JPS6118561B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6118561B2 JPS6118561B2 JP1393177A JP1393177A JPS6118561B2 JP S6118561 B2 JPS6118561 B2 JP S6118561B2 JP 1393177 A JP1393177 A JP 1393177A JP 1393177 A JP1393177 A JP 1393177A JP S6118561 B2 JPS6118561 B2 JP S6118561B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- parts
- weight
- present
- composition
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 5
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTCQBHPIKOOLGB-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxyhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(O)OC(=O)C(C)=C LTCQBHPIKOOLGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFAOMSJMGEFTQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzenethiol Chemical compound COC1=CC=C(S)C=C1 NIFAOMSJMGEFTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLHCBQAPPJAULW-UHFFFAOYSA-N 4-methylbenzenethiol Chemical compound CC1=CC=C(S)C=C1 WLHCBQAPPJAULW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M sodium;9,10-dioxoanthracene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)[O-] SDKPSXWGRWWLKR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は活性光の照射により硬化し、硬化した
樹脂は熱処理により容易に分解し、蒸散する熱分
解性感光性樹脂組成物処理方法に関するものであ
る。
樹脂は熱処理により容易に分解し、蒸散する熱分
解性感光性樹脂組成物処理方法に関するものであ
る。
感光性樹脂に熱分解性を付与することにより、
レジストやバインダーとして用いた樹脂を加熱処
理のみによつて容易に除去することが可能にな
り、従来考えられなかつた用途にも応用できるよ
うになる。
レジストやバインダーとして用いた樹脂を加熱処
理のみによつて容易に除去することが可能にな
り、従来考えられなかつた用途にも応用できるよ
うになる。
従来、感光性樹脂組成物は数多く開発されてい
るが、その多くは印刷版、レジスト、インク等の
用途を目的としたものであり、活性光を照射した
後の樹脂の物性、特に強度、硬度等の機械的特性
や耐溶剤性、耐薬品性といつた点に重点がおかれ
て開発されたものである。従つて架橋度の比較的
高いものが多く、加熱処理によつて容易にかつ完
全に分解蒸散するものはない。特に非酸化性雰囲
気中ではカーボンその他の好ましくない物質を残
存させる。
るが、その多くは印刷版、レジスト、インク等の
用途を目的としたものであり、活性光を照射した
後の樹脂の物性、特に強度、硬度等の機械的特性
や耐溶剤性、耐薬品性といつた点に重点がおかれ
て開発されたものである。従つて架橋度の比較的
高いものが多く、加熱処理によつて容易にかつ完
全に分解蒸散するものはない。特に非酸化性雰囲
気中ではカーボンその他の好ましくない物質を残
存させる。
一方光硬化した樹脂を熱分解して除去しようと
いう試みは今まで全くなされていない。
いう試みは今まで全くなされていない。
類似の技術としてプラズマ灰化によるレジスト
膜の除去があるが、系を高真空下にしなければな
らず、装置が大掛りになつて好ましくない。
膜の除去があるが、系を高真空下にしなければな
らず、装置が大掛りになつて好ましくない。
本発明者らは単純な加熱処理のみによつて硬化
した樹脂を除去することを試み種々の組成物を鋭
意検討した結果特殊な樹脂組成物が、非酸化性雰
囲気中でも熱分解性のすぐれた光硬化樹脂を与え
ることを見出し本発明に至つた。
した樹脂を除去することを試み種々の組成物を鋭
意検討した結果特殊な樹脂組成物が、非酸化性雰
囲気中でも熱分解性のすぐれた光硬化樹脂を与え
ることを見出し本発明に至つた。
即ち、熱分解性重合体1〜50重量部および光重
合性単量体99〜50重量部の混合物100部に対し、
光重合開始剤0.1〜10重量部を加えてなる感光性
樹脂組成物を露光する工程と非酸化性雰囲気下で
加熱除去する工程とを含むことを特徴とする処理
方法に関する。
合性単量体99〜50重量部の混合物100部に対し、
光重合開始剤0.1〜10重量部を加えてなる感光性
樹脂組成物を露光する工程と非酸化性雰囲気下で
加熱除去する工程とを含むことを特徴とする処理
方法に関する。
本発明の熱分解性重合体とは熱によつて完全に
解重合または分解する重合体をいい、なかでも次
式()または()で示されるモノマーの単独重合
体またはこれらと他の共重合性モノマーとの共重
合体の群から選ばれたものが望ましい。
解重合または分解する重合体をいい、なかでも次
式()または()で示されるモノマーの単独重合
体またはこれらと他の共重合性モノマーとの共重
合体の群から選ばれたものが望ましい。
〔式中Rは水素またはメチル基、R′はC数1
〜12のアルキル基、R″はアルキル基、ハロアル
キル基を示す。〕 これらは単独あるいは2種以上の混合物として
も用いることができる。
〜12のアルキル基、R″はアルキル基、ハロアル
キル基を示す。〕 これらは単独あるいは2種以上の混合物として
も用いることができる。
これらのうちポリメチルメタクリレート、ポリ
―α―メチルスチレン、ポリスチレンおよびエチ
ルアクリレート―クロロエチルアクリレート共重
合体のようなアクリルゴムが非酸化性雰囲気中で
の熱分解性にすぐれている。
―α―メチルスチレン、ポリスチレンおよびエチ
ルアクリレート―クロロエチルアクリレート共重
合体のようなアクリルゴムが非酸化性雰囲気中で
の熱分解性にすぐれている。
用いる重合体の分子量は1万から200万の間で
任意に選択できる。分子量が高い場合は光重合性
単量体の割合を多くするなどして好みの粘度に調
整することができる。
任意に選択できる。分子量が高い場合は光重合性
単量体の割合を多くするなどして好みの粘度に調
整することができる。
本発明の光重合性単量体はいわゆるメタクリレ
ート類、アクリレート類、スチレンおよびその誘
導体であり、ジメタクリレート、トリメタクリレ
ート、テトラメタクリレートおよび相当するアク
リレートを含す。非酸化性雰囲気中での熱分解に
好適な例としてエチレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ヘキサンジ
オールメタクリレート、1,3―ブタンジオール
ジメタクリレート、1,4―ブタンジオールジメ
タクリレートおよび相当するアクリレート類があ
げられる。
ート類、アクリレート類、スチレンおよびその誘
導体であり、ジメタクリレート、トリメタクリレ
ート、テトラメタクリレートおよび相当するアク
リレートを含す。非酸化性雰囲気中での熱分解に
好適な例としてエチレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、
トリエチレングリコールジメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ヘキサンジ
オールメタクリレート、1,3―ブタンジオール
ジメタクリレート、1,4―ブタンジオールジメ
タクリレートおよび相当するアクリレート類があ
げられる。
また、単管能性単量体も用いることができる。
好適な例としてメチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、2―ヒドロキシエチルメタクリレ
ートおよび相当するアクリレート類、スチレン、
α―メチルスチレン、ジメチルスチレン等をあげ
ることができる。
好適な例としてメチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、2―ヒドロキシエチルメタクリレ
ートおよび相当するアクリレート類、スチレン、
α―メチルスチレン、ジメチルスチレン等をあげ
ることができる。
単管能性単量体を単独で用いる場合は加熱によ
り軟化する傾向にあるので成形を目的とする場合
は多官能性単量体を併用するのが望ましい。
り軟化する傾向にあるので成形を目的とする場合
は多官能性単量体を併用するのが望ましい。
本発明の光重合開始剤は通常知られている有機
系の光重合開始剤が用いられる。例えばベンゾイ
ン、α―メチルベンゾイン、α―メチルベンゾイ
ン、α―フエニルベンゾインのようなα―カルボ
ニルアルコール類、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル等のα―カルボ
ニルエーテル類、またアントラキノン―α―スル
ホン酸ナトリウム、1―クロルアントラキノン、
2―メチルアントラキノン、1,4―ナフトキノ
ン等のようなアントラキノン類、チオフエノー
ル、p―チオクレゾール、p―メトキシチオフエ
ノールのようなチオール類等が用いられる。
系の光重合開始剤が用いられる。例えばベンゾイ
ン、α―メチルベンゾイン、α―メチルベンゾイ
ン、α―フエニルベンゾインのようなα―カルボ
ニルアルコール類、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインイソプロピルエーテル等のα―カルボ
ニルエーテル類、またアントラキノン―α―スル
ホン酸ナトリウム、1―クロルアントラキノン、
2―メチルアントラキノン、1,4―ナフトキノ
ン等のようなアントラキノン類、チオフエノー
ル、p―チオクレゾール、p―メトキシチオフエ
ノールのようなチオール類等が用いられる。
本発明に用いる熱分解性重合体と光重合性単量
体との割合は、非酸化性雰囲気中で熱処理する場
合に重要である。それぞれの割合は次の範囲にあ
るものが望ましい。
体との割合は、非酸化性雰囲気中で熱処理する場
合に重要である。それぞれの割合は次の範囲にあ
るものが望ましい。
熱分解性重合体 1〜50重量部
光重合性単量体 99〜50重量部
更に詳しくは
熱分解性重合体 2〜30重量部
光重合性単量体 98〜70重量部
である。
また、光重合開始剤の量は、上記混合物100部
に対して、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重
量部である。
に対して、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重
量部である。
更に必要に応じて熱重合禁止剤、溶媒等を加え
ることができる。熱重合禁止剤としてはハイドロ
キノン、メチルハイドロキノン、t―ブチルカテ
コール、ピロガロール、2,6―ジ―t―ブチル
―p―クレゾール等が使用できる。使用量は上記
混合物100部に対して0.01〜1重量部程度で、熱
的な重合を抑えることができる。
ることができる。熱重合禁止剤としてはハイドロ
キノン、メチルハイドロキノン、t―ブチルカテ
コール、ピロガロール、2,6―ジ―t―ブチル
―p―クレゾール等が使用できる。使用量は上記
混合物100部に対して0.01〜1重量部程度で、熱
的な重合を抑えることができる。
溶媒の添加は系の粘度を下げたい場合や固体を
液状にしたい場合に有効である。
液状にしたい場合に有効である。
本発明の樹脂組成物の特徴は感光性であつて且
つ硬化した樹脂が容易に熱分解して完全に蒸散す
ることにある。特に非酸化性雰囲気中であつても
完全に分解除去できることにある。即ち活性光線
の照射によつて即硬化し、光成形ができる特性を
持ち、しかも簡単な熱処理のみによつて硬化した
樹脂が完全に分解除去できる点にある。
つ硬化した樹脂が容易に熱分解して完全に蒸散す
ることにある。特に非酸化性雰囲気中であつても
完全に分解除去できることにある。即ち活性光線
の照射によつて即硬化し、光成形ができる特性を
持ち、しかも簡単な熱処理のみによつて硬化した
樹脂が完全に分解除去できる点にある。
活性光線の光源としては紫外線螢光灯、高圧水
銀灯、カーボンアーク灯、太陽光等があげられ
る。
銀灯、カーボンアーク灯、太陽光等があげられ
る。
熱処理条件は使用目的によつて異なるが本発明
の組成物の光硬化物を分解除去するためには300
℃以上、望ましくは400℃以上に加熱することが
必要である。
の組成物の光硬化物を分解除去するためには300
℃以上、望ましくは400℃以上に加熱することが
必要である。
熱処理の雰囲気には特に制約はない。しかし本
発明の組成物の特徴は非酸化性雰囲気中であつて
も光硬化物の完全な分解除去ができる点にある。
非酸化性ガスの例としては窒素、アルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガスおよび水素等の還元性ガスが
あげられる。
発明の組成物の特徴は非酸化性雰囲気中であつて
も光硬化物の完全な分解除去ができる点にある。
非酸化性ガスの例としては窒素、アルゴン、ヘリ
ウム等の不活性ガスおよび水素等の還元性ガスが
あげられる。
本発明の樹脂組成物は次のような用途に使用さ
れる。
れる。
レジスト膜として用いた場合、エツチング後加
熱処理することによつて容易に完全に分解除去で
きる。
熱処理することによつて容易に完全に分解除去で
きる。
これらの用途以外にも窯業関係その他に本発明
の特徴を生かした用途は数多く、利用価値の高い
ものである。
の特徴を生かした用途は数多く、利用価値の高い
ものである。
次に実施例によつて具体的に説明するが、本発
明を限定するものではない。
明を限定するものではない。
実施例 1
ポリメチルメタクリレート(平均分子量約10
万)10gをメチルメタクリレート25g、エチレン
グリコールジメタアクリレート25gに溶解しベン
ゾインエチルエーテル0.5gおよび2,6―ジ―t
―ブチル―p―クレゾール0.05gを添加し、感光
性樹脂組成物を得た。得られた組成物を約200μ
の厚みに流延し、紫外線螢光灯(40W×10本)で
1分間露光し、得られたものの熱分析を空気中お
よび窒素気流中で行つたところいずれも900℃焼
成後の残存量はゼロであつた。
万)10gをメチルメタクリレート25g、エチレン
グリコールジメタアクリレート25gに溶解しベン
ゾインエチルエーテル0.5gおよび2,6―ジ―t
―ブチル―p―クレゾール0.05gを添加し、感光
性樹脂組成物を得た。得られた組成物を約200μ
の厚みに流延し、紫外線螢光灯(40W×10本)で
1分間露光し、得られたものの熱分析を空気中お
よび窒素気流中で行つたところいずれも900℃焼
成後の残存量はゼロであつた。
(昇温速度10℃/min、流速600ml/min)
また、得られた組成物を鉄板上に20μの厚みに
途布し、ホトマスクを介して紫外線螢光灯に30秒
間露光し、非露光部の樹脂を終等で拭きとり鉄板
上に硬化物のパターンを作成した。このものを塩
化鉄を含有するエツチング液に浸漬し硬化した樹
脂のない部分をエツチングした。
途布し、ホトマスクを介して紫外線螢光灯に30秒
間露光し、非露光部の樹脂を終等で拭きとり鉄板
上に硬化物のパターンを作成した。このものを塩
化鉄を含有するエツチング液に浸漬し硬化した樹
脂のない部分をエツチングした。
次いでこの鉄板を900℃まで窒素雰囲気中で焼
成したところ硬化した樹脂はすべて分解蒸散し模
様づけされた鉄板が得られた。
成したところ硬化した樹脂はすべて分解蒸散し模
様づけされた鉄板が得られた。
実施例 2
ポリメチルメタクリレート(平均分子量約20
万)30g、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート70gおよびベンゾインエチルエーテル1gをよ
く混合し、感光性組成物を得た。
万)30g、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート70gおよびベンゾインエチルエーテル1gをよ
く混合し、感光性組成物を得た。
実施例1と同様に光硬化したものの熱分析を空
気中および窒素中で行つたところ900℃における
残存量はいずれもゼロであつた。
気中および窒素中で行つたところ900℃における
残存量はいずれもゼロであつた。
実施例 3
ポリ―α―メチルスチレン(平均分子量約
35000)25g、メチルメタクリレート50g、ジエチ
レングリコールジメタクリレート25g、ベンゾイ
ンメチルエーテル1gおよび2,6―ジ―t―ブ
チル―p―クレゾール0.1gをよく混合し感光性樹
脂組成物を得た。
35000)25g、メチルメタクリレート50g、ジエチ
レングリコールジメタクリレート25g、ベンゾイ
ンメチルエーテル1gおよび2,6―ジ―t―ブ
チル―p―クレゾール0.1gをよく混合し感光性樹
脂組成物を得た。
実施例1と同様にして光硬化したものの熱分析
を窒素中、および空気中で行つたところ900℃に
おける残存量はゼロであつた。
を窒素中、および空気中で行つたところ900℃に
おける残存量はゼロであつた。
また、得られた組成物をアルミニウム板上に30
μの厚みに塗布しホトマスクを介して紫外線螢光
灯に40秒間露光し、非露光部の樹脂を紙等で拭き
とり現像した。
μの厚みに塗布しホトマスクを介して紫外線螢光
灯に40秒間露光し、非露光部の樹脂を紙等で拭き
とり現像した。
得られた硬化樹脂のパターンを有するアルミニ
ウム板をリン酸水溶液に浸漬しエツチングを行つ
た。次いでこのものを800℃まで窒素気流中で焼
成したところ硬化した樹脂はすべて分解蒸散し、
模様づけされたアルミニウム板が得られた。
ウム板をリン酸水溶液に浸漬しエツチングを行つ
た。次いでこのものを800℃まで窒素気流中で焼
成したところ硬化した樹脂はすべて分解蒸散し、
模様づけされたアルミニウム板が得られた。
実施例 4
ポリスチレン(平均分子量約15万)20g、スチ
レン30g、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート50gおよびベンゾインイソプロピルエーテル
1gをよく混合し感光性樹脂組成物を得た。
レン30g、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート50gおよびベンゾインイソプロピルエーテル
1gをよく混合し感光性樹脂組成物を得た。
このものを実施例1と同様の方法で光硬化し、
熱分析を窒素中および空気中で行つた。900℃に
おける残存量はゼロであつた。
熱分析を窒素中および空気中で行つた。900℃に
おける残存量はゼロであつた。
実施例 5
アクリルゴム(グツドリツチ社製
HYCAR4021)3gをテトラエチレングリコールジ
メタクリレート97gに溶解し、ベンゾインイソブ
チルエーテル1gを添加して感光性樹脂組成物を
得た。この組成物を実施例1と同様に光硬化させ
窒素気流中で熱分析を行つたところ、900℃にお
ける残存量はゼロであつた。
HYCAR4021)3gをテトラエチレングリコールジ
メタクリレート97gに溶解し、ベンゾインイソブ
チルエーテル1gを添加して感光性樹脂組成物を
得た。この組成物を実施例1と同様に光硬化させ
窒素気流中で熱分析を行つたところ、900℃にお
ける残存量はゼロであつた。
Claims (1)
- 1 熱分解性重合体1〜50重量部および光重合性
単量体99〜50重量部の混合物100重量部に対して
光重合開始剤0.1〜10重量部を加えて成る熱分解
性感光性樹脂組成物を露光する工程と非酸化性雰
囲気下で加熱除去する工程とを含むことを特徴と
する処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1393177A JPS5399292A (en) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | Heat decomposable photosensitive resin composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1393177A JPS5399292A (en) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | Heat decomposable photosensitive resin composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5399292A JPS5399292A (en) | 1978-08-30 |
JPS6118561B2 true JPS6118561B2 (ja) | 1986-05-13 |
Family
ID=11846922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1393177A Granted JPS5399292A (en) | 1977-02-10 | 1977-02-10 | Heat decomposable photosensitive resin composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5399292A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3022418B2 (ja) * | 1997-07-09 | 2000-03-21 | 日本電気株式会社 | レジスト材料およびそれを用いたレジストパターン形成方法 |
CA2654814C (en) * | 2006-06-09 | 2014-03-11 | Dentsply International Inc. | Photopolymerizable and photocleavable resins and low shrink and low stress composite and compositions |
JP5260505B2 (ja) | 2006-06-09 | 2013-08-14 | デンツプライ インターナショナル インコーポレーテッド | 低応力流動性歯科用組成物 |
-
1977
- 1977-02-10 JP JP1393177A patent/JPS5399292A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5399292A (en) | 1978-08-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3264103A (en) | Photopolymerizable relief printing plates developed by dry thermal transfer | |
EP0076028B1 (en) | Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates | |
CA1054840A (en) | Photosensitive composition using maleic anhydride adduct of a 1,2,polybutadiene | |
CA1092410A (en) | Polymeric resist mask composition | |
JPS5994B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JPS62500404A (ja) | 硬化、放射線感受性重合可能樹脂の後処理 | |
KR20120002572A (ko) | 나노임프린트용 경화성 조성물 및 경화물 | |
US3884696A (en) | Positive photoresist comprising polysulfones formed by reacting vinyl aromatic hydrocarbons with sulfur dioxide | |
GB2123161A (en) | Method and developer for forming micro-patterns | |
JP3228193B2 (ja) | ネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | |
CA1177684A (en) | Post-exposure treatment of a relief printing plate with a solution of persulfate salt and carboxylic acid | |
CA1137804A (en) | Forming a printing plate by exposing a structure comprising an overlamina of unsaturated natural-like rubber and an underlamina of copolymer and a crosslinkable monomer | |
US4278753A (en) | Plasma developable photoresist composition with polyvinyl formal binder | |
JPS606941A (ja) | 印刷版の製造法 | |
JPS6118561B2 (ja) | ||
JPS592018B2 (ja) | カイリヨウサレタカンコウセイジユシソセイブツカラナルゲンケイ | |
JPS645691B2 (ja) | ||
JPH0117141B2 (ja) | ||
JP3153862B2 (ja) | スチレン/マレエート三元重合体 | |
JPH08283199A (ja) | フラーレン誘導体、樹脂組成物及びその硬化物 | |
JPH04361265A (ja) | 剥離液 | |
CN104387523A (zh) | 含倍半萜内酯成膜树脂及其正性干法曝光193nm光刻胶 | |
US4243742A (en) | Radiation-sensitive positively acting materials | |
Carbaugh et al. | Lithographic tone reversal in optical exposure of polymethyl methacrylate (PMMA) resist | |
JPS6053041B2 (ja) | 貯蔵安定性の良好な感光性樹脂組成物 |