JPS61162800A - 汚染物の水中洗浄装置 - Google Patents

汚染物の水中洗浄装置

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Publication number
JPS61162800A
JPS61162800A JP348585A JP348585A JPS61162800A JP S61162800 A JPS61162800 A JP S61162800A JP 348585 A JP348585 A JP 348585A JP 348585 A JP348585 A JP 348585A JP S61162800 A JPS61162800 A JP S61162800A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
pressure
pressure water
decontamination
low
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Pending
Application number
JP348585A
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English (en)
Inventor
久雄 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
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Publication date
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Publication of JPS61162800A publication Critical patent/JPS61162800A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は汚染物の水中洗浄装置に関するものである。
従来の技術 従来、汚染物の洗浄装置の一つとして汚染物に高圧ジェ
ット水を噴射して除染する乾式高圧洗浄装置がある。
発明が解決しようとする問題点 上記従来構成によれば、汚染水の飛散防止のため密閉構
造の建屋が必要であり、またその建屋に負圧換気設備等
の付帯設備が必要であって装置が大型化すると共に高価
なものとなっている。
本発明は上記問題点を解消した汚染物の水中洗浄装置を
提供することを目的とする。
問題を解決するための手段 上記問題を解決するため、本発明の汚染物の水中洗浄装
置は、汚染物を水没させる除染槽を設け、該除染槽の水
面下で汚染物に向かって高圧水を噴射する高圧水ノズル
を設け、除染槽内の水面上に汚染物に向かって清浄低圧
水を噴射する低圧水ノズルを設けたものである。
作用 上記構成において、各ノズルから高圧水および低圧水を
噴射してしている状態で吊上あげ々汚染物を除染槽内に
徐々に降下させていく。すると、その汚染物は高圧水と
低圧水とにより洗浄されつつ水没し、水底にたつする。
次にその汚染物を途々に引上げていくと、まず水面下で
再度高圧水によって洗浄され、次に水面上で清浄低圧水
により仕上げ洗浄されて除染されるものである。
実施例 以下、本発明の一実施例を図に基づいて説明する。
この実施例は使用済核燃料輸送容器(以下キャスクと称
する)1の水中洗浄装置に関する。2は除染槽槽、3は
ポンプ室、4はプール水5を一定水位に保つためのオー
バフロー管であって、第1配管6を介して除染槽2の下
部に連通している。7.8.9はその第1配管6に介在
させられた水位調整タンクと濾過器と第1パルプ、10
は除染槽2の下部に設けた排水口、11は除染槽2内の
水面下に配設された高圧除染リングパイプであって、そ
の内周面側には多数のフィン上面噴射ノズル12とフィ
ン下面噴射ノズル13とを設けである。14は上記リン
グパイプ11と前記排水口10とを連通させる第2配管
であって、濾・過器15と高圧ポンプ16と第2バルブ
11とを介在させである。18は除染槽2内の水面上に
配設された低圧除染リングパイプであって、その内周面
側には多数のフィン上面噴射ノズル19とフィン下面噴
射ノズル20とを設けである。21は低圧除染リングパ
イプ18と清浄水タンク22とを連通させる第3配管で
あって、低圧ポンプ23(清浄水タンク22の水圧を所
定値に設定するならば、これを省略することもできる)
と第3バルブ24とを介在させである。25は第3配管
21と第1配管6とを連通させる補充水用第4配管であ
って、第4バルブ26を介在させである。27はキャス
ク吊下装置であって、ワイヤ0−128を介して吊下げ
られたビーム29と、そのビーム29の両端から吊下げ
られて下端のフックがキャスク1のトラニオン30に係
合させられる一対のアーム31とを有する。32はキャ
スク1のフィンである。
以下、上記構成における作用について説明する。
まず第1パルプ9を開放し、除染槽2内の水位を一定に
保持している状態において、第2.第3のバルブ17.
24を開放し、各ポンプ16.23を作動させ、各ノズ
ル12,13,19.20から高圧水および低圧水を噴
射する。次にキャスク吊下値W121により吊上げたキ
ャスク1を除染槽2の直上にもたらし、キャスク1を徐
々に降下させる。これによってそのキャスク1は除染槽
2内に入っていき、まずノズル19.20から噴射され
る清浄低圧水で軽く洗浄され、次にプール水5内に入っ
てノズル12.13から噴射される高圧水で強力に洗浄
され、除染槽2の底面に載置される。次にキャスク1を
徐々に引上げていくと、キャスク1はノズル12.13
から噴射される高圧水で再び強力に洗浄され、次にプー
ル水5上でノズル19.20から噴射される清浄低圧水
により洗浄され、清浄化される。
ここで放射性物質は最初、キャスク1の表面にこびり付
いた状態になっているが、高圧水で剥離される。したが
って最後に清浄低圧水で軽く洗浄しても、その剥離させ
られた放射性物質は簡単に洗い流されるものである。ま
たフィン上面噴射ノズル12.19を下向きにしである
ので、第3図に示すごとくフィン32の奥まで高圧水お
よび低圧水を噴射して、フィン32の上面を完全に洗浄
することができる。またフィン下面噴射ノズル13.2
0を上向きにしであるので、同様にフィン32の下面を
完全に洗浄することができるものである。プール水5は
除染の進行とともに汚染濃度が増えるので、排出された
プール水5を濾過I19,15で濾過し、汚染物質を捕
集している。
上記実施例では、リングパイプ11.18を用いたが、
これに代えて固定式ノズルヘッダを用い、除染槽2内に
挿入したキャスク1を回転させるようにしてもよい。
またキャスク1の除染の場合を例にあげて説明したが、
これ以外に、たとえば核燃料物質を取扱う他の汚染機器
などの除染もおこなうことができるものである。ざらに
除染槽2に超音波発振器を取付けて、高圧洗浄と超音波
洗浄とを同時におこなうようにしてもよい。
発明の効果 以上述べたごとく本発明によれば、高圧水を水中で噴射
するので汚染水飛散の問題が生じない、したがって除染
槽を密閉構造にする必要がなく、負圧換気設備も不要で
あり、しかも装置全体の小形化でき経済性も優れている
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示し、第1図は縦断面図、第2
図は平面図、第3図は要部の縦断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、汚染物を水没させる除染槽を設け、該除染槽の水面
    下に汚染物に向かって高圧水を噴射する高圧水ノズルを
    設け、除染槽内の水面上に汚染物に向かつて清浄低圧水
    を噴射する低圧水ノズルを設けたことを特徴とする汚染
    物の水中洗浄装置。
JP348585A 1985-01-11 1985-01-11 汚染物の水中洗浄装置 Pending JPS61162800A (ja)

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JP348585A JPS61162800A (ja) 1985-01-11 1985-01-11 汚染物の水中洗浄装置

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JPS61162800A true JPS61162800A (ja) 1986-07-23

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006038341A1 (ja) * 2004-10-07 2006-04-13 S.E.S. Co., Ltd. 基板処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2006038341A1 (ja) * 2004-10-07 2006-04-13 S.E.S. Co., Ltd. 基板処理装置

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