢印である。(56)は折返しミラー(4)により外
部に取出された反射光で、α3はこの反射光(56)を
吸収するレーザ光吸収体である。
次に動作について説明する。ミラー(2+、 +41.
+31を往復する光はレーザ媒質fi+により増幅さ
れる。
+31を往復する光はレーザ媒質fi+により増幅さ
れる。
折返しミラー(4)の表面には2紙面垂直方向に電場ベ
クトルが偏波したレーザ光の反射率が、平行方向に偏波
したレーザ光に比較して高くなるようにコーティング層
0瘤が施されている為紙面垂直方向に電場グクトルが偏
波したレーザ光に対する損失が共振器内にて低く、より
損失の低いレーザ光が発撮し、それに全体が揃うという
レーザの性質より2紙面垂直方向に電場ベクトルが偏波
したレーザ光(5)が発生する。発生した直線偏光レー
ザ光は90°位相シフト反射鏡(7)により円偏光化さ
れ。
クトルが偏波したレーザ光の反射率が、平行方向に偏波
したレーザ光に比較して高くなるようにコーティング層
0瘤が施されている為紙面垂直方向に電場グクトルが偏
波したレーザ光に対する損失が共振器内にて低く、より
損失の低いレーザ光が発撮し、それに全体が揃うという
レーザの性質より2紙面垂直方向に電場ベクトルが偏波
したレーザ光(5)が発生する。発生した直線偏光レー
ザ光は90°位相シフト反射鏡(7)により円偏光化さ
れ。
円偏光レーザ光(8)として集光レンズ(9)に導かれ
。
。
集光され被加工物Q(Iの加工を行う。被加工物からの
反射光(8日)は入射光(8)と回転方向の逆の円偏光
レーザ光として反射され、90°位相シフト反射鏡(7
)により反射するが、入射光(8]と回転方向が逆の円
偏光である為反射光(66)は入射光(61と90°
電場ベクトルの異なる電場ベクトル方向(lzとして反
射される。反射光(66)は共振器内に入射する。折返
しミラー(4)の表面に施されたコーティング層f4G
は矢印12方向に偏波したレーザ光(55)に対しては
透過率が高い為外部にレーザ光(56)として取出され
、光吸収体αりに吸収される。
反射光(8日)は入射光(8)と回転方向の逆の円偏光
レーザ光として反射され、90°位相シフト反射鏡(7
)により反射するが、入射光(8]と回転方向が逆の円
偏光である為反射光(66)は入射光(61と90°
電場ベクトルの異なる電場ベクトル方向(lzとして反
射される。反射光(66)は共振器内に入射する。折返
しミラー(4)の表面に施されたコーティング層f4G
は矢印12方向に偏波したレーザ光(55)に対しては
透過率が高い為外部にレーザ光(56)として取出され
、光吸収体αりに吸収される。
なお、上記実施例では発生されたレーザ光のモニターは
行っていなかったが第2図に示すように1%程度の透過
率をもつコーティング層(至)を施した反射釧(31i
用いることにより、内部発生レーザ光(5)の1%程度
が外部にレーザ光(至)として取出される。前記レーザ
光(イ)を光検知器(141により検知することにより
内部レーザ光の強度をみつもることかできる。
行っていなかったが第2図に示すように1%程度の透過
率をもつコーティング層(至)を施した反射釧(31i
用いることにより、内部発生レーザ光(5)の1%程度
が外部にレーザ光(至)として取出される。前記レーザ
光(イ)を光検知器(141により検知することにより
内部レーザ光の強度をみつもることかできる。
また上記実施例では1回の折返し共振器のみを示したが
第3図に示すような2回の折返し、もしくはそれ以上の
折返しを行った共振器においても少なくとも1ケ所の折
返しミラーに前記コーティング層顛を施した折返しミラ
ー(4)t−用いれば全く同様の効果を奏する。
第3図に示すような2回の折返し、もしくはそれ以上の
折返しを行った共振器においても少なくとも1ケ所の折
返しミラーに前記コーティング層顛を施した折返しミラ
ー(4)t−用いれば全く同様の効果を奏する。
以上のように、この発明によれば共振器内の折返しミラ
ーの1つを光路を折返すことにより直線偏光したレーザ
光と90°電場方向の異なるレーザ光に対し透過性とな
るミラーで構成したので。
ーの1つを光路を折返すことにより直線偏光したレーザ
光と90°電場方向の異なるレーザ光に対し透過性とな
るミラーで構成したので。
例えば高反射率をもつ被加工物からの反射光により内部
強度が著しく高くなり共振器を構成するミラーを破壊す
ることを防ぐとともに反射光の共振によるレーザ光の不
安定さも防ぐ効果がある。
強度が著しく高くなり共振器を構成するミラーを破壊す
ることを防ぐとともに反射光の共振によるレーザ光の不
安定さも防ぐ効果がある。
第1図はこの発明の一実施例によるレーザ加工装置を示
す概略構成図、第2図及び第3図は各々この発明の他の
実施例によるレーザ加工装置を示す概略構成図、第4図
は従来のレーザ加工装置を示す概略構成図である。 図において、(1)はレーザ媒質、(2)は部分反射鏡
(3)は全反射鏡、(41は折返しミラー、 (4Gは
コーティング層、 f5+ (ss) (61(66
) ts+ (as)はレーザ光、(7)は90°位相
シフト反射鏡、顛は被加工物、(Iυα2はレーザ光の
電場ベクトル方向及びαJは光吸収体である。 なお2図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
す概略構成図、第2図及び第3図は各々この発明の他の
実施例によるレーザ加工装置を示す概略構成図、第4図
は従来のレーザ加工装置を示す概略構成図である。 図において、(1)はレーザ媒質、(2)は部分反射鏡
(3)は全反射鏡、(41は折返しミラー、 (4Gは
コーティング層、 f5+ (ss) (61(66
) ts+ (as)はレーザ光、(7)は90°位相
シフト反射鏡、顛は被加工物、(Iυα2はレーザ光の
電場ベクトル方向及びαJは光吸収体である。 なお2図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 共振器内で1回以上光路を折返すことにより直線偏光し
たレーザ光を円偏光化して被加工物を加工するものにお
いて、上記光路を折返すミラーの1つを、直線偏光した
上記レーザ光と90°電場方向の異なるレーザ光に対し
透過性のミラーで構成したことを特徴とするレーザ加工
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60025648A JPS61186188A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60025648A JPS61186188A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61186188A true JPS61186188A (ja) | 1986-08-19 |
JPH0366076B2 JPH0366076B2 (ja) | 1991-10-16 |
Family
ID=12171644
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60025648A Granted JPS61186188A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61186188A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001060550A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-03-06 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レーザビームのスペックル低減方法及びその装置、及びリソグラフィ装置 |
US8360793B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-01-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Connector fitting structure and electric apparatus using the same |
-
1985
- 1985-02-13 JP JP60025648A patent/JPS61186188A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001060550A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-03-06 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レーザビームのスペックル低減方法及びその装置、及びリソグラフィ装置 |
US8360793B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-01-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Connector fitting structure and electric apparatus using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0366076B2 (ja) | 1991-10-16 |
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