JPS61184838A - 半導体素子 - Google Patents

半導体素子

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JPS61184838A
JPS61184838A JP60024522A JP2452285A JPS61184838A JP S61184838 A JPS61184838 A JP S61184838A JP 60024522 A JP60024522 A JP 60024522A JP 2452285 A JP2452285 A JP 2452285A JP S61184838 A JPS61184838 A JP S61184838A
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JP
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defective
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afb
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JP60024522A
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Teruya Sato
光弥 佐藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の属する分野] 本発明は、半導体素子、特に冗長向、路部を不良回路部
と置き換える手段として、ワイヤボンディング工程時に
、不良回路部を示す情報によりボンディングパッドへの
結線方法を変えるようにした半導体素子に関する。
[従来の技術] 現在、半導体技術の急激な進歩により、非常に大規模、
かつ高密度な半導体素子が多数開発されている。
このような状況において、これらの半導体素子のコスト
を決定する大きな要因として、素子の不良率がある。
そこで、この不良率を下げる方法として、半導体素子内
に冗長回路部を予め設けておき、テストの結果、不良と
判定された回路部を冗長回路部と置き換えようという方
法が従来から提案されている。
この置き換えの具体的な方法としては、下記に示す様な
方法があった。
■電気的ブOグラミング法 この方法は素子外部から電気的なプログラミングにより
不良回路部を冗長回路部と置き換えるものである。置き
換えを行なう回路部(以後ブOグラミング部と呼ぶ)の
構成には、多結晶シリコンヒユーズまたはEPROM(
もしくはEEPROM)が用いられている。この方法で
は、はぼ標準の試験装置をそのまま使用可能であるとい
う利点がある反面、半導体素子内に多結晶シリコンヒユ
ーズまたはEPROMもしくはEEPROMを構成する
必要があるため、設計の自由度が少なくなるという欠点
がある。また、特に多結晶シリコンヒユーズを用いる方
法では汚染が生じやすく、溶断した多結晶シリコンヒユ
ーズの再成長現象という問題もある。
■レーザプログラミング法 この方法は、半導体素子上のプログラミング部内の特定
多結晶シリコンパターンをレーザ照割で切断することに
より不良回路部を冗長回路部と置き換えるものである。
この方法はプログラミング部の占有面積が小さく出来る
反面、高精度位置合せ機能付きレーザ照射装置という高
価なマシンが必要となる。また、レーザ照射時に蒸発し
た多結晶シリコンが飛散し、周囲の回路にダメージを与
えるという問題もある。
[発明の目的] 本発明は、上述2方式の欠点を除去する目的でなされた
もので、特別な装置を必要とせず、また、特に設計上の
制約を生ずることなしに、また、汚染等の発生なしにプ
ログラミングを可能とした半導体素子を提供するもので
ある。
[実施例の説明] 以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明をリード・ライトメモリー素子に適用
した実施例を示す。同図において、1はメモリーチップ
、2はブロック2−0へ2−3及び冗長ブロック2−4
よりなるメモリーセルアレイ、3は不良ブロックアドレ
ス指定入力AFBにより不良ブロック2−n (n =
 O〜3)を冗長ブロック2−4と置き換えるプログラ
ミング部、4は下位アドレスALWのドライバ、5はメ
モリーセルアレイ2に対してデータのリード・ライトを
行なうためのセンスアンプ及びライトアンプ、6はボン
ディングパッド、そして7はリードフレームに設けられ
たリードである。
また、信号系について説明すると、EXFはメモリーセ
ルアレイ2のブロック2−o〜2−3のいずれかが不良
である場合それをプログラミング部3に知らせるための
不良ブロック検出信号、AFBはプログラミング部3に
不良ブロックを知らせるために入力される不良ブロック
アドレス、AUPはメモリーセルアレイ2をアクセスす
る際ブロック指定を行なうために入力される上位アドレ
ス、ALWはメモリーセルアレイ2のブロック2−0〜
2−4の内の各メモリーセルを選択するために入力され
る下位アドレス、DATは入出力データである。
第2図は、第1図に示されていたプログラミング部3の
概略の構成を示す。同図において、EXF、AFB及び
ALIPは、それぞれ第1図に示されたものと同じ不良
ブロック検出信号、不良ブロックアドレス及び上位アド
レスである。また、12は上位アドレスALJPからブ
ロック2−0〜2−3のセレクト信号を作成する2/4
デコーダ、13はブロック2−4(冗艮部)を選択する
ためのセレクトライン、14はブロック2−θ〜2−3
を選択するためのセレクトライン、15は不良ブロック
アドレスAFBと上位アドレスAtJPの一致を検出す
るためのアドレス一致検出部、1Gは不良ブロックが検
出されてたときのみ冗長ブロック2−4と不良ブロック
アドレスで指定される不良ブロック2−nとの置き換え
を可能化するアンド回路である。
下表は、プログラミング部3の真理値を示す。
同表において、−はOおよび1のいずれでもよいことを
示し、Oはこのプログラミング部3によりセレクトされ
るブロック、×はブロック2−4で置換されるブロック
を示す。
EXF  AFB  2−0 2−1 2−2 2−3
 2〜4o   −−o   o   o   o  
 xl  00  X  ○  ○  0 01010
XOO○ 11000xOO 111000XO 第3図は、第1図の半導体素子を修復する装置を示す。
同図において、21はウェハ上のICチップのボンディ
ングパッドとテスタ25との電気的な接続を行なうため
のウエハブローバ、22はウェハを各ICチップに分離
するスクライバ、23は分離したICチップをリードフ
レームに固定するダイボンダ、24はリードフレームに
固定されたICチップ上のボンディングパッド6(第1
図)とリードフレーム上のリード7(同図)との間の結
線を行なうワイヤボンダ、25はテスタである。
次に、上記構成に係る半導体素子(第1,2図)および
修復装置(第3図)の作用について説明する。
先ず、第1図を参照して、ウェハレベルのテスト時、つ
まりウエハブローバ21(第3図)によるテスト時にお
いては上位アドレスAUP及び下位アドレスALWによ
りメモリーセルアレイ2内の各メモリーセルが選択され
、データ入出力用のボンディングパッド6を通して、デ
ータDATのリード・ライトが行なわれる。
この事は従来のテスト方法と同様である。但し、ここで
はこのテスト時、始め不良ブロックアト;ノスAFB入
力として常に上位アドレスAUPとは別アドレスを入力
するか、または不良ブロック検出信号EXFを゛O″レ
ベル(不良ブロック無し)にしてテストを行なう。
もし、このテストの実行中に、不良メモリーセルが検出
されると、不良ブロック検出信号を“1″レベルに設定
するとともに、不良ブロックアドレスAFB入力には、
その時の上位アドレスAUPと同一のアドレスを設定す
る。プログラミング部3は、不良ブロック検出信号レベ
ルが” 1 ”であって、上位アドレスAUP入力と不
良ブロックアドレスAFB入力が一致した場合には上位
アドレスAUP入力により通常選択されるブロック2−
0〜2−3を選択せずブロック2−4、つまり冗長ブロ
ックを選択する様になっている。このことにより、不良
ブロックを除き、テストを続行する。
もし、以後のテストにおいて不良が検出されなければ、
このメモリーチップは不良ブロックアドレス入力に不良
ブロックアドレスデータAFBを設定することにより全
くの良品と同等に使用可能となるわけである。
第1図の半導体素子においては、この不良ブロックアド
レス入力に対する不良ブロックアドレスデータAFBの
設定をワイヤポンダニ程における結線方法により行なう
。つまり、ウェハブローバエ程において検出した不良ブ
ロックアドレスデータAFBを不良ブロック検出信号E
XFとともにワイヤホンダ24に伝え、ワイヤボンディ
ング時に不良ブロック検出信号用及び不良ブロックアド
レス入力用ボンディングパッド6とリード7間の結線を
この不良ブロック検出信号EXF及び不良ブロックアド
レスデータAFBにより行なうのである。
この場合、不良ブロック検出信号及び不良ブロックアド
レス入力用のリード7の電位はグランド側または電源側
のどちらかに決めておくと、より結線方法が明確となる
。また、各ボンディングパッド6をグランド側または電
源側のどちらかにプルダウンまたはプルアップして未結
線時のレベルを決めておけば、逆のレベルにするときだ
けワイヤボンディングを行なえばよく、工数を省略する
ことができる。例えば各ボンディングパッド6をグラン
ド側にプルダウンしておけば不良ブロック検出信号EX
F及び不良ブロックアドレスAFBについては゛1″レ
ベルに対応するボンディングパッドのみを結線すればよ
い。
次に、第3図の半導体素子修復装置におけるウェハ及び
情報の流れを示す。第3図に示されている21〜25の
各装置及びその構成は修復機能がない場合の従来から使
用されているものと同様のものである。また、実線で示
される矢印はウェハまたはICチップの流れを示すもの
であり、破線31はウエハブローバとテスタとの間の通
信を示すものであるがこれも従来例と同様である。
従来の修復機能がない場合においてはウニハブO−バ2
1に搬入されたウェハはテスタ25と電気的に接続され
てテストが行なわれ、この結果、不良と判断されたIC
チップにはウエハプローバ21がインクを打っていた。
そしてこのインクによる不良情報はダイボンダ23によ
り読み取られ、不良ICチップはリードフレームに取り
付けないという方法が用いられていた。
第3図の半導体素子を修復する装置ではテスタ25から
の不良ブロック検出信号EXB及び不良ブロックアドレ
スデータAFB<第2図参照)が一点鎖線で示される通
信線32によりワイヤボンダ24に伝達されている点で
従来の修復機能がない場合の構成と異なる。
ワイヤボンダ24はこのテスタ21から情報により先に
述べた様に救済可能な不良ICチップを選択的なワイヤ
ボンディングにより修復するのである。
[実施例の変形例] 上記実施例においては、tCパッケージの外に出るリー
ドと不良ブロックアドレス用ボンディングパッドとの間
の結線で修復を行なっていたが、これはICパッケージ
内の設定リード部(例えばグランドリード)と不良ブロ
ックアドレス用ボンディングパッド間の結線で行なうこ
とももちろん可能であり、この様にすればICパッケー
ジのリード数の節約になる。
また、上記実施例ではボンディングパッドとリード間の
結線方法の変更という手段を用いたが、これはもちろん
ボンディングパッドとボンディングパッド間、または、
リードとリード間の結線方法の変更であってもよい。
また、当然の事であるが本発明はメモリーに限定される
ものではなく、どの様な半導体素子にも適用可能である
[発明の効果1 以上説明したように本発明によると、ワイヤボンディン
グ工程時に、不良回路部を示す情報に基づいてボンディ
ングパッドへの結線方法を変えることによって冗長回路
部を不良回路部と置き変えることができるため、以下の
様な多大の効果が発現される。
■従来の装置の適用が可能であり高価な装置が不要であ
る。
■従来の工程の中で実施可能であり、工程の追加がない
■プロセスの変更が不要であり設計の自由度が大きい ■プログラミング時の汚染の問題がない
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に係るリード・ライトメモ
リーの構成を示すブロック配置図、第2図は、第1図に
おけるプログラミング部の構成図、 第3図は、第1図の半導体素子を修復する装置を示すブ
ロック回路図である。 1:メモリーチップ、2:メモリーセルアレイ、3ニブ
ログラミング部、4:下位アドレスドライバ、5:セン
スアンプ及びライトアンプ、6:ボンディングパッド、
7:リード、EXF:不良ブロック検出信号、AFB:
不良ブロックアドレス、AUP:上位アドレス、ALW
:下位アドレス入力、DAT :入出力データ、12:
  2/4デコーダ、13ニブロック2−4セレクトラ
イン、14ニブロック2−0〜2−3セレクトライン、
15ニアドレス一致検出部、16:冗長回路セレクト用
AND回路、21:ウエハプローバ、22ニスクライバ
、23:ダイボンダ、24:ワイヤボンダ、25:テス
タ、31:ウエハプローバ・テスタ間通信線、32:不
良ブロック検出信号及び不良ブロックアドレスデータ通
信線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  実素子中の特定回路部が不良の際この特定回路部と置
    き換え得る冗長回路部と、該特定回路部の入出力と冗長
    回路部の入出力とを切換える切換部と、該切換部の切換
    制御信号入力端子としての特定ボンディングパッドとを
    有し、上記冗長回路部と特定回路部との置き換えを、ワ
    イヤボンディング工程時に、プローブテストの結果に基
    く特定ボンディングパッドへの結線により行なうように
    したことを特徴とする半導体素子。
JP60024522A 1985-02-13 1985-02-13 半導体素子 Pending JPS61184838A (ja)

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JP60024522A JPS61184838A (ja) 1985-02-13 1985-02-13 半導体素子

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JP60024522A JPS61184838A (ja) 1985-02-13 1985-02-13 半導体素子

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