JPS61181561A - 基体、例えばガラスリボンに粉体材料を被覆する方法の改良、ならびに上記方法を実施する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、基体（特に、ガラスリボン）に粉体材料を被
覆することに関する。

（従来の技術） この場合、粉体材料を懸濁させたガス流が、ノズルから
間隔を置いて且つノズルに平行に設置したスリット付吸
引装置によって吸引される前に、基体表面にぶつかるよ
うな角度で、スリットで終わる分配ノズルによって上記
ガス流を上配基体上に放射する。

この種の技法は、例えば、板ガラスの製造ラインにおい
て、ガラスリボンに、その製造直後に、金属化合物の熱
分解によシ調製され特殊な性質（特に、光およびエネル
ギの反射特性およびまたは透過特性）をガラスに与える
金属酸化物層を被覆するだめに利用される。

粉体状態のハロゲン化合物（例えば、西独特許出願第３
．０１Ｑ０７７号に記載の化合物）は、例えば、フッ素
をドープした酸化スズから成る赤外線反射層の調製に使
用される。

（発明が解決しようとする問題点） 粉体材料を懸濁させたガス流を高温のガラスリボンに放
射した場合、粉体の一部のみが、ガラス上にとどまり、
高温の作用により、分解して所望の金属酸化物層を形成
する。大部分の粉体は、ガス流によシ駆動され、ノズル
から離して設置したスリット付吸引装置によってガス流
とともに吸引される。

（問題点を解決するための手段） 本発明の目的は、上記の公知の被覆法を改良して、基体
（特に、ガラス）上に沈着する粉体量を増加し、少量の
粉体で所望の被覆層を生成できるよう被覆法の効率を増
大することにある。

この目的は、本発明にもとづき、分配ノズルと吸引装置
との間の間隙に、粉体をチャージしたガスの少くとも１
つの渦流を形成、保持することによって、達成される。

（作　用） 本発明による上記の循環によって且つまた渦流中心のガ
スがほぼ固体として回転することによって、粉体粒子は
、短絡して直接に吸引装置に送られることはなく、逆忙
、回転され、従って、基体の被覆ゾーンにおける粉体の
平均滞在時間が延長され、粉体粒子は、多数回、上記基
体表面を掃過し、従って、沈着の可能性が著しく大きく
なる。

本発明の別の実施例にもとづき、被覆処理すべき基体の
平面に平行なガス流によって、相互に逆方向へ回転する
２つの渦流を形成、保持し、分配ノズルから基体表面に
放射される粉体のガス相サス（ンジョンに衝突させる。

（実施例） 添付の図面を参照して以下に本発明の詳細な説明する。

本発明は、任意の基体に対する粉体被覆に適用されるが
、実施例としては、”フロート”ガラスリボンの表面に
対する被覆を取上げる。

しかしながら、この実施例は、本発明を限定するもので
はない。本発明は、特に、ステンドガラスの分野におい
て、圧延装置で成形して徐冷炉で適切に冷却されるガラ
スに対する被覆にも適用できる。

図示の板ガラスの”フロート”式製造法では、ガラスリ
ボン１は、還元雰囲気の閉区画３内に設置した溶融スズ
浴２上で形成される。

上記区画３の端部において、ガラスリボン１は、スズ浴
２から上昇され、ローラ４上を矢印Ｆの方向へ徐冷炉５
を介して連続的に移送され、徐冷炉内で大気温度までゆ
っくり冷却される。スズ浴２の出口におけるガラスリボ
ンの温度は約６００℃である。

スズ浴２を含む区画３と徐冷炉５との間には、熱分解に
よって所望の金属酸化物層８を生成する粉体材料をガラ
スリボン１に被覆するゾーンＺが設けである。ゾーンＺ
の温度調節のため、ガラスリボンｌの上方およびまたは
下方には、加熱装置（図示してない）が設けである。

粉体材料（例えば、フッ素がドープされた酸化スズ層を
作製する場合は二フッ化ジブチルスズの微粉）を均一に
分配するため、ガラスリボン１の食中にわたって延び端
部にスリットを設けた分配ノズル１０を使用する。この
種のノズルは、仏特許出願第２，５４２，６３６号およ
び第２，５４２，６３７号に記載しである。

分配ノズル１０によって、粉体被覆材料は、ガス流中に
懸濁された粉体のサスにンジョン１２の形でガラスリボ
ン１上に放射される。分配ノズル１０の開口は、ガラス
リボンの僅か上方に配置する。粉体を含むガス流は、ガ
ラスリボンに向けられ、長さＳを掃過しだ後、吸引装置
１４を介して閉じたケーソン１５に入シ、次いで、ダク
ト１６を介して吸引される。吸込装置１４は、同じくス
リットで終わるノズルから成り、分配ノズル１０と同様
、ガラスリボン１の食中にわたって且つ分配ノズルに対
して距離Ｓを置いて平行に延びている。

ケーソン１５の壁１５′は、ノズル１０まで延長され、
被覆シー７２の高さを限定する天井を形成する。吸引装
置１４の直後には、粉体を含むガス流が被覆ゾーンＺか
ら出るのを防止するためほぼガラスリボン１に接する壁
１８が設けである。

被覆ゾーンＺのガラスリボン１の流れ方向の各側にも、
ガラスリボン１の表面に接するカーテンから成る閉鎖壁
（図示してない）が設けである。

分配ノズル１０１ケーソン１５および壁１８の位置およ
び寸法、ならびに、懸濁状態の粉体を含みノズル１０か
ら放射されるガス流１２およびスリット付吸引装置１４
により吸引されるガス流の流量および圧力は、分配ノズ
ル１０と吸引装置１４との間に安定なガス渦流２０が生
ずるよう、選択する。上記のノンラメータを変更すれば
、渦流２０の大きさおよび回転速度が変化する。

上記の渦流２０は、分配ノズル１０から放射されたガス
／粉体混合物が、ガラスリボンｌの表面を１回掃過した
だけで吸引装置１４によって吸引されるのを防止する。

即ち、渦流によって、上記ガス／粉体混合物は、回転さ
れて吸引前に、複数回、ガラスリボンの表面を掃過する
。更に、有効な粉体材料が吸引装置１４によって捕獲さ
れる量が最少となる。

従って、被覆操作の効率が改善され、同時に、吸引手段
における粉体の堆積が少なくなる。

本発明に係る方法を実施する装置の実施例を示す第２図
から明らかな如く、被覆シー７２は、フロート法のスズ
浴３と徐冷炉５との間に設けである。分配ノズル２４は
、ガラスリボン１へ向いている。分配ノズルは、ノズル
から放射されたガス／粉体流２５が、実質的に等しく、
それぞれ、ガラスリボンｌの流れ方向を示す矢印Ｆとは
逆の方向および矢印Ｆの方向へ向く２つの部分２５′、
２５″に分割されるよう、はぼ垂直に向けるのが好まし
い。

分配ノズル１０の上流および下流において、被覆ゾーン
Ｚは、ガスの送風チャンバ２６を形成する２つの、例え
ば、垂直な、隔壁２６′、２６″によって閉鎖されてい
る。高温ガスは、ズイプ２７によって上記チャンバ２６
に圧入される。

上記ガスは、次いで、ガラスリボン１とチャンバ２６の
隔壁２６′との間に設けたスリット２９を通って被覆シ
ー７２の内部に向う流れ２８の形で部分的に排出される
。

第１図の実施例の場合と同様、例えば、ガラス表面に接
するカーテンから成る壁（第２図には示してない）が、
被覆ゾーンの２つの縦方向側を閉鎖する。

第１図の設備に設けであるものと同一のタイプのスリッ
ト付吸引装置１４が、チャンバ２６に平行に配置してこ
のチャンバに接続してあり、それぞれ、円筒形、ｏイブ
から成るケーソン３０に至っている。ガスは、上記ケー
ソンからダクト３１を介して吸引される。

別の横方向ブローノズル３３が、分配ノズル２４のボデ
ーの下壁３４に沿って設けである。上記ブローノズル３
３によって、任意の温度の（好ましくは、高温の）補助
ガス流が、ノズル２４の壁３４に沿って流される。

このガス流は、ノソイプ３５および分配チャンバ３６か
ら供給され、ノズル２４のノーズを加熱すると同時に、
被覆ゾーンＺを加熱するか高温に保持する。

被覆ゾーンの高さは、それぞれ、吸引装置１４０口から
ブローノズル３３の口まで達する２つの壁３８によって
制限される。上記壁３８は、ガスが循環するデッドゾー
ンの生成を防止するため、円筒形アーチ形状を有する。

この構成にもとづき、分配ノズルの各側には、ガス／粉
体混合物から安定な渦流２０が生ずる。

これら２つの渦流２０は、逆の回転方向を有する。

外側にある流れは、特に、粉体を供給するので、粉体は
、循環され、複数回、ガラスリボン表面に接触する。従
って、上記ガラス表面への粉体沈着の可能性が実質的に
大きくなる。

本発明に係る方法を実施するための第３図の設備は、第
２図の設備と同一の装置から成る。しかしながら、ノＺ
イブ２７を介してチャンバ２６に導入されるガス容積を
増加し、同時に、吸引されるガス容積を増加し、場合に
よっては、分配ノズル２４から放射される粉体含有ガス
流を変更することによシ、被覆ゾーンＺのノズル２４の
各側には、回転方向が逆の２つの渦流４０．４２が得ら
れる。

更に、ケーソン３０およびダクト３１から吸引されたガ
ス容積が、上記の２つの渦流の生成に寄与する。すべて
のガス容積は、ガス流が安定な渦流４０．４２を形成す
るよう、定め、調節する。

かくして、所望の効果が達成される。即ち、被覆ゾーン
におけるガス／粉体混合物の滞在時間が延長される。

渦流の数、位置および大きさは、設備の幾何学的ノξラ
メータおよび吸引されたガス容積およびまたはブローさ
れたガス容積に依存する。

第２．３図の設備の場合、渦流現象は、分配ノズル２４
に関して対称である。

しかしながら、設備の幾何学的特徴または作動条件を非
対称として、非対称な渦流を得ることができる。

かくして、ノズルの上流および下流における粉体沈着の
可能性を実質的に同一にでき、あるいは、変えることが
できる。

（発明の効果） 以上説明したように本発明によれば、基体（特に、ガラ
ス）上に沈着する粉体量を増加し、少量の粉体で所望の
被覆層を生成できるため、被覆効率が改善され、従って
、粉体材料が著しく節減される。

本発明の改善にもとづき、渦流の寸法、即ち、径および
回転速度は、ノズルから放射されるガス容積およびまた
は吸引ガス容積を適切に修正することによって調節され
、従って、被覆ゾーンにおける粉体の滞在時間を変更し
て所望の長さを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る方法の簡単な実施例にもとづき
粉体材料を“フロート”ガラスリボンに被覆する設備の
図面、第２図は、分配ノズルの両側に渦流を形成する形
式の、粉体材料を”フロート″ガラスリボンに被覆する
設備の図面、第３図は、第２図の設備と同じであるが、
作動条件の変更にもとづき分配ノズルの各側に２つの渦
流を形成する形式の設備の図面である。 Ｚ：被覆ゾーン　ｌニガラスリボ／１０．２４：分配ノ
ズル　１２：ガス流　１４：吸引装置１５′、３８゛壁
　１８．２６′：壁　２０．４０゜４２：渦流　２６：
チャンパー　３３ニブローノズル

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体（例えば、ガラスリボン）に粉体材料を被覆
   する方法であって、粉体材料を懸濁させたガス流が、ノ
   ズルから間隔を置いて且つノズルに平行に設置したスリ
   ット付吸引装置によって吸引される前に、基体表面にぶ
   つかるような角度で、スリットで終わる分配ノズルによ
   って上記ガス流を上記基体上に放射する形式のものにお
   いて、粉体を懸濁させたガスの少くとも１つの渦流を分
   配ノズルと吸引装置との間の間隙に形成、保持すること
   を特徴とする方法。
2. （２）渦流の大きさおよび回転速度は、ノズルから放射
   されるガス容積およびまたは吸引されるガス容積を調節
   することによって調節することを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の方法。
3. （３）吸引されるガス容積を増加することによって回転
   方向が逆の２つの渦流（４０、４２）を形成、保持する
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記
   載の方法。
4. （４）ノズルの各側に１つまたは複数の渦流（２０、４
   ０、４２）を形成、保持することを特徴とする特許請求
   の範囲第１〜３項の１つに記載の方法。
5. （５）被覆ゾーン内にノズルボデーに沿って高温の補助
   ガス流をブローすることを特徴とする特許請求の範囲第
   １〜４項の１つに記載の方法。
6. （６）特許請求の範囲第１〜５項の１つに記載の方法を
   実施する装置であって、基体、特に、ガラスリボン（１
   ）の表面に向く分配ノズル（１０、２４）と、分配ノズ
   ル（１０、２４）の少くとも１つの側に設けてあって被
   覆ゾーン（Ｚ）を限定する壁（１８、２６′）と、被覆
   ゾーン（Ｚ）の内部に上記壁（１８、２６′）に平行に
   設けた吸引装置（１４）とを含む形式のものにおいて、
   被覆ゾーンの高さが、ノズル（１０、２４）と吸引装置
   （１４）との間に設けた壁（１５′、３８）によって限
   定してあることを特徴とする装置。
7. （７）被覆ゾーンの高さを限定する壁（１０、３８）が
   、半円形表面を有することを特徴とする特許請求の範囲
   第６項記載の装置。
8. （８）上壁（１０、３８）が、吸引装置（１４）の開口
   に達することを特徴とする特許請求の範囲第６、７項の
   １つに記載の装置。
9. （９）ノズル（２４）の側方には、ノズル（２４）に沿
   って高温の補助ガス流を送るブローノズル（３３）が設
   けてあることを特徴とする特許請求の範囲第６〜８項の
   １つに記載の装置。
10. （１０）上壁（３８）が、ブローノズル（３３）の開口
    に達することを特徴とする特許請求の範囲第９項記載の
    装置。
11. （１１）被覆ゾーン（Ｚ）の側面を限定する壁（２６′
    ）が、同時に、被覆ゾーン（Ｚ）に高温ガスを注入する
    ための開放チャンバ（２６）を形成することを特徴とす
    る特許請求の範囲第６〜１０項の１つに記載の装置。