JPS6118129B2 - - Google Patents

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JPS6118129B2
JPS6118129B2 JP51105430A JP10543076A JPS6118129B2 JP S6118129 B2 JPS6118129 B2 JP S6118129B2 JP 51105430 A JP51105430 A JP 51105430A JP 10543076 A JP10543076 A JP 10543076A JP S6118129 B2 JPS6118129 B2 JP S6118129B2
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JP
Japan
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ray
tube
camera
stress
rays
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JP51105430A
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English (en)
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JPS5331188A (en
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Tooru Goto
Yasutsugu Kawabe
Ryoichi Shimizu
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Shimazu Seisakusho KK
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Shimazu Seisakusho KK
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、管、特に比較的細い管内のX線応
力測定法および装置に関するものである。
例えば熱交換器のようなもので管を管板に取付
けるには、通常、拡管法が用いられる。この場合
管内には複雑な残留応力が分布しているものと考
えられるが、この応力分布は管の厚みの方向だけ
でなく、管の内面においても複雑であると考えら
れ、その応力分布状態を明確に知るには、測定面
積の小さい方法及び非破壊的測定法が不可欠あつ
て、その方法としてはX線による応力測定法が唯
一のものである。本発明はX線による応力測定法
を比較的細い管内の応力測定に有利に適用するこ
とを可能とする方法および装置を提供しようとす
るものである。
本発明は、比較的細い管内の応力をX線法によ
り測定するために、X線管球を管の外に出して配
置し、管外のX線球から発出したX線束をダブル
ピンホールにより絞つて細束とし、このX線の細
束をモノクロメータに利用される結晶により管内
で屈折させて、応力測定に必要な光学系を管内で
得ようとすることを特徴とする。回折X線の検出
にはフイルムを用いて、カメラを極力小さくす
る。
カメラによる測定精度を左右する因子には次の
三点が考へられる。その一つは回折能の分解能、
その二はフイルムとX線照射位置間距離(カメラ
長)の計測精度、その三は一つの応力測定時にお
けるX線照射位置の移動量である。この発明によ
るX線応力測定法を実施するためのX線写真撮影
装置は上記の諸点を考慮して工夫されている。
以下図面について従来及び本発明のX線応力測
定法および装置を説明する。
第1図はX線応力測定法の原理を図解するもの
で、X線応力測定法は、第1図に示すように、試
料Sの応力測定位置に立てた法線OPと応力方向
OQを含む平面a内に回折面の法線を持つ結晶粒
群から、最低2つ以上の異なる方位(試料面法線
とX線入射ビームとの角)の回折面間隔dを計測
し、そのsin2Ψに対する変化率から内部応力を求
める。
第1図のような計測を行うために、例えば第2
図のようなカメラ1が市販されている。第2図で
1はカメラ本体、2はホルダー、3はX線管球、
4はフイルムカセツト、5はスリツト、6はX線
行路、Yはカメラ回転中心、Rはカメラ長、lは
最小限必要スペースである。このようなカメラを
用いて管内の応力測定を行うためには、例えばΨ
を30゜までとるとして、管内円周方向の応力測定
状況を第3図に示す。同図は通常の方法(他に側
傾法がある)による応力測定法を示すもので、応
力測定は円周方向であり、スペース的に楽である
が、それでも、かなり大きい内径を有する管でし
か測定出来ないことが理解できる。即ち、X線管
球3が最小限装入できる必要スペースlを有する
直径以上の管6でしか測定できない。更に管の長
手方向の応力測定の場合には、管の内径が更に大
きいことが必要となる。なお、同図において−η
は90゜−θ(回折面法線と回折X線との角)であ
り、θは回折角である。
以上検討したところから、現状で測定可能な管
の最小内径は、カメラ長Rを10mmとしても150φ
程度となる。
本発明はX線応力測定法を比較的直径が小さい
細管に適用可能とするものであり、第3図から明
らかなように、本法を細管に適用するには、X線
管球3を管外に置くものとする。
本発明を実施するカメラは次の三つの素子、即
ち、入射X線屈折機構、フイルム装着部及び保持
部を備えている。これを、以下に第4図乃至第7
図について説明する。
第4図はX線屈折機構の要領を示すもので、第
4図に示すように、同機構は結晶10と前後にd
φのピンホール11′及び11″を有するダブルピ
ンホール方式のスリツト11からなつている。ス
リツト11は結晶10へ入射するX線12の方向
を決めると共にX線束を絞る。結晶10はX線1
2を矢印12′で示す入射X線のように屈折させ
て試料Sの面に入射させる。結晶面と結晶−スリ
ツト軸ABのなす角θはX線波長と結晶の面で
決まる値であり、試料Sに入射する角度(入射角
Ψ)は、θとともに、結晶−スリツト軸AB
の試料に対する角度で決定される。
X線応力測定において基本的な入射X線状況を
Ni管について第5図A及びBに示す。同図にお
いて、AはΨ=0の状態、BはΨ=45゜の状態
である。なお図において、6はNi管、10はLiF
(420面)又はLiF(200面)の結晶、0は測定位
置を示す。また、CuK2は銅から出る特性X線
を示し、これはX線管のターゲツトに銅を使用し
たときに出るX線のうちの特定なものである。
フイルム装着部について説明すると、解像力は
カメラ長に比例するので、フイルム13の装着位
置はX線照射位置から出来るだけ離すことが望ま
しい。たゞし、入射角のふり分け等でその制限は
生じる。フイルム装填法としては、円筒式又は平
面式のいずれかとすることができる。カメラ長の
計測には、2つ以上の回折面からの回折像を用い
る。そのために、検出部は十分な角度的余裕を持
つている。
カメラ保持部は上記の入射X線屈折機構10,
11とフイルム装着部14を幾何的に正しく固定
するカメラ本体15であり、入射角θの設定を
容易にするよう回転機構(図示しない)を有し、
またX線発生部にカメラを固着させる機能を持つ
ものとする。
上記の入射X線屈折機構とカメラ保持部によつ
て、第1図に示した異なるΨ方向からの回折像を
フイルム13上に求めることができる。フイルム
上の回折像位置の計測から第1図Cのd−sin2Ψ
線図を作成することが出来、これから管6内の残
留応力σを非破壊的に求めることが可能である。
上記のような測定用カメラは管内長手方向の応
力測定用カメラ(第6図)及び管内円周方向の応
力測定用カメラ(第7図)として製作される。
第6図の管内長手方向の応力測定用カメラにお
いて、各種入射角での写真を得て第1図Cに示す
d−sin2Ψ線図を得るには、第5図のA又はB
で、X線行路系を測定位置0点のまわりに紙面上
で回転させる機構をカメラ保持部に設ければよ
い。たゞし、測定精度上、入射角の変化に伴うX
線照射位置の移動は極力避ける必要がある。
sin2Ψ線図上で巾広いsin2Ψを得ることは出来
ないため、精度は落ちるが、(a)入射角の変化に伴
う照射位置の移動はない、(b)測定時間が最短、(c)
測定の位置決めが容易、などの特徴を持つ45゜単
一入射法を採用することが考えられる。
第6図は45゜単一入射法によるカメラの概要を
示す。この場合応力を測定する管6はNi管であ
り、16はX線管球を略示するものとする。
このカメラにより応力を測定するには、回折角
θの測定が必要であり、カメラ法ではカメラ長
の計測が不可欠とされる。それには、最低2種類
の回折環を同一フイルム13に撮影すればよい。
(通常は測定位置に標準粉末を置き、その回折環
からカメラ長を測定するが、細管の場合、カメラ
長は極端に短いので標準粉末法では誤差が大き
い。) 次に第7図の管内円周方向の応力測定用カメラ
では、細管の場合内部の空間的余裕が少ないの
で、側傾法を用いる。
細管6がNi管である場合、第5図Aのような
X線行路12を考えると、Ψ=0〜30゜程度まで
は写真撮影が可能である。(但し、第5図Aの場
合、端面からの測定可能な範囲は限られる。) 側傾法では、単一入射法はあり得ない。第7図
に、第5図AのX線行路12を用いた測定法及び
カメラを示す。
カメラ長の計測は、管内長手方向の応力測定の
場合と同様である。
次に管内の軸方向測定用カメラ機構の実施例を
第8−第11図について説明する。図において2
1は測定対象物(この場合試料としての管)、2
2はX線管(X線焦点)、23は中空部24を有
するカメラ本体としてのボデイを示す。X線は図
のC線を中心とする中空部24に挿入された1次
ピンホールスリツト25を介して絞られて、カメ
ラヘツド部26内の分光結晶27に到達する。こ
のカメラヘツド26の先端のX線照射口部には2
次ピンホールスリツト28が設けられており、分
光結晶27で屈折されたX線はこの2次ピンホー
ルスリツト28を通つて細束となつて試料上に投
射され、この結晶生ずるX線の回折環の一部がX
線照射方向反対側のヘツド26上に設けられてい
る乾板又はフイルムのような感材29上に投影す
る。分光結晶27は、軸30にその回折面が軸の
中心と一致するように貼着されて、カメラヘツド
26に嵌合されている。
カメラボデイ23とカメラヘツド26を嵌合固
定すれば、1次ピンホールスリツト25と2次ピ
ンホールスリツト28が形成する角度は、分光結
晶27によるX線の回折角となるようになつてお
り、軸30を回転させてこの回折角度におけるX
線強度が最大となるように調節することができ
る。
乾板29は、乾板押え具31と押えばね32に
よつてカメラヘツド26に設けられた乾板セツト
部(当り面)に押圧されて固定される。なお、2
0はカメラ機構のカバーである。
以上の説明から明らかなように、この実施例装
置のカメラ機構は、X線がカメラ内を通つて2次
ピンホールスリツト28に至るまで、X線に対し
て完全なトンネルを形成しており、2次ピンホー
ルスリツトからX線が照射される以外は全くカメ
ラ外部にX線が洩れないように構成されている。
これはS/N比のより鮮明な回折像を得るため
に非常に大切な処置であり、さらにこのような問
題点を解決するため、この発明の実施例において
は、乾板の配置にも工夫がなされている。即ち第
9図及び第10図において、X線焦点(X線管)
22とスリツト25,28により構成されている
X線の光学的軸C上に乾板29を機械的に干渉せ
ぬように配置することにより、乾板29と回折像
33との位置関係は図示のようになり、乾板29
上には回折リング33の一部のみが写し出され
る。
また、第11図に示すように、カメラヘツド2
6には、鋭いエツジ34がX線に対して左右に設
けられ、X線回折像の撮影の際に、散乱X線(バ
ツクグランド)の影響で乾板29上にその影が発
生するようになつている。即ち、図において、試
料21に照射されるX線により発生する影の巾W
はカメラ長Lによつて定まるため、予め既知のカ
メラ長Lに対する影の巾Wの値を知つておれば、
エツジ34間の距離Wの計測でカメラ長Lを知る
ことができ、細管内でのカメラのセツテイング状
況をその写真の上から検討できると共に、この写
真を解析する上での基準を示すことになる。そし
て追つてこの写真の解析から試料の応力値を算出
することができる。
次に管内の周方向測定用カメラ機構の実施例を
第12〜第14図について説明する。これらの図
面において第8〜第11図と同一符号は同一のも
のを示すものとする。図において、21は測定対
象物(試料としての管)、22はX線管(X線焦
点)を示す。23は中空部24を有するボデイ
(カメラ本体)で、X線はこの中空部24とこの
中空部に挿入されている1次ピンホールスリツト
25を介して絞られてカメラヘツド部26内の分
光結晶27に到る。このカメラヘツド部26の先
端のX線照射口部には、やはり前記実施例と同様
に2次ピンホールスリツト28が設けられ、分光
結晶27で屈折されたX線はこの2次ピンホール
スリツト28を通つて試料に投射され、この結果
生ずるX線の回折環の一部がX線照射方向の反対
側のヘツド26上に設けられている乾板フイルム
29上に投影する。
これまで述べた構造は第8図に示したものと同
様であるが、この実施例装置における測定法は側
傾法(詳細は省略する)を採用しているため、更
に次に述べるような構成が付加されている。即
ち、アンカープレート35が保持具36を介して
カメラ本体23をX線管部に支持している。X線
の入射角の切換は第9図のX線焦点22と試料2
1のX線照射点を結ぶ線37を回転中心として行
われるので、上記保持具36には、この回転中心
線と同芯の孔を設けてこの孔にカメラ本体23を
挿入固定し押え板38で回転自在に軸受し、例え
ば0゜と30゜等の入射角の切換を容易に行ない得
る構造としている。なお、39,40は乾板送り
レバー及び回転軸であつて、これについては後で
説明する。乾板29は、カメラヘツド26上に塔
載され、乾板押えばね32で固定される。このカ
メラの場合、同一乾板29上に0゜入射及び30゜
入射のそれぞれの回折環を撮影する必要があるの
で、乾板29はマスク41によつてマスキングさ
れている。
第13図に示す状態は試料21に対して0゜入
射の場合であり、この状態での撮影が終ると入射
角を30゜に変える。この図では乾板送り回動レバ
ー39を操作する代りに試料21を21′の位置
に回動させている。(但し、試料21と21′にお
けるX線の照射点は同一である)。0゜入射のと
きは乾板29のa部分に撮影される。30゜入射の
ときはカメラ本体23を回動させると共に、上記
の乾板送りレバー39を回動させると、回転軸4
0が回転して、この先端部に設けられている乾板
送りレバー42によつて乾板29がCの距離送り
込まれ、bの部分に撮影されるようになる。
カメラの先端に設けられているブロツク43は
ガイドブロツクであつて、カメラを安全に測定対
象の管内に挿入する案内の役をし、その外径は試
料管21の内径よりも若干小さい寸法に形成され
ている。
このガイドブロツク43は測定物とカメラの位
置決めが終了した後で測定物を移動してガイドブ
ロツクを取り外し、あらためて測定部をセツトし
て測定するように使用することも可能である。
なお、以上のほか、スリツトの構成、分光結晶
の取付け、カメラの構造等は軸方向応力測定カメ
ラと同様であるので説明は省略する。
以上説明したように、本発明はX線応力測定法
を細管内面の非破壊応力測定に効果的に適用する
ことができ、小さいスペースしかない場合にX線
応力測定法の応用の可能性を拡大したものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はX線応力測定法の原理図であつて、A
は応力測定面の説明図、BはX線応力測定のダイ
ヤグラム、Cはd−sin2Ψを示す。第2図は従来
のX線応力測定カメラ一例を示す要領図で、Aは
正面図、Bは側面図、第3図は従来のカメラによ
る測定可能な管の最小内径の説明図で、Aは正面
図、Bは側面図、第4図乃至第7図は本発明の実
施例を図解するもので、第4図はX線屈折機構の
説明図、第5図はNi管を測定対称とした場合の
基本的X線入射状態の説明図で、AはΨ=0の状
態、BはΨ=45゜の状態の場合である。第6図
は本発明に従い管内部の長手方向に沿つて管内面
のX線応力を測定する場合に用いるカメラの概略
図、第7図は本発明に従い管内部の円周方向にお
けるX線応力を測定する場合に用いるカメラの概
略図、第8図は管内の軸方向測定用カメラ機構の
実施例を一部断面で示す正面図、第9図は第8図
のB―B線における拡大断面図、第10図及び第
11図はヘツド部と回折像との位置関係の説明
図、第12図は管内の周方向測定用カメラ機構の
実施例を一部断面で示す正面図、第13図は第1
2図のB―B線における拡大断面図、第14図は
ヘツド部分の説明図である。 図において、6……応力が測定せらるべき管、
10……結晶、11′,11″……ダブルピンホー
ル、11……スリツト、12……X線、13……
フイルム、14……フイルム装着部、15,23
……カメラ本体、16,22……X線管球、25
……1次ピンホールスリツト、26……カメラヘ
ツド部、27……X線屈折用結晶、28……2次
ピンホールスリツト、31……乾板押え具。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 X線管球を応力が測定されるべき管の外部に
    置き、このX線管球から出る特性X線をダブルピ
    ンホールにより締つて細束とし、この特性X線の
    細束を上記管内に配置した結晶で屈折させて管内
    の被測定部分に所定の入射角で入射させてこの被
    測定部分からのX線回折環を管内部に設けたフイ
    ルム上に受けて管内部を撮影するようにした細管
    内面のX線応力測定法。 2 特性X線を試料面に照射して回折像を撮影し
    これより応力を測定するものにおいてX線通路を
    形成する中空部を有する細長いカメラ本体と、こ
    の先端部に設けられるX線照射用のカメラヘツド
    部と、このカメラヘツド部のX線照射方向と反対
    側に設けられた乾板セツト部とから成るカメラ機
    構をX線管部に有するとともに上記カメラヘツド
    部内には、X線を照射口部へ屈折させるX線屈折
    用結晶および照射X線を細束とするピンホールス
    リツトとを内蔵していることを特徴とする管内面
    のX線応力測定装置。
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