JPS61178937A - エタノ−ルを製造する方法 - Google Patents
エタノ−ルを製造する方法Info
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- JPS61178937A JPS61178937A JP60017729A JP1772985A JPS61178937A JP S61178937 A JPS61178937 A JP S61178937A JP 60017729 A JP60017729 A JP 60017729A JP 1772985 A JP1772985 A JP 1772985A JP S61178937 A JPS61178937 A JP S61178937A
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- carrier
- ethanol
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエタノールを製造する方法に関する。
更に詳しくは（ａ）ロジウム，スカンジウム，イリジウ
ムおよび／又はリチウムを担体担持してなる触媒と、（
ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブデンを担体担持して
なる触媒の存在下、一酸化炭素と水素とを反応させてエ
タノールを製造する方法に関する。
ムおよび／又はリチウムを担体担持してなる触媒と、（
ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブデンを担体担持して
なる触媒の存在下、一酸化炭素と水素とを反応させてエ
タノールを製造する方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題点〕エタ
ノ−ルウアセトアルデヒド等の炭素数２の含酸素化合物
は従来ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造
されてきた。しかし、近年の原油の高騰により、製造価
格の著しい上昇が起り、原料転換の必要性が生じている
。
ノ−ルウアセトアルデヒド等の炭素数２の含酸素化合物
は従来ナフサを原料とする石油化学的方法によって製造
されてきた。しかし、近年の原油の高騰により、製造価
格の著しい上昇が起り、原料転換の必要性が生じている
。
一方豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素及び水素の
混合ガスより炭素数２の含酸素化合物を製造する方法が
種々検討されている。
混合ガスより炭素数２の含酸素化合物を製造する方法が
種々検討されている。
即ち、一酸化炭素と水素の混合ガスを、ロジウムを主成
分とし、マンガンチタン，ジルコン，鉄などの金属もし
くは金属酸化物などより成る触媒の存在下に反応させて
、炭素数２の含酸素化合物を選択的に製造する方法は公
知（例えば、特開昭３１−８０８０６号，同５２−１４
７０６号， 同５６−４７７３０号等）である。
分とし、マンガンチタン，ジルコン，鉄などの金属もし
くは金属酸化物などより成る触媒の存在下に反応させて
、炭素数２の含酸素化合物を選択的に製造する方法は公
知（例えば、特開昭３１−８０８０６号，同５２−１４
７０６号， 同５６−４７７３０号等）である。
しかしながら、か＼る方法は副生ずる炭化水素、≠１え
ばメタン等の量が多く、含酸素化合物の選択率が低いも
のや、含酸素化合物の選択率が高い場合には、その生成
量は極めて低いものであった。
ばメタン等の量が多く、含酸素化合物の選択率が低いも
のや、含酸素化合物の選択率が高い場合には、その生成
量は極めて低いものであった。
更に４価な貴金属であるロジウムあたシの目的化合物の
生成量がま疋少く、経済的にもプロセス的にも完成され
た技術が提供されていないのが実情である。
生成量がま疋少く、経済的にもプロセス的にも完成され
た技術が提供されていないのが実情である。
頁に炭素数２の含酸素化合物を高収量で高選択的に製造
することを目的としたロジウムにリチウム（特開昭５６
−８５５４号）、鉄（特開昭５１−８０８０７号）、ス
カンジウム（特開昭５７−６２２５３号）等が提案され
ているが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸又は
メタノールを主生成物とするものであり、エタノールの
収率１選択性などは著しく低い欠点を有しているう 以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有する気体よ
りエタノールを主成分とする含酸素化合物を効率よく、
経済性よく製造する方法は提供されていない。
することを目的としたロジウムにリチウム（特開昭５６
−８５５４号）、鉄（特開昭５１−８０８０７号）、ス
カンジウム（特開昭５７−６２２５３号）等が提案され
ているが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸又は
メタノールを主生成物とするものであり、エタノールの
収率１選択性などは著しく低い欠点を有しているう 以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有する気体よ
りエタノールを主成分とする含酸素化合物を効率よく、
経済性よく製造する方法は提供されていない。
本発明者らは一酸化炭素及び水素を含有する気１より、
含酸素化合物を製造する際に、上記炭素数２の含酸素化
合物の選択性を改良しつつ、該反応より生成される炭素
数２の含酸素化合物中の分布をエタノールに移動させ、
かつ炭化水素の生成を最小とすることを可能にした触媒
系を開示するものであり、多数の助触媒成分の組合せ試
験につき鋭意検討を重ねた結果、（、）ロジウム、スカ
ンジゆム、イリジウムおよび／又はリチウムを担体担持
してなる触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブ
デンを担持してなる触媒とを組合わせることによシ予期
し得ない効果が発現し、エタノールが好ましい収量と高
選択性を有することを見い出し、本発明を完成するに至
った。
含酸素化合物を製造する際に、上記炭素数２の含酸素化
合物の選択性を改良しつつ、該反応より生成される炭素
数２の含酸素化合物中の分布をエタノールに移動させ、
かつ炭化水素の生成を最小とすることを可能にした触媒
系を開示するものであり、多数の助触媒成分の組合せ試
験につき鋭意検討を重ねた結果、（、）ロジウム、スカ
ンジゆム、イリジウムおよび／又はリチウムを担体担持
してなる触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブ
デンを担持してなる触媒とを組合わせることによシ予期
し得ない効果が発現し、エタノールが好ましい収量と高
選択性を有することを見い出し、本発明を完成するに至
った。
（発明の概要〕
本発明は前記した如＜、（、）ロジウム、スカンジウム
、イリジウムおよび／又はリチウムを担体担持してなる
触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブデンを担
体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭素および水素
とを反応させエタノールを製造するものである。
、イリジウムおよび／又はリチウムを担体担持してなる
触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄又はモリブデンを担
体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭素および水素
とを反応させエタノールを製造するものである。
以下、本発明を順次詳述する。
本発明において用いられる触媒は前述の如く、侮）ロジ
ウム、スカンジウム、イリジウムおよび／又はリチウム
を担体担持してなる触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄
又はモリブデンを担体担持してなる触媒からなる三者の
触媒を主たる構成成分とする。両者の触媒は各々別途に
調製したものを使用することができ、使用に際しては混
合あるいは（、）の触媒の一つを上層に、（ｂ）の触媒
の一つを下層に充填して使用することができる。
ウム、スカンジウム、イリジウムおよび／又はリチウム
を担体担持してなる触媒と、（ｂ）イリジウムおよび鉄
又はモリブデンを担体担持してなる触媒からなる三者の
触媒を主たる構成成分とする。両者の触媒は各々別途に
調製したものを使用することができ、使用に際しては混
合あるいは（、）の触媒の一つを上層に、（ｂ）の触媒
の一つを下層に充填して使用することができる。
触媒の調製に際しては通常、貴金属触媒において行われ
ている如く担体上に上記の成分を分散させて用いる。
ている如く担体上に上記の成分を分散させて用いる。
本発明方法において用いられる触媒は、貴金属を使用す
る場合に用いられる常法に従って調製することができる
。例えば含浸法、浸漬法、イオン交換法、共沈法、混錬
法等によって調製できる。
る場合に用いられる常法に従って調製することができる
。例えば含浸法、浸漬法、イオン交換法、共沈法、混錬
法等によって調製できる。
触媒を構成する成分であるロジウム及びイリジウムにお
いて触媒調製のために使用できる原料化合物としては、
塩化物、臭化物等のハロゲン化物。
いて触媒調製のために使用できる原料化合物としては、
塩化物、臭化物等のハロゲン化物。
硝酸塩、炭酸塩等の無機塩、酢酸塩、シェラ酸塩アセチ
ルアセトナート塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機酸
基又ｈ＝ｒレート化合物、カルボニル化合物、アンミン
錯体、金属アルコキシド化合物。
ルアセトナート塩、エチレンジアミン酢酸塩等の有機酸
基又ｈ＝ｒレート化合物、カルボニル化合物、アンミン
錯体、金属アルコキシド化合物。
アルキル金属化合物等通常貴金属触媒を調製する際に用
いられる化合物を使用することができる。
いられる化合物を使用することができる。
助触媒として使用されるスカンジウム、リチウムに使用
できる原料化合物としては、ハロゲン化物、ハロゲン酸
塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩。
できる原料化合物としては、ハロゲン化物、ハロゲン酸
塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩。
水酸化物、ギ酸塩、酢酸塩、蓚酸塩等の有機酸塩等を使
用することができる。
用することができる。
また、鉄として使用できる原料化合物としてはハロゲン
化物、ハロゲン酸塩、硝酸塩等の無機酸部 水酸化物、
ギ酸塩、酢酸塩、蓚酸塩等の有機：酸瞳、カルボニル化
合物、金属アルコキシド化合」 アルキル金属化合物等
を使用することができ七〇 しかし、これらの触媒構成成分な担体上へ担持すること
を容易にするため、エタノール、水又ハ他の適当な溶媒
に可溶性の高い化合物が好ましくは用いられる。
化物、ハロゲン酸塩、硝酸塩等の無機酸部 水酸化物、
ギ酸塩、酢酸塩、蓚酸塩等の有機：酸瞳、カルボニル化
合物、金属アルコキシド化合」 アルキル金属化合物等
を使用することができ七〇 しかし、これらの触媒構成成分な担体上へ担持すること
を容易にするため、エタノール、水又ハ他の適当な溶媒
に可溶性の高い化合物が好ましくは用いられる。
以下に含浸法を例にとり触媒の調製法を説明する。
上記の金属化合物を水、メタノール、エタノール、アセ
トン、テトラヒドロフラン、ジオキサン。
トン、テトラヒドロフラン、ジオキサン。
ノルマヘキサン、ベンゼン、トルエン等の単独マたは混
合溶媒に溶解し、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を
留去し、乾燥し、必要とあれば加熱、ガス処理等の処理
を行い、担体に金属化合物を担持する。
合溶媒に溶解し、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を
留去し、乾燥し、必要とあれば加熱、ガス処理等の処理
を行い、担体に金属化合物を担持する。
（ａ）又は（ｂ）触媒の担持の方法としては原料化合物
を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同
時に担持する方法、各成分を逐次的に担持する方法、あ
るいは各成分を必要に応じて還元、熱処理等の処理を行
いながら逐次的、段階的に担持する方法などの各手法を
用いることができる。
を同一溶媒に同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同
時に担持する方法、各成分を逐次的に担持する方法、あ
るいは各成分を必要に応じて還元、熱処理等の処理を行
いながら逐次的、段階的に担持する方法などの各手法を
用いることができる。
その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を利用した
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法によっ
て触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触
媒の調製手法として採用できる。
イオン交換によって金属を担持する方法、共沈法によっ
て触媒を調製する方法なども本発明方法に用いられる触
媒の調製手法として採用できる。
上述の手法によってｐｍされた（ａ）および（ｂ）の触
媒は通常還元処理を行うことにより活性化し次いで反応
に供せられる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であって好ましい。
媒は通常還元処理を行うことにより活性化し次いで反応
に供せられる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であって好ましい。
（、）の触媒の還元温度として、ロジウムの還元される
温度、即ち１００℃程度の温度粂件下でも還元処理がで
きるが、好ましくは２００℃〜６００Ｃの温度下で還元
処理を行う。この際触媒の各成上の分散を十分に行わせ
る目的で低温より徐々にあるいは段階的に昇温しながら
水素還元を行って本よい。また還元剤を用いて、化学的
に還元を行うこともできる。たとえば、一酸化炭素と水
を用いたり、ヒドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化
アルミニウム化合物などの還元剤を用いた還元処理を行
ってもよい。
温度、即ち１００℃程度の温度粂件下でも還元処理がで
きるが、好ましくは２００℃〜６００Ｃの温度下で還元
処理を行う。この際触媒の各成上の分散を十分に行わせ
る目的で低温より徐々にあるいは段階的に昇温しながら
水素還元を行って本よい。また還元剤を用いて、化学的
に還元を行うこともできる。たとえば、一酸化炭素と水
を用いたり、ヒドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化
アルミニウム化合物などの還元剤を用いた還元処理を行
ってもよい。
また、（ｂ）の触媒は（、）の触媒と同様な方法で還元
処理を行うことができる。
処理を行うことができる。
本発明において用いられる担体は、好ましくは比表面積
１０〜１，０００ ｄ／Ｉ 細孔径１０＾以上を有す
るものであれば通常担体として知られているものを使用
することができる。具体的な担体としては、シリカ、各
種の珪酸塩、アルミナ、活性炭、各種金属の酸化物（例
えば酸化ジルコニウム。
１０〜１，０００ ｄ／Ｉ 細孔径１０＾以上を有す
るものであれば通常担体として知られているものを使用
することができる。具体的な担体としては、シリカ、各
種の珪酸塩、アルミナ、活性炭、各種金属の酸化物（例
えば酸化ジルコニウム。
酸化チタン、マグネシアなど）、モレキューラ−シー１
．フ４フ９士などがあげられるが、シリカ系の担体が好
ましい。
．フ４フ９士などがあげられるが、シリカ系の担体が好
ましい。
上記（、）の触媒におけろ各構成成分の比率は以下の様
である。ロジウムと担体に対する比率は、担体の比表面
積を考慮して重量比で（ＬＯＯＯ１〜α５、好ましくは
０．００１〜０．３である。スカンジウムとロジウムの
比率はスカンジウム／ロジウム（原子比）でＩＩＬＯＯ
１〜１０、好ましくは１１６０５〜３の範囲である。イ
リジウムとロジウムの比率はイリジウム／ロジウム（原
子比）でｎｏ０１〜６、好ましくはｏ、 ｏ ｏ ｓ〜
３の範囲である。リチウムとロジウムの比率はリチウム
／ロジウム（原子比）でＯ，ＯＯ０１〜３、好ましくは
０、００１〜２の範囲である。更に上記（ｂ）の触媒に
おける各構成成分の比率は以下の様である。イリジウム
と担体に対する比率は、担体の比表面積を考慮し【重量
比で０．０００１〜α５、好ましくはα００１〜α３で
ある。鉄とイリジウムの比率は鉄／イリジウム（原子比
）で０．００１〜１０、好ましくはＱ、０５〜５の範囲
である。モリブデンとイリジウムの比率はモリブデン／
イリジウム（原子比）で０．００１〜１０、好ましくは
０．０５〜５め範囲である。
である。ロジウムと担体に対する比率は、担体の比表面
積を考慮して重量比で（ＬＯＯＯ１〜α５、好ましくは
０．００１〜０．３である。スカンジウムとロジウムの
比率はスカンジウム／ロジウム（原子比）でＩＩＬＯＯ
１〜１０、好ましくは１１６０５〜３の範囲である。イ
リジウムとロジウムの比率はイリジウム／ロジウム（原
子比）でｎｏ０１〜６、好ましくはｏ、 ｏ ｏ ｓ〜
３の範囲である。リチウムとロジウムの比率はリチウム
／ロジウム（原子比）でＯ，ＯＯ０１〜３、好ましくは
０、００１〜２の範囲である。更に上記（ｂ）の触媒に
おける各構成成分の比率は以下の様である。イリジウム
と担体に対する比率は、担体の比表面積を考慮し【重量
比で０．０００１〜α５、好ましくはα００１〜α３で
ある。鉄とイリジウムの比率は鉄／イリジウム（原子比
）で０．００１〜１０、好ましくはＱ、０５〜５の範囲
である。モリブデンとイリジウムの比率はモリブデン／
イリジウム（原子比）で０．００１〜１０、好ましくは
０．０５〜５め範囲である。
本発明は、たとえば固定床の流通式反応装置に適用する
ことができる。すなわち、反応器内に上記（ｂ）の触媒
のうちの一つの上に、（、）の触媒のうちの一つを充填
するか、（ａ）の触媒のうちの一つと（ｂ）の触媒のう
ちの一つを混合して充填し、原料ガスを送入して反応を
行わせる。
ことができる。すなわち、反応器内に上記（ｂ）の触媒
のうちの一つの上に、（、）の触媒のうちの一つを充填
するか、（ａ）の触媒のうちの一つと（ｂ）の触媒のう
ちの一つを混合して充填し、原料ガスを送入して反応を
行わせる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスは必要に応じて精製
したのちに循環再使用することも可能である。
したのちに循環再使用することも可能である。
また、本′発明は流動床式の反応装置にも適用できる。
すなわち、原料ガスと上記（、）の触媒のうちの一つと
（ｂ）の触媒のうちの一つを混合、流動化した触媒を同
伴させて反応を行わせることもできる。
（ｂ）の触媒のうちの一つを混合、流動化した触媒を同
伴させて反応を行わせることもできる。
更に本発明は溶媒中に触媒を分散させ、原料ガスをを送
入し１反応を行うことからなる液相不均一反応にも適用
できる。
入し１反応を行うことからなる液相不均一反応にも適用
できる。
本発明方法を実施するに際して採用される条件はエタノ
ールを主成分とする含酸素化合物な高収率、高選択率で
、かつ炭化水素の生成を最小にしながら製造することを
目的として種々の反応条件の因子を有機的に組合せて選
択される。
ールを主成分とする含酸素化合物な高収率、高選択率で
、かつ炭化水素の生成を最小にしながら製造することを
目的として種々の反応条件の因子を有機的に組合せて選
択される。
反応圧力は、常圧（すなわち００／ｃｓ！ゲージ）でも
当該目的化合物を高選択率・高収率で製造できるのであ
るが、空時収率を高める目的で加圧下において反応を行
うことができる。従って反応圧力としてはｋｆ／ｄゲー
ジ〜３５０ｋｔ／−ゲージ好ましくはｏｋｇ７ｃｉゲー
ジから２５０ｋｇ／ｃｄゲージの圧力下で行う。反応温
度は１５０℃〜４５０℃、好ましくは１８０℃〜６５０
℃である。反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量
が増加するため原料の送入速度を早くしたり、水素、一
酸化炭素の組成比を変える必要がある。従って、空間速
度（原料ガス送入量／触媒容量）は標準状態（０℃、１
気圧）換算で１０ｈ’〜１ｏ７ｈ−１の範囲より、反応
圧力９反応温度、原料ガス組成との関係より適宜選択さ
れる。
当該目的化合物を高選択率・高収率で製造できるのであ
るが、空時収率を高める目的で加圧下において反応を行
うことができる。従って反応圧力としてはｋｆ／ｄゲー
ジ〜３５０ｋｔ／−ゲージ好ましくはｏｋｇ７ｃｉゲー
ジから２５０ｋｇ／ｃｄゲージの圧力下で行う。反応温
度は１５０℃〜４５０℃、好ましくは１８０℃〜６５０
℃である。反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量
が増加するため原料の送入速度を早くしたり、水素、一
酸化炭素の組成比を変える必要がある。従って、空間速
度（原料ガス送入量／触媒容量）は標準状態（０℃、１
気圧）換算で１０ｈ’〜１ｏ７ｈ−１の範囲より、反応
圧力９反応温度、原料ガス組成との関係より適宜選択さ
れる。
当該原料ガスの組成は、主として一酸化炭素と水素を含
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等のガス、あるいは反応条件下において、気体の
状態であれば炭火水素、二酸化炭素、生成した含酸素化
合物や水を含有していてもよい。水素と一酸化炭素の混
合比率は、水匙／一酸化炭素（容積比）で０．１〜１０
、好ましくは０．２５〜５であり、原料ガス中の一酸化
炭素と水素の合計割合は２０〜１００容積％、好ましく
は６０〜１００容積％である。
有しているガスであって、窒素、アルゴン、ヘリウム、
メタン等のガス、あるいは反応条件下において、気体の
状態であれば炭火水素、二酸化炭素、生成した含酸素化
合物や水を含有していてもよい。水素と一酸化炭素の混
合比率は、水匙／一酸化炭素（容積比）で０．１〜１０
、好ましくは０．２５〜５であり、原料ガス中の一酸化
炭素と水素の合計割合は２０〜１００容積％、好ましく
は６０〜１００容積％である。
以下実施例によって、本発明をさらに詳細に説明するが
、これらの例は本発明の理解を容易にするために、あえ
て同一反応条件で示すものであり、本発明はこれにより
何ら限定されるものでないことは言うまでもない。
、これらの例は本発明の理解を容易にするために、あえ
て同一反応条件で示すものであり、本発明はこれにより
何ら限定されるものでないことは言うまでもない。
実施例１
塩化ロジウム（Ｒｈ ｃ Ｉｓ Ｊ ３ ＨｔＯ） ｔ
２０１ を塩化スカンジウＡ （Ｓｃ ｃｌ３．６Ｈ
＊ｏ ）α０５９ｇ塩化リチウム（Ｌｉ ｃｌ 、Ｈ，
ｏ ）ｎ、ｏｓｓ ’／ｉを水１ｔ５−に溶解させ、こ
れにシリカゲル（ＤＡＶＩＳＤＮ＃５７）２５ｉ／を加
えた後、室温下で１時間、６ｃ℃で１８時間乾燥した。
２０１ を塩化スカンジウＡ （Ｓｃ ｃｌ３．６Ｈ
＊ｏ ）α０５９ｇ塩化リチウム（Ｌｉ ｃｌ 、Ｈ，
ｏ ）ｎ、ｏｓｓ ’／ｉを水１ｔ５−に溶解させ、こ
れにシリカゲル（ＤＡＶＩＳＤＮ＃５７）２５ｉ／を加
えた後、室温下で１時間、６ｃ℃で１８時間乾燥した。
この担持触媒をパイレックスガラス製反応管に充填し、
水素１８０ｍ／毎分下、４００℃で５時間還元してＲｈ
−８Ｃ−Ｌ、触媒を調製した。
水素１８０ｍ／毎分下、４００℃で５時間還元してＲｈ
−８Ｃ−Ｌ、触媒を調製した。
また、塩化イリジウム（工ｙ ｃｌ４ 、 Ｈｔｏ ）
Ｑ、８０３４、塩化鉄（Ｆｅｃｌ、 、 ６Ｈ１ｏ
） ０．３７０１１を水１℃５ｍｌＫ溶解させ、これに
上記に記載のシリカゲル２５１を加えた後、上記と同様
の操作で乾燥、還元処理℃てＩｒ−Ｆｅ 触媒を調製し
た。
Ｑ、８０３４、塩化鉄（Ｆｅｃｌ、 、 ６Ｈ１ｏ
） ０．３７０１１を水１℃５ｍｌＫ溶解させ、これに
上記に記載のシリカゲル２５１を加えた後、上記と同様
の操作で乾燥、還元処理℃てＩｒ−Ｆｅ 触媒を調製し
た。
ｆｒｊｅ！Ｅ試験及び結果
外径８″ｍの熱電対保護管を有する内径１８１ｍのチタ
ン裂反応管に上記のＩｒ−ｒｅ触媒２．５−を充填し、
ついで上記のＲｈ−８ｃ−Ｌｉ 触媒１０１１７を上記
に記載のシリカゲル３Ｑｓ＋Ｊで希釈して充填した。反
応管内を窒素で置換し、常圧下、窒素希釈水素ガス（Ｈ
ｚ ： Ｎｔ ＝ ２００ ： ２００ ’／毎分）２
００℃、１時間再還元した後、水素／−一酸化炭素２．
５／１ （容積比）の混合ガスを２１ＯＮｌ／毎時送入
し、反応圧力５０ｋｔ／ｄ、反応温度２８５℃において
反応を行った。反応流出物のうち、液状生成物は水に吸
収させて捕集し、また、流出ガス組成はガスクロ法によ
り分析し、その結果を第１表に示す。
ン裂反応管に上記のＩｒ−ｒｅ触媒２．５−を充填し、
ついで上記のＲｈ−８ｃ−Ｌｉ 触媒１０１１７を上記
に記載のシリカゲル３Ｑｓ＋Ｊで希釈して充填した。反
応管内を窒素で置換し、常圧下、窒素希釈水素ガス（Ｈ
ｚ ： Ｎｔ ＝ ２００ ： ２００ ’／毎分）２
００℃、１時間再還元した後、水素／−一酸化炭素２．
５／１ （容積比）の混合ガスを２１ＯＮｌ／毎時送入
し、反応圧力５０ｋｔ／ｄ、反応温度２８５℃において
反応を行った。反応流出物のうち、液状生成物は水に吸
収させて捕集し、また、流出ガス組成はガスクロ法によ
り分析し、その結果を第１表に示す。
実施例２
実施例１と同様にして、同様の組成比でＲｈ−８ｃ−Ｌ
ｉ 触媒を調製した。
ｉ 触媒を調製した。
また、塩化イリジウム［Ｌ８０５Ｊｌ、塩化モリブデン
（Ｍｏｃｌ、 ）α０８７ｇをエタノール３０−に貰・
解させ、これに前記に記載のシリカゲル２５３１１（を
加えた後、ロータリーエバポレーターを使用して減圧下
で乾燥した後、実施例１と同様の操作で還元処理してＩ
ｒ −ｈ 触媒を調製した。
（Ｍｏｃｌ、 ）α０８７ｇをエタノール３０−に貰・
解させ、これに前記に記載のシリカゲル２５３１１（を
加えた後、ロータリーエバポレーターを使用して減圧下
で乾燥した後、実施例１と同様の操作で還元処理してＩ
ｒ −ｈ 触媒を調製した。
実施例１と同様の反応装置に上記のＩｒ −Ｍｏ触媒２
，５ｄを充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ触
媒１０１１１ｊを前記に記載のシリカゲル３０１１／で
希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行っ
た。結果を第１表に示す。
，５ｄを充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ触
媒１０１１１ｊを前記に記載のシリカゲル３０１１／で
希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行っ
た。結果を第１表に示す。
実施例６
塩化ロジウムｔ２０Ｆ、塩化スカンジウムα０５９Ｆ、
塩化リチウム０．０５５ｇ、塩化イリジウム０．０６４
９を水１ｔ５−に溶解させ、これに実施例１に記載のシ
リカゲル２５１１ｊを加えた後実施例１と同様の操作で
処理してＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ−Ｉｒ触媒を調製した。
塩化リチウム０．０５５ｇ、塩化イリジウム０．０６４
９を水１ｔ５−に溶解させ、これに実施例１に記載のシ
リカゲル２５１１ｊを加えた後実施例１と同様の操作で
処理してＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ−Ｉｒ触媒を調製した。
また、実施例１と同様にして、同様の組成比でＩｒ −
Ｆｅ 触媒を調製した。
Ｆｅ 触媒を調製した。
実施例１と同様の反応装置に上記のＩｒ −Ｆｅ触媒２
．５ｄを充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ
−ＩＴ 触媒１０−を前記に記載のシリカゲル３Ｑａｇ
で希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行
った。結果を第」表に示す。
．５ｄを充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ
−ＩＴ 触媒１０−を前記に記載のシリカゲル３Ｑａｇ
で希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行
った。結果を第」表に示す。
実施例４
実施例３と同様にして、同様の組成比でＲｈ −８ｃ
−Ｌｉ −Ｉｖ触媒を調製した。
−Ｌｉ −Ｉｖ触媒を調製した。
また、実施例２と同様にして、同様の組成比でＩｒ −
Ｍｏ 触媒を調製した。
Ｍｏ 触媒を調製した。
実施例１と同様の反応装置に上記のＩｒ −Ｍｏ触媒２
．５−を充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ
−ＩＰ触媒１０ｍ１を前記に記載のシリカゲル３〇−で
希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行っ
た。結果を第１表に示す。
．５−を充填し、ついで上記のＲｈ −Ｓｃ −Ｌｉ
−ＩＰ触媒１０ｍ１を前記に記載のシリカゲル３〇−で
希釈して充填した後、実施例１と同様にして反応を行っ
た。結果を第１表に示す。
比較例１
実施例１と同様にして、同様の組成比でＲｈ −８ｃ
−Ｌｉ触媒を調製し、その１０−を前記に記載のシリカ
ゲル５０１で希釈して充填した以外は、実施例１と同様
にして反応を行った。結果を＠１表に示す。
−Ｌｉ触媒を調製し、その１０−を前記に記載のシリカ
ゲル５０１で希釈して充填した以外は、実施例１と同様
にして反応を行った。結果を＠１表に示す。
比較例２
実施例３と同様にして、同様の組成比でＲｈ −８ｃ
−Ｌｉ −Ｉｒ触媒を調製し、その１Ｑｍを前記に記載
のシリカゲル５０ｄで希釈して充填した以外は、実施例
１と同様にして反応を行った。結果を第１表に示す。
−Ｌｉ −Ｉｒ触媒を調製し、その１Ｑｍを前記に記載
のシリカゲル５０ｄで希釈して充填した以外は、実施例
１と同様にして反応を行った。結果を第１表に示す。
Claims (1)
- ロジウム、スカンジウム、イリジウムおよび／又はリチ
ウムを担体担持してなる触媒と、イリジウムおよび鉄又
はモリブデンを担体担持してなる触媒の存在下、一酸化
炭素と水素とを反応させることからなるエタノールを製
造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60017729A JPS61178937A (ja) | 1985-02-02 | 1985-02-02 | エタノ−ルを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60017729A JPS61178937A (ja) | 1985-02-02 | 1985-02-02 | エタノ−ルを製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61178937A true JPS61178937A (ja) | 1986-08-11 |
| JPS6238338B2 JPS6238338B2 (ja) | 1987-08-17 |
Family
ID=11951832
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60017729A Granted JPS61178937A (ja) | 1985-02-02 | 1985-02-02 | エタノ−ルを製造する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61178937A (ja) |
-
1985
- 1985-02-02 JP JP60017729A patent/JPS61178937A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6238338B2 (ja) | 1987-08-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |