KR910002528B1 - 기체에 분체 재료를 피복하는 방법의 개량과 상기 방법을 실시하는 장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

기체에 분체 재료를 피복하는 방법의 개량과 상기 방법을 실시하는 장치

제1도는, 본 발명에 관한 방법의 간단한 실시예에 의하여 분체재료를 "플로우트" 유리 리본에 피복하는 설비의 도면.

제2도는, 분배 노즐의 양측에 와류를 형성하는 형식의 분체 재료를 "플로우트" 유리 리본에 피복하는 설비의 도면.

제3도는, 제2도의 설비와 같으나, 작동 조건의 변경에 따른 분배 노즐의 각측에 2개의 와류를 형성하는 형식의 설비의 도면.

본 발명은 기체(특히 유리 리본)에 분체 재료를 피복함에 관한 것이다. 이 경우, 분체 재료를 현탁시킨 유리 흐름이 노즐로부터 간격을 두고, 그리고 노즐에 평행으로 설치한 슬릿에 있는 흡인 장치에 의하여 흡인 되기 전에 기체 표면에 부딪치는 각도로 슬릿에 의하여 끝나는 분배 노즐에 의하여 상기 유리 흐름을 상기 기체상에 방사한다.

이와같은 종류의 기법은, 예를 들면 판유리의 제조 라인에 있어서, 유리 리본에 그 제조 직후에 금속 화합물의 열분해에 의하여 조제되고 특수한 성질(특히 광과 에너지의 반사 특성과 또는 투과 특성)을 유리에 부여하는 금속 산화물층을 피복하기 위하여 이용된다.

분체 상태의 할로겐 화합물(예를 들면, 서독 특허출원 제3,010,077호에 기재의 화합물)은, 예를 들면, 불소를 도우프한 산화 주석으로써된 적외선 반사층의 조제에 사용된다.

분체 재료를 현탁시킨 유리 흐름을 고온의 유리 리본에 방사한 경우, 분체의 일부만이 유리상에 남아, 고온의 작용에 의하여 분해하여 소망의 금속 산화물층을 형성한다. 대부분의 분체는, 가스 흐름에 의하여 구동되어, 노즐로부터 떨어져서 설치한 슬릿에 있는 흡인 장치에 의하여 가스 흐름과 함께 흡인된다.

본 발명의 목적은, 상기의 공지의 피복법을 개량하여, 기체(특히 유리)상에 침착하는 분체량을 증가하여 소량의 분체로 소망의 피복층을 생성할 수 있도록 피복법의 효율을 증대함에 있다.

이 목적은, 본 발명에 의하여 분배 노즐과 흡인장치와의 사이의 간극에, 분체를 차지한 가스의 적어도 하나의 와류를 형성, 유지함으로써 달성된다.

본 발명에 의한 상기의 순환에 의하여, 그리고 또 와류 중심의 가스가 거의 고체로서 회전함으로써 분체입자는 단락하여 직접 흡인 장치에 보내짐이 없으며, 반대로 회전되어, 따라서, 기체의 피복존에 있어서 분체의 평균체 재시간이 연장되어, 분체 입자는 다수회 상기 기체 표면을 소과하며, 따라서 침착의 가능성이 현저하게 커진다.

이리하여 효율이 개선되며, 따라서 분체 재료가 현저하게 절감된다.

본 발명의 개선에 의하여, 와류의 치수, 즉 경과 회전 속도는 노즐로부터 방사되는 가스 용적과 또는 흡인 가스 용적을 적절히 수정함으로써 조절되며, 따라서 피복존에 있어의 분체의 체재시간을 변경하여 소망의 길이를 얻을 수가 있다.

본 발명의 다른 실시예에 의하여, 피복 처리할 기체의 평면에 평행한 가스 흐름에 의하여, 서로 반대 방향으로 회전하는 2개의 와류를 형성, 유지하여, 분배 노즐로부터 기체 표면에 방사되는 분체의 가스상 현탁액에 충돌시킨다.

이리하여 피복 효율이 더욱 개선된다.

다음에 첨부의 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다.

제1도는, 본 발명에 관한 방법의 간단한 실시예에 의하여 분체 재료를 "플로우트" 유리 리본에 피복하는 설비의 도면, 제2도는, 분배 노즐의 양측에 와류를 형성하는 형식의 분체 재료를 "플로우트"유리리본에 피복하는 설비의 도면, 제3도는, 제2도의 설비와 같으나, 작동 조건에 변경에 따라서 분배 노즐의 각 측에 2개의 와류를 형성하는 형식의 설비의 도면이다.

본 발명은, 임의의 기체에 대한 분체 피복에 적용되는데, 실시예로서는 "플로우트" 유리 리본의 표면에 대한 피복을 예로 든다. 그러나, 이 실시예는 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 본 발명은, 특히, 스테드 유리의 분야에 있어, 압연 장치에 의하여 성형하여 서냉로에서 적절히 냉각되는데, 유리에 대한 피복에도 적용할 수 있다.

도시의 판유리의 "플로우트"식 제조법에 있어는, 유리 리본(1)은, 환원 분위기의 폐구획(3)내에 설치한 용융 주석조(2)상에서 형성된다.

상기 구획(3)의 단부에 있어, 유리 리본(1)은, 주석조(2)로부터 상승되어, 로울러(4)상을 화살표(F)의 방향으로 서냉로(5)를 통하여 연속적으로 이송되며, 서냉로 내에서 대기온도까지 서서히 냉각된다. 주석조(2)의 출구에 있어의 유리 리본의 온도는 약 600℃이다.

주석조(2)를 포함한 구획(3)과 서냉로(5)와의 사이에는, 열분해에 의하여 소망의 금속 산화물층(8)을 생성하는 분체 재료를 유리 리본(1)에 피복하는 존(Z)가 형성되어 있다. 존(Z)의 온도 조절을 위하여, 유리리본(1)의 상방과 또는 하방에는, 가열장치(도시하지 않음)가 형성되어 있다.

분체 재료(예를 들면, 불소가 도우프된 산화 주석층을 제조할때는 2불화 디부틸 주석의 미분)를 균일하게 분배하기 위하여, 유리 노즐(1)의 전폭에 걸쳐서 뻗어 단부에 슬릿을 형성한 분배 노즐(10)을 사용한다. 이와 같은 종류의 노즐은, 불란서 특허출원 제2,542,636호와 제2,542,637호에 기재되어 있다.

분배 노즐(10)에 의하여, 분체 피복재료는, 가스 흐름중에 현탁된 분체의 현탁액(12)의 형태로 유리 리본(1)상에 방사된다. 분배 노즐(10)의 개구는, 유리 리본의 약 상방에 배치한다. 분체를 포함하는 가스 흐름은 유리 리본에 향하여, 길이(S)를 소과한 후, 흡인 장치(14)를 통하여 닫힌 케이손(15)에 들어오며, 이어서 닥트(16)을 통하여 흡인된다. 흡입장치(14)는 같이 슬릿에 의하여 끝나는 노즐로 이루어지고, 분배 노즐 (10)과 같이, 유리 리본(1)의 전폭에 걸쳐서, 그리고 분배 노즐에 대하여 거리(S)를 두고 평행으로 뻗어 있다.

케이손(15)의 벽(15')은, 노즐(10)까지 연장되어, 피복존(Z)의 높이를 한정하는 천정을 형성한다. 흡인장치(14)의 직후에는, 분체를 포함하는 가스 흐름이 피복존(Z)로부터 나옴을 방지하기 위하여 거의 유리 리본(1)에 접하는 벽(18)이 형성되어 있다.

피복존(Z)의 유리 리본(1)의 흐름 방향의 각측에도, 유리 리본(1)의 표면에 접하는 카텐으로 이루어진 폐쇄벽(도시하지 않음)이 형성되어 있다.

분배 노즐(10), 케이손(15)와 벽(18)의 위치와 치수, 그리고 현탁 상태의 분체를 포함하는 노즐(10)으로부터 방사되는 가스 흐름(12)와 슬릿이 있는 흡인 장치(14)에 의하여 흡인되는 가스 흐름의 유량과 압력은, 분배 노즐(10)과 흡인 장치(14)와의 사이에 안정한 가스 와류(20)이 생기도록 선택한다. 상기의 파라미터를 변경하면, 와류(20)의 크기와 회전속도가 변화한다.

상기의 와류(20)은 분배 노즐(10)으로부터 방사된 가스/분체 혼합물이, 유리 리본(1)의 표면을 단 1회 소과로써 흡인장치(14)에 의하여 흡인됨을 방지한다.

즉, 와류에 의하여 상기 가스/분체 혼합물은, 회전되어서 흡인전에 복수회, 유리 리본의 표면을 소과한다. 또한 유효한 분체 재료가 흡인장치(14)에 의하여 포획되는 양이 최소로 된다.

따라서 피복 조작의 효율이 개선되며, 동시에 흡인 수단에 있어서 분체의 퇴적이 적어진다.

본 발명에 관한 방법을 실시하는 장치의 실시예를 나타낸 제2도에 의하여 명백한 바와 같이, 피복존(Z)은 플로우트 법의 주석조(3)과 서냉로 (5)와의 사이에 형성되어 있다. 분배 노즐(24)는, 유리 리본(1)에 향해 있다. 분배 노즐은 노즐로부터 방사된 가스/분체 흐름(25)가 실질적으로 같으며, 각각 유리 리본(1)의 흐름 방향을 나타낸 화살표(F)와는 반대의 방향과 화살표(F)의 방향으로 향하는 2개의 부분(25')(25")로 분할 되도록 거의 수직으로 향함이 바람직하다.

분배 노즐(10)의 상류와 하류에 있어, 피복존(Z)은, 가스의 송풍 챔버(26)을 형성하는 2개의 예를 들면 수직의 격벽(25')(26")에 의하여 폐쇄되어 있다. 고온 가스는 파이프(27)에 의하여 상기 챔버(26)에 압입된다. 상기 가스는, 이어서 유리 리본(1)과 챔버(26)의 격벽(26')와의 사이에 형성한 슬릿(29)를 통하여 피복존(Z)의 내부에 향하는 흐름(28)의 형태로 부분적으로 배출된다.

제1도의 실시예의 경우와 같이, 예를 들면, 유리 표면에 접하는 카텐으로 이루어진 벽(제2도에는 도시하지 않음)이, 피복존의 2개의 종방향측을 폐쇄한다.

제1도의 설비에 형성해 있는 것과 동일한 형태의 슬릿이 있는 흡인장치(14)가 챔버(26)에 평행으로 배치하여 이 챔버에 접속해 있으며, 각각 원통형 파이프로 이루어진 케이손(30)에 이르고 있다. 가스는 상기 케이손으로부터 닥트(31)을 통하여 흡인된다.

다른 횡방향 블로우 노즐(33)이, 분배 노즐(24)의 보디의 하벽(34)에 따라서 형성해 있다. 상기 블로우 노즐(33)에 의하여, 임의의 온도의(바람직하기는 고온의) 보존 가스 흐름이, 노즐(24)의 벽(34)에 따라서 흘려진다.

이 가스 흐름은, 파이프(35)와 분배 챔버(36)으로부터 공급되어, 노즐(24)의 노즐을 가열함과 동시에, 피복존(Z)을 가열하든지 고온으로 유지한다.

피복존의 높이는, 각각 흡인장치(14)의 입구에서 블로우 노즐(33)의 입구까지 달하는 2개의 벽(38)에 의하여 제한된다. 상기 벽(38)은 가스가 순환하는 뎃존의 생성을 방지하기 위하여 원통형 아치 형상을 갖는다. 이 구성에 의하여, 분배 노즐의 각 측에는 가스/분체 혼합물로부터 안정한 와류(20)이 생긴다. 이들 2개의 와류(20)은, 반대의 회전방향을 갖는다. 외측에 있는 흐름은 특히 분체를 공급하므로, 분체는 순환되어 복수회 유리 리본 표면에 접촉한다. 따라서 상기 유리 표면에의 분체 침착의 가능성이 실질적으로 커진다.

본 발명에 관한 방법을 실시하기 위한 제3도의 설비는, 제2도의 설비와 동일한 장치로써 된다. 그러나 파이프(27)을 통하여 챔버(26)에 도입되는 가스 용적을 증가하고, 동시에 흡인되는 가스 용적을 증가하며, 경우에 따라서는, 분배 노즐(24)로부터 방사되는 분체 함유 가스 흐름을 변경함으로써, 피복존(Z)의 노즐(24)의 각 측에는, 회전 방향이 반대의 2개의 와류(40)(42)가 얻어진다.

또한 케이손(30)과 닥트(31)로부터 흡인된 가스 용적이, 상기의 2개의 와류의 생성에 기여한다. 모든 가스 용적은, 가스 흐름이 안정한 와류(40)(42)를 형성하도록 정하여 조절한다. 이리하여 소망의 효과가 달성된다. 즉 피복존에 있어서 가스/분체 혼합물의 체재 시간이 연장된다.

와류의 수 위치와 크기는, 설비의 기하학적 파라미터와 흡인된 가스 용적과 또는 블로우된 가스 용적에 의존한다.

제2, 3도의 설비의 경우, 와류 현상은, 분배 노즐(24)에 관하여 대칭이다. 그러나, 설비의 기하학적 특징 또는 작동 조건을 비대칭으로 하여, 비대칭의 와류를 얻을 수가 있다.

이리하여, 노즐의 상류와 하류에 있어의 분체 침착의 가능성을 실질적으로 동일하게 할 수 있으며, 또는 변경할 수가 있다.

Claims (11)

1. 기체에 분체 재료를 피복하는 방법으로서, 분체 재료를 현탁시킨 가스 흐름이, 노즐로부터 가격을 두고, 그리고 노즐에 평행으로 설치한 슬릿이 있는 흡인 장치에 의하여 흡인되기 전에 기체 표면에 충돌하는 각도로, 슬릿에 의하여 끝나는 분배 노즐에 의하여 상기 가스 흐름을 상기 기체상에 방사하는 형식의 것에 있어서, 분체를 현탁시킨 가스의 적어도 하나의 와류를 분배 노즐과 흡인장치와의 사이의 간극에 형성, 유지함을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 와류의 크기와 회전 속도는, 노즐로부터 방사되는 가스 용적과 또는 흡인되는 가스용적을 조절함으로써 조절함을 특징으로 하는 방법.
3. 제1 또는 2항에 있어서, 흡인되는 가스 용적을 증가함으로써 회전 방향이 반대의 2개의 와류(40)(42)를 형성, 유지함을 특징으로 하는 방법.
4. 제1 또는 2항에 있어서, 노즐의 각 측에 하나 또는 2개의 와류(20)(40)(42)를 형성, 유지함을 특징으로 하는 방법.
5. 제1 또는 2항에 있어서, 피복존내에 노즐 보디에 따라서 고온의 보조 가스 흐름을 블로우함을 특징으로 하는 방법.
6. 기체(1)의 표면에 향하는 분배 노즐(10)(24)과, 분배 노즐(10)(24)의 적어도 하나의 측에 형성되고 피복존(Z)을 한정하는 벽(18)(26')과, 피복존(Z)의 내부에 상기 벽(18)(26')에 평행으로 형성한 흡인장치(14)을 포함하는 형식의 것에 있어서, 피복존의 높이가 노즐(10)(24)와 흡인장치(14)와의 사이에 형성한 벽(15')(38)에 의하여 한정되어 있음을 특징으로 하는 기체에 분체를 피복하는 장치.
7. 제6항에 있어서, 피복존의 높이를 한정하는 벽(10)(38)이, 반원형 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
8. 제6 또는 7항에 있어서, 상벽(10)(38)이, 흡인장치(14)의 개구에 달함을 특징으로 하는 장치.
9. 제6 또는 7항에 있어서, 노즐(24)의 측방에는, 노즐(24)에 따라서 고온의 보조 가스 흐름을 보내는 블로우 노즐(33)이 형성되어 있음을 특징으로 하는 장치.
10. 제9항에 있어서, 상벽(38)이, 블로우 노즐(33)의 개구에 달함을 특징으로 하는 장치.
11. 제6 또는 7항에 있어서, 피복존(Z)의 측면을 한정하는 벽(26')이, 동시에 피복존(Z)에 고온 가스를 주입하기 위한 개방 챔버(26)을 형성함을 특징으로 하는 장치.

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