JPS6117905A - 厚さ測定装置 - Google Patents
厚さ測定装置Info
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- JPS6117905A JPS6117905A JP13790484A JP13790484A JPS6117905A JP S6117905 A JPS6117905 A JP S6117905A JP 13790484 A JP13790484 A JP 13790484A JP 13790484 A JP13790484 A JP 13790484A JP S6117905 A JPS6117905 A JP S6117905A
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- optical
- light source
- thickness
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は厚さ測定装置に関し、特に光学的に非接触にて
厚さ測定を行なう装置に関する。
厚さ測定を行なう装置に関する。
従来、厚さの測定に際しては、被測定物の対向する両面
における測定点に測定端子を接触せしめ、これら２つの
測定端子間の間隔を読取る方法即ち接触式厚さ測定が一
般に行なわれている。しかしながら、この様な測定方法
においては被測定物が軟らかい場合には測定が困難であ
り、また測定によシ被測定物にキズを付けてしまうこと
もある。
における測定点に測定端子を接触せしめ、これら２つの
測定端子間の間隔を読取る方法即ち接触式厚さ測定が一
般に行なわれている。しかしながら、この様な測定方法
においては被測定物が軟らかい場合には測定が困難であ
り、また測定によシ被測定物にキズを付けてしまうこと
もある。
更に、接触式の厚さ測定方法では異なる測定点における
厚さ測定を連続的に高速で行なうことは極めて困難であ
る。
厚さ測定を連続的に高速で行なうことは極めて困難であ
る。
本発明は、以上の如き従来技術に鑑み、測定点を変えな
がら高速にて連続的に厚さ測定を行なうことのできる非
接触式の厚さ測定装置を提供することを目的とする。
がら高速にて連続的に厚さ測定を行なうことのできる非
接触式の厚さ測定装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、以上の如き目的は、２っの合焦状態判
別光学系が各光学系の対物レンズの光軸が合致せしめら
れて対向配置されておル、該光学系はそれぞれ内部光源
を有しその対物レンズ近傍の光路を維持した状態にて一
部または全部を移動させることができ、各光学系の可動
部の移動量を測長するための手段が設けられていること
を特徴とする、厚さ測定装置によシ達成される。
別光学系が各光学系の対物レンズの光軸が合致せしめら
れて対向配置されておル、該光学系はそれぞれ内部光源
を有しその対物レンズ近傍の光路を維持した状態にて一
部または全部を移動させることができ、各光学系の可動
部の移動量を測長するための手段が設けられていること
を特徴とする、厚さ測定装置によシ達成される。
以下、図面に基づき本発明厚さ測定装置の具体的実施例
を説明する。
を説明する。
第１図は本発明による厚さ測定装置の第１の実施例を示
す概略構成図である。第１図において、２及び２′は合
焦状態判別光学系である。光学系２はケーシング４に組
込まれている。光学系２において、６は光源であり、８
はコリメーターレンズであシ、９はナイフェツジであシ
、１０はハーフミラ−であり、１２は対物レンズであり
、１４はＸ 学的ハンド・ぞスフイルターで”ｊ７．１
６ハレンズであシ、１８は光学的センサーである。ケー
シング４は外部に固設されたアクチュエーター２０に接
続されている。該アクチュエーター２０を駆動せしめる
ことによシ、ケーシング４は対物レンズ１２０光軸Ｘに
沿って移動せしめられる。アクチュエーター２０として
は高精度な移動量コノトロールを実現すべく流体動軸受
スライド機構を備えたもの等を用いるのが好ましい。ケ
ーシング４にはまたその移動量を測定するための測長手
段２２が付設されている。測長手段２２としてはたとえ
ば格子干渉測長方式によるもの（ＯｐｌｕｓＥ＋１９８
１年４月号ｐ８４〜）が用いられ、この場合、第１図に
おける２４はケーシング４に固定された基準格子でちゃ
、２６は外部に固設された格子ピッチ読取装置である。
す概略構成図である。第１図において、２及び２′は合
焦状態判別光学系である。光学系２はケーシング４に組
込まれている。光学系２において、６は光源であり、８
はコリメーターレンズであシ、９はナイフェツジであシ
、１０はハーフミラ−であり、１２は対物レンズであり
、１４はＸ 学的ハンド・ぞスフイルターで”ｊ７．１
６ハレンズであシ、１８は光学的センサーである。ケー
シング４は外部に固設されたアクチュエーター２０に接
続されている。該アクチュエーター２０を駆動せしめる
ことによシ、ケーシング４は対物レンズ１２０光軸Ｘに
沿って移動せしめられる。アクチュエーター２０として
は高精度な移動量コノトロールを実現すべく流体動軸受
スライド機構を備えたもの等を用いるのが好ましい。ケ
ーシング４にはまたその移動量を測定するための測長手
段２２が付設されている。測長手段２２としてはたとえ
ば格子干渉測長方式によるもの（ＯｐｌｕｓＥ＋１９８
１年４月号ｐ８４〜）が用いられ、この場合、第１図に
おける２４はケーシング４に固定された基準格子でちゃ
、２６は外部に固設された格子ピッチ読取装置である。
光学系２′に関しても上記光学系２についてと同様の構
成を有し、同一の要素については同一符号に「勺を付し
て説明を省略する。光学系２と２′とは対物レンズ１２
と１２′とが対向せしめられ且つそれらの光軸Ｘが合致
する様に配置されている。
成を有し、同一の要素については同一符号に「勺を付し
て説明を省略する。光学系２と２′とは対物レンズ１２
と１２′とが対向せしめられ且つそれらの光軸Ｘが合致
する様に配置されている。
３０は厚さを測定されるべき被測定物である。
本実施例における光学系２０合焦状態判別法につき以下
説明する。
説明する。
光学系２においては、対物レンズ１２とレンズ１６とは
光軸Ｘを共有している。光源６から発せられた光はコリ
メーターレンズ８によシ平行光束とされ、該平行光束は
ハーフミラ−１０によシ反射せしめられ、対物し／ズ１
２に入射する。尚、コリメーターレンズ８を出た平行光
束はナイフェツジ９によシ一部遮光され、対物し／ズ１
２にはその光軸Ｘを通る境界面により２分される２つの
ゾーンのうちの一方（図においては左半分のゾーン）に
のみ入射する。かくして、対物レンズ１２によシ集束せ
しめられた光は被測定物３０の上面上にスポットを結ぶ
。該スポットから反射された光は、再び対物レンズ１２
を透過し、ハーフミラ−１０、パントノ９スフイルター
１４及びし／ズ１６を透過した後、センサー１８に到達
する。
光軸Ｘを共有している。光源６から発せられた光はコリ
メーターレンズ８によシ平行光束とされ、該平行光束は
ハーフミラ−１０によシ反射せしめられ、対物し／ズ１
２に入射する。尚、コリメーターレンズ８を出た平行光
束はナイフェツジ９によシ一部遮光され、対物し／ズ１
２にはその光軸Ｘを通る境界面により２分される２つの
ゾーンのうちの一方（図においては左半分のゾーン）に
のみ入射する。かくして、対物レンズ１２によシ集束せ
しめられた光は被測定物３０の上面上にスポットを結ぶ
。該スポットから反射された光は、再び対物レンズ１２
を透過し、ハーフミラ−１０、パントノ９スフイルター
１４及びし／ズ１６を透過した後、センサー１８に到達
する。
しかして、この際、被測定物３００表面と対物レンズ１
２との距離によシセ／サー１８に到達する光に差が生ず
る。即ち、第２図に示される様に、被測定物３０の表面
がちょうど対物レンズ１２の焦点位置に存在する場合（
図中のイの位置）には、被測定物３００表面におけるス
ポットはちょうど光軸Ｘ上にその中心が位置するため、
反射光はセンサー１８において光軸Ｘ上に中心をもって
位置することになる。また、被測定物３００表面が対物
レンズ１２の焦点位置よシも遠くに位置する場合（図中
の口の位置）には、被測定物３００表面におけるスポッ
トは光軸Ｘからずれた図におけるＡゾーン内に中心をも
って位置する様になるため、その反射光はセンサー１８
においてＢゾーンに中心をもって位置することになる。
２との距離によシセ／サー１８に到達する光に差が生ず
る。即ち、第２図に示される様に、被測定物３０の表面
がちょうど対物レンズ１２の焦点位置に存在する場合（
図中のイの位置）には、被測定物３００表面におけるス
ポットはちょうど光軸Ｘ上にその中心が位置するため、
反射光はセンサー１８において光軸Ｘ上に中心をもって
位置することになる。また、被測定物３００表面が対物
レンズ１２の焦点位置よシも遠くに位置する場合（図中
の口の位置）には、被測定物３００表面におけるスポッ
トは光軸Ｘからずれた図におけるＡゾーン内に中心をも
って位置する様になるため、その反射光はセンサー１８
においてＢゾーンに中心をもって位置することになる。
一方、被測定物３０の表面が対物し／、ｆ１２の焦点位
置よシも近くに位置する場合（図中のハの位置）には、
被測定物３００表面におけるスポットはＢゾーン内に中
心をもって位置する様になるため、その反射光はセンサ
ー１８においてＡゾーンに中心をもって位置することに
なる。
置よシも近くに位置する場合（図中のハの位置）には、
被測定物３００表面におけるスポットはＢゾーン内に中
心をもって位置する様になるため、その反射光はセンサ
ー１８においてＡゾーンに中心をもって位置することに
なる。
センサー１８としてはたとえばＣＣＤ （ｃｈａｒｇｅ
ｃｏｕｐｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅ）センサーアレイが用い
られる。
ｃｏｕｐｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅ）センサーアレイが用い
られる。
第３図にはこの様なセンサー１８の平面図が示されてい
る。この図は第２図におけるセンサー１８を下方から見
たものである。図中、斜線を付した部分はセンサーセグ
メント間を分離しているところのチャンネルストッ・ぐ
一部を示す。第３図のセンサー１８においては、被測定
物３０の表面位置が第２図の４１口又はハである場合の
スポット位置及びその光量分布のグラフが記されている
。
る。この図は第２図におけるセンサー１８を下方から見
たものである。図中、斜線を付した部分はセンサーセグ
メント間を分離しているところのチャンネルストッ・ぐ
一部を示す。第３図のセンサー１８においては、被測定
物３０の表面位置が第２図の４１口又はハである場合の
スポット位置及びその光量分布のグラフが記されている
。
センサー１８において、へゾーンにおける全センサーセ
グメントの出力の和を■ムとじ、Ｂシー／における全セ
ンサーセグメントの出力の和をＩｎとすると、光学系２
の被測定物３０に対する合焦状態に応じてΔＩ＝ＩＡ−
ＩＢが変化する。その関係を第４図に示す。第４図から
分る様に、フォーカシングが完全になされている場合（
上記イの状態）の近傍においては、Δ工はほぼリニアに
変化する。
グメントの出力の和を■ムとじ、Ｂシー／における全セ
ンサーセグメントの出力の和をＩｎとすると、光学系２
の被測定物３０に対する合焦状態に応じてΔＩ＝ＩＡ−
ＩＢが変化する。その関係を第４図に示す。第４図から
分る様に、フォーカシングが完全になされている場合（
上記イの状態）の近傍においては、Δ工はほぼリニアに
変化する。
二の特性を利用することによって光学系２が前ピント外
れ状態であるか、完全フォーカシング状態であるか、後
ピント外れ状態であるかが判別できる。
れ状態であるか、完全フォーカシング状態であるか、後
ピント外れ状態であるかが判別できる。
従って、この出力ΔＩに基づきΔ工を０にするべくアク
チュエーター２０をサー？駆動せしめることによシ自動
フォーカシングが実現できる。この際のケーシング４の
移動量を測長手段２２で測定することによシ被測定物３
０の上面のブ０軸Ｘと交わる部分の位置が測定される。
チュエーター２０をサー？駆動せしめることによシ自動
フォーカシングが実現できる。この際のケーシング４の
移動量を測長手段２２で測定することによシ被測定物３
０の上面のブ０軸Ｘと交わる部分の位置が測定される。
即ち、光学系２が基準位置からどれだけ移動したか（移
動量Ｔ１ ）を測長手段２２によシ測定するのである。
動量Ｔ１ ）を測長手段２２によシ測定するのである。
光学系２′についても光学系２と同様にして被測定物３
０の下面に合焦せしめ、同様にして光学系２′が基準位
置からどれだけ移動したか（移動量Ｔ２）を測長手段２
２′によシ測定するのである。
０の下面に合焦せしめ、同様にして光学系２′が基準位
置からどれだけ移動したか（移動量Ｔ２）を測長手段２
２′によシ測定するのである。
光学系２及び２′の基準位置は被測定物３０として予め
厚さくＳ）の分っているものを用いて、上記と同様にし
てフォーカシングを実現することによシ設定することが
できる。
厚さくＳ）の分っているものを用いて、上記と同様にし
てフォーカシングを実現することによシ設定することが
できる。
測長手段２２及び２２′の出力は処理手段３２に
′入力せしめられ、ここでＴ＝Ｓ＋Ｔｔ ＋Ｔ２の演算
によシ被測定物３０の厚さＴが得られる。尚、ここで移
動量Ｔ！の符号は上方へ移動する場合を正とし、移動量
Ｔ２の符号は下方へ移動する場合を負とした。
′入力せしめられ、ここでＴ＝Ｓ＋Ｔｔ ＋Ｔ２の演算
によシ被測定物３０の厚さＴが得られる。尚、ここで移
動量Ｔ！の符号は上方へ移動する場合を正とし、移動量
Ｔ２の符号は下方へ移動する場合を負とした。
本実施例においては、光学系２０光源６と光学系２′の
光源６′とはその発光波長帯域が異なる。また、光学系
２のバンドパスフィルター１４としては光源６０発する
波長の光を透過するが光源６′の発する波長の光を透過
しないものが用いられ、一方光学系２′のバンドパスフ
ィルター１４′としては光源６′の発する波長の光を透
過するが光源６０発する波長の光を透過しないものが用
いられている。
光源６′とはその発光波長帯域が異なる。また、光学系
２のバンドパスフィルター１４としては光源６０発する
波長の光を透過するが光源６′の発する波長の光を透過
しないものが用いられ、一方光学系２′のバンドパスフ
ィルター１４′としては光源６′の発する波長の光を透
過するが光源６０発する波長の光を透過しないものが用
いられている。
これによυ、被測定物３０が透明な場合においても光学
系２と２′とでクロストークが発生せず正確な測定を行
なうことができる。
系２と２′とでクロストークが発生せず正確な測定を行
なうことができる。
以上の如き実施例の厚さ測定装置の性能につき以下に評
価を試みる。
価を試みる。
先ず、位置測定の精度は光学系２及び２′の合焦状態判
別分解能と測長手段の測定精度とによシ定まる。たとえ
ば、対物レンズ１２として焦点距離ｆ＝２．１■、ＮＡ
＝０．９のものを、レンズ８として焦点距離ｆｔ＝６．
６ｍのものを、レンズ１６として焦点用＠ｆ＊ ＝８５
ｒａＯものを用い、センサー１８としてＣＯＤセンサ
ーアレイを用いた場合には、第４図のグラフにおけるリ
ニア部分の傾きとして２００〜１０００ ｍＶμｍが得
られ、更にこの時のΔＩの出力のノイズとして１〜２ｍ
Ｖ以下が達成される。これによシ、光学系２及び２′の
合焦状態判別分解能として０．０１〜０．０２μｍが得
られる。また、測長手段２２として格子干渉測長方式に
よるものを用いれば０．１〜０．０１μｍの精度が達成
される。尚、測長手段２２としては、その他覚へテロゲ
インの干渉方式によるもの（たとえば、Ｈｅｗｌｅｔｔ
Ｐａｅｋａｒｄ社のレーザー測長機、Ｏｐｌｕｓ Ｅ
、 １９８２年１２月号９８６〜）や、レーザー干渉
計の波数読取シ方式によるもの等を用いることもでき、
これらによっても同様な精度が達成される。
別分解能と測長手段の測定精度とによシ定まる。たとえ
ば、対物レンズ１２として焦点距離ｆ＝２．１■、ＮＡ
＝０．９のものを、レンズ８として焦点距離ｆｔ＝６．
６ｍのものを、レンズ１６として焦点用＠ｆ＊ ＝８５
ｒａＯものを用い、センサー１８としてＣＯＤセンサ
ーアレイを用いた場合には、第４図のグラフにおけるリ
ニア部分の傾きとして２００〜１０００ ｍＶμｍが得
られ、更にこの時のΔＩの出力のノイズとして１〜２ｍ
Ｖ以下が達成される。これによシ、光学系２及び２′の
合焦状態判別分解能として０．０１〜０．０２μｍが得
られる。また、測長手段２２として格子干渉測長方式に
よるものを用いれば０．１〜０．０１μｍの精度が達成
される。尚、測長手段２２としては、その他覚へテロゲ
インの干渉方式によるもの（たとえば、Ｈｅｗｌｅｔｔ
Ｐａｅｋａｒｄ社のレーザー測長機、Ｏｐｌｕｓ Ｅ
、 １９８２年１２月号９８６〜）や、レーザー干渉
計の波数読取シ方式によるもの等を用いることもでき、
これらによっても同様な精度が達成される。
次に、位置測定のストロークはアクチュエーターのスト
ローク及び測長手段のストロークにょシ決まる。上記の
如き格子干渉測長方式、光ヘテロダイン干渉方式、レー
ザー干渉計の波数読取シ方式等はいづれも１００ｍ以上
の高ストロークを実現することができ、またアクチュエ
ーターも同様なストロークを実現できる。
ローク及び測長手段のストロークにょシ決まる。上記の
如き格子干渉測長方式、光ヘテロダイン干渉方式、レー
ザー干渉計の波数読取シ方式等はいづれも１００ｍ以上
の高ストロークを実現することができ、またアクチュエ
ーターも同様なストロークを実現できる。
更に、投スポット径は対物レンズ１２及び１２′のＮＡ
によシ定まる。たとえば、対物レンズ１２としてＮＡ−
０，８のものを用いれば光学系２０投光スポツト径φは
φ＝ ２．４４ Ｆλキ２．３８μｍ（ここで、Ｆ＝２
Ｘ ＝１．２５．λ−０．７８μｍとした）とな
り、２μｍ程度のスポット計測が可能となる。尚、スポ
ット径を大きくしたい場合には光学系２及び２′の投光
有効光束径を小さくして実効的な光束のＮＡを小さくす
ればよい。
によシ定まる。たとえば、対物レンズ１２としてＮＡ−
０，８のものを用いれば光学系２０投光スポツト径φは
φ＝ ２．４４ Ｆλキ２．３８μｍ（ここで、Ｆ＝２
Ｘ ＝１．２５．λ−０．７８μｍとした）とな
り、２μｍ程度のスポット計測が可能となる。尚、スポ
ット径を大きくしたい場合には光学系２及び２′の投光
有効光束径を小さくして実効的な光束のＮＡを小さくす
ればよい。
また、本実施例装置においては、合焦時に被測定物３０
の上又は下の面の光軸Ｘ上の点とセンサー１８又は１８
′とが共役関係になるので、対物レンズ１２及び１２′
のＮＡを大きくしておけば被測定物３０の上下両面が鏡
面である場合の他に粗面であっても測定は可能となる。
の上又は下の面の光軸Ｘ上の点とセンサー１８又は１８
′とが共役関係になるので、対物レンズ１２及び１２′
のＮＡを大きくしておけば被測定物３０の上下両面が鏡
面である場合の他に粗面であっても測定は可能となる。
以上の実施例においては、合焦状態判別光学系２及び２
′はそれぞれ合焦のため全体が移動する様になっている
例を示したが、光学系２及び２′はその一部のみが移動
する様になっていてもよい。第５図及び第６図はその様
な光学系の一部を示すものである。
′はそれぞれ合焦のため全体が移動する様になっている
例を示したが、光学系２及び２′はその一部のみが移動
する様になっていてもよい。第５図及び第６図はその様
な光学系の一部を示すものである。
第５図の光学系２においては、対物レンズ１２のみが光
軸Ｘに沿って移動可能である。そして測長手段の一部を
構成するコーナーキューブ４０が該対物レンズ１２に固
定されており、測長手段本体から発せられたレーザー光
が核コーナーキューブ４０により反射されて測長手段本
体へと進行する。
軸Ｘに沿って移動可能である。そして測長手段の一部を
構成するコーナーキューブ４０が該対物レンズ１２に固
定されており、測長手段本体から発せられたレーザー光
が核コーナーキューブ４０により反射されて測長手段本
体へと進行する。
第６図の光学系２においては、光源６のみがレンズ８０
光軸に沿って移動可能である。そして測長手段の一部を
構成するコーナーキューブ４０が光源６に固定されてい
る。尚、この場合には光源６の移動量を対物レンズ１２
から投光される光束のフォーカシング位置の移動量に換
算する必要がある。
光軸に沿って移動可能である。そして測長手段の一部を
構成するコーナーキューブ４０が光源６に固定されてい
る。尚、この場合には光源６の移動量を対物レンズ１２
から投光される光束のフォーカシング位置の移動量に換
算する必要がある。
尚、第５図及び第６図の実施例においては可動部のみを
移動させるアクチュエーターが備えられているが、これ
は図示を省略した。
移動させるアクチュエーターが備えられているが、これ
は図示を省略した。
この様にして可動部を小さくすると、アクチュエーター
を小型化することができる。
を小型化することができる。
以上の実施例においては自動合焦の方式としていわゆる
ＴＴＬ −Ａ Ｆ （Ｔｈｒｏｕｇｈ ｔｈｅ Ｔａｋ
ｉｎｇ ＬｅｎｓＡｃｔｉｖｅ Ａｕｔｏ Ｆｏｃｕｓ
）方式（テレビジ、７学会誌。
ＴＴＬ −Ａ Ｆ （Ｔｈｒｏｕｇｈ ｔｈｅ Ｔａｋ
ｉｎｇ ＬｅｎｓＡｃｔｉｖｅ Ａｕｔｏ Ｆｏｃｕｓ
）方式（テレビジ、７学会誌。
第３５巻第８号、１９８１年、ｐ６３７〜）を用いた例
を示したが自動合焦の方式としては他の方式たとえばビ
デオのピックアップに用いられている方式やカメラのオ
ートフォーカスで使用されている方式等を用いることも
できる。
を示したが自動合焦の方式としては他の方式たとえばビ
デオのピックアップに用いられている方式やカメラのオ
ートフォーカスで使用されている方式等を用いることも
できる。
以上の如き実施例の厚さ測定装置によれば、被測定物３
０が走行している場合であっても、インプロセスにて測
定が可能である。
０が走行している場合であっても、インプロセスにて測
定が可能である。
第７図は、この様な特長を利用して、本発明厚さ測定装
置を２つ使用し塗膜形成プロセスの塗膜厚コントロール
を行なう場合の実施例を示す。
置を２つ使用し塗膜形成プロセスの塗膜厚コントロール
を行なう場合の実施例を示す。
本実施例においては、厚さ測定装置ＡとＢとの２つが使
用され、被測定物３０はこれらの間を速度υにて走行せ
しめられる。２つの厚さ測定装置■と■との間の位置に
おいて塗膜形成が行なわれる。厚さ測定装置■の処理手
段３２から得られる厚さＴと厚さ測定装置■の処理装置
から得られる厚さＴ′と速度ダとから、現時点における
形成塗膜厚さを推定して、予め定められた厚さに塗膜が
付与されるべく塗膜形成プロセスへとフィードバックす
ることができる。
用され、被測定物３０はこれらの間を速度υにて走行せ
しめられる。２つの厚さ測定装置■と■との間の位置に
おいて塗膜形成が行なわれる。厚さ測定装置■の処理手
段３２から得られる厚さＴと厚さ測定装置■の処理装置
から得られる厚さＴ′と速度ダとから、現時点における
形成塗膜厚さを推定して、予め定められた厚さに塗膜が
付与されるべく塗膜形成プロセスへとフィードバックす
ることができる。
以上の如き本発明の厚さ測定装置によれば、非接触にて
精密且つ正確に厚さ測定を行なうことができ、被測定物
を移動させながら異なる測定位置を連続的に高速にて測
定することもできる。
精密且つ正確に厚さ測定を行なうことができ、被測定物
を移動させながら異なる測定位置を連続的に高速にて測
定することもできる。
第１図は本発明装置の構成図であり、第２図はその部分
図であり、第３図はセンサーの平面図であシ、第４図は
センサーの出力のグラフであり、第５図及び第６図は本
発明装置の部分構成図であシ、第７図は本発明装置の応
用例を示す構成図である。 ２・・・合焦状態判別光学系、４・・・ケーシング、６
・・・光源、１２・・・対物レンズ、１８・・・センサ
ー、２０・・・アクチュエーター、２２・・・測長手段
、３０・・・被測定物。 第１図 第２図 第３［２！ ｙ量 第４図
図であり、第３図はセンサーの平面図であシ、第４図は
センサーの出力のグラフであり、第５図及び第６図は本
発明装置の部分構成図であシ、第７図は本発明装置の応
用例を示す構成図である。 ２・・・合焦状態判別光学系、４・・・ケーシング、６
・・・光源、１２・・・対物レンズ、１８・・・センサ
ー、２０・・・アクチュエーター、２２・・・測長手段
、３０・・・被測定物。 第１図 第２図 第３［２！ ｙ量 第４図
Claims (3)
- （１）２つの合焦状態判別光学系が各光学系の対物レン
ズの光軸が合致せしめられて対向配置されており、該光
学系はそれぞれ内部光源を有しその対物レンズ近傍の光
路を維持した状態にて一部または全部を移動させること
ができ、各光学系の可動部の移動量を測長するための手
段が設けられていることを特徴とする、厚さ測定装置。 - （２）判別された合焦状態に基づき、合焦状態判別光学
系をフォーカシングせしめるべく可動部を駆動せしめる
ための手段が設けられている、第１項の厚さ測定装置。 - （３）２つの光学系が異なる波長帯域の光源を有し、且
つ各光学系が該光学系の光源の発する波長帯域の光を透
過せしめ他の光学系の光源の発する波長帯域の光を透過
せしめないバンドパスフィルターを有する、第１項の厚
さ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13790484A JPS6117905A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 厚さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13790484A JPS6117905A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 厚さ測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6117905A true JPS6117905A (ja) | 1986-01-25 |
Family
ID=15209395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13790484A Pending JPS6117905A (ja) | 1984-07-05 | 1984-07-05 | 厚さ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6117905A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1984
- 1984-07-05 JP JP13790484A patent/JPS6117905A/ja active Pending
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