JPS61161120A - 気体分離膜 - Google Patents

気体分離膜

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JPS61161120A
JPS61161120A JP60002088A JP208885A JPS61161120A JP S61161120 A JPS61161120 A JP S61161120A JP 60002088 A JP60002088 A JP 60002088A JP 208885 A JP208885 A JP 208885A JP S61161120 A JPS61161120 A JP S61161120A
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copolymer
membrane
alkyl group
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gas separation
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Masaki Uchikura
内倉 昌樹
Kiyohide Matsui
松井 清英
Yutaka Nagase
裕 長瀬
Junko Ochiai
落合 純子
Tomoko Ueda
智子 上田
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Sagami Chemical Research Institute
Tosoh Corp
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Sagami Chemical Research Institute
Toyo Soda Manufacturing Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/44Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, not provided for in a single one of groups B01D71/26-B01D71/42

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は気体混合物の分離に用いる高分子膜に関するも
のである。さらに詳しくは、気体の透過性および分離能
の両方に優れ、特に酸素富化空気の製造に好適な気体分
離膜に係るものである。
膜を用いる気体分離法は、その省エネルギー性。
高い安全性、および操作の簡便性の故に、急激に用途が
拡大しつつある。その中でも特に、酸素濃度が25チ以
上に濃縮された酸素富化空気は、例えば各種燃焼機関、
医療用機器1食品工業、廃棄物処理などに有効に用いる
ことができ、その効率的な製造方法が必要とされている
〔従来技術〕
気体混合物を分離する方法としては、従来、気体間の沸
点差を利用する深冷分離法が一般に用いられてきている
しかしながら、深冷分離法では、気体の相変化を利用し
ているため、エネルギー消費量が大きい、あるいは製造
した気体を圧力容器に貯菫して利用するため危険性が大
きい、操作が煩雑であるなど種々の問題があった。
近年、かかる方法に比べてより経済的であり、かつ安全
性、操作の簡便さく優れた方法として高分子膜透過を利
用した分離法が注目されている。
すなわち、高分子膜を通して気体が透過する速度の違い
を利用して、混合気体の1成分もしくはそれ以上の成分
を分離または濃縮しようとするものであり、特に酸素富
化空気製造への利用が期待されている。
酸素富化に用いる膜として特(要求される特性1、 酸
素の透過係*PO1(以下、特にことわらない限り、透
過係数の単位として−(8TP)・on /(i・8θ
C・−Hgを用いる。)が大きいこと 2 酸素と窒素の分離能、すなわち分離係数α(−酸素
の透過係数PO7/窒素の透過係数PM、 )が大きい
こと 五 薄膜としてもピンホールもしくは割れを生じない充
分な強度と加工性を有することである。
従来、特に高い気体透過性を有する高分子膜材料として
は、ポリジメチルシロキサン、あるいはポリ(1−)リ
メチルシリルブロピン) (、T、 Am。
Chem、8oc、1983. 105. p、747
3.が知られているが、前者は膜の機械的強度が小さい
ために、数十μm以下では実際の使用に耐えうる膜とす
ることかできず、また後者は、α−1,7と極めて分離
能に乏しく充分な酸素濃度の空気が得られないという欠
点を持っていた。ポリジメチルシロキサンの加工性を改
善するためにボリジメチルシロギサンーボリカーボネー
トブロック共重合体(米国特許へ98 Q、456.同
3,874,986号)。
ポリジメチルシロキサン共重合体(特開昭56−265
04号)等、共重合くよる高強度化が試みられてきたが
、透過性の著しい低下はまぬがれない0 このよ5に現在に至るまで、気体混合物の分離く用いる
膜として要求されるすべての性能を満足するものは知ら
れていない。
〔本発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上に述べた従来の気体分離膜の欠点を、透過
性9分離能に優れ、かつ強度に優れた新規な膜素材を用
いることにより解決し、気体混合物を極めて効率的に分
離する膜を提供するものである。
〔発明の詳細な説明〕
本発明者らは、気体、特に酸素ガスの選択透過性にすぐ
れ、さらに薄膜化し5るに充分な機械的強度を有する膜
素材を求めて鋭意検討した。その結果、1−トリメチル
シリルプロピンと他の種々のアセチレン系モノマーとの
共重合体を用いることにより、ポリ(1−トリメチルシ
リルプロピン)を大幅に上回る選択性を持つ膜が得られ
、さら(共重合体の組成を調整することKより高分子膜
の選択透過性を自由にコントロールできることを見い出
し、本発明を完成させるに至ったものである。
すなわち、本発明は、構造式 %式%) で示される繰返し単位および一般式 I + c −c −)         (2)〔式中 
R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基であり、R”+1フェニル基、置換フェニル基、
アルキル基、置換アルキル基、または式 アルキル基、置換アルキル基であり R5は炭素数2以
上のアルキル基、置換アルキル基、フェニル基、置換フ
ェニル基を表す。)を表す。〕で示される繰返し単位を
有する共重合体より形成される気体分離膜を提供するも
のである。
構造式(1)および一般式(2)で示される繰返し単位
を有する共重合体を得るために用いられるモノマーであ
る1−トリメチルシリルプロピンは市販のモノマーを使
用することができろ。また、共重合の際コモノマーとし
て用いる置換アセチレンモノマー、すなわち一般式 %式%(3) 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
置換アルキル基であり、Pはフェニル基、置換フェニル
基、アルキル基、置換アルキル基、マたは式 −11−R′で表される基(R”、 R’4rtそれぞ
れ独立にアルキル基、置換アルキル基であり Hmは炭
素数2以上のアルキル基、置換アルキル基、フェニル基
、置換フェニル基を表す。)を表す。〕で示される構造
を有するモノマーはそのいくつかは市販されている。ま
た一般式(3)で示されるモノマーのうちシリル置換ア
セチレン化合物は置換アセチレン化合物とクロロシラン
化合物との反応くより収率良く合成することができる。
例えば、CH,C:50H−■「(H8Oa ’f、i
 −OH。
等の反応を例示することができる。
本発明に用いる一般式(3)で示される置換アセチレン
モノマーとしては、 H嶌モC11,−)−0H,、HOE5C−CH(OH
,)、、 Hf1−(!(OR,4。
HCEEO%CFIdOH1、FI亘%CHttCFs
 、 H時叶CH<CFI(1!F、 。
CH,(!司÷OH,−)OH,、czcH,亘−CH
(OH小BrCHzCEK!%Ca、4cH@ 、 O
Fiβ叫CMS i (CjHB)、。
OH,群<CH,(H,OF、 、 C!H1OH,C
=CCH,OH,CF、 。
CH。
C11I、                0HIC
Fi。
CI’i、CI’f、            ca。
CH3 %に11−)リメチルシリルプロピンと共重合しやすい
という点から、好ましいモノマーとしては前記一般式(
3)中のR1がメチル基、エチル基等の低級アルキル基
または置換アルキル基である置換アセチレンモノマーが
挙ケラレル。
さらに、得られる共重合体の酸素、光、放射線などに対
する耐久性が優れ、長期間安定した気体選択透過能が維
持できるという点で、より好ましいモノマーとしては、
前記一般式(3)中のRLb−フェニル基、置換フェニ
ル基、フェニル置換アルキル基またはフェニル基を含む
置換シリル基などのフェニル基を有する置換基である置
換アセチレンモノマーが挙げられる。
前記構造式(1)および一般式(2)で示される繰返し
単位を有する共重合体を得る方法としては、1−トリメ
チルシリルプロピンと、前記一般式(3)で示される置
換アセチレンモノマーを混合し、V族遷移金属であるタ
ンタルあるいはニオブのハロケン化物(たとえば、五塩
化タンタル、五塩化ニオブ。
五臭化タンタル、五臭化ニオブなと)を触媒として、有
機溶媒中で通常50〜100’Cの温度で2〜36時間
重合することにより得られる。溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キ7レンナとの芳香族炭化水素、7クロヘ
キサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素、クロロ
ホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素などの塩
素系溶剤などを用いることができる。また、上記の触媒
を主触媒とし、第2成分としてアルミニウム、ケイ素。
錫、アンチモンなどを含む有機金属化合物(たとえハ、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ヒ
ドロシラ/誘導体、テトラフェニル錫、テトラーn−ブ
チル錫、トリフェニルアンチモノなど)を助触媒として
目的とする共重合体を得ることもできる。
本発明の高分子膜の気体選択透過性能としては、充分な
酸素濃度と透過量を得るためにPO,が6 X 10−
’以上であり、かつαが2.0以上であることが望まし
い。  ・ 本発明で用いる高分子膜の気体選択透過性能は、共重合
体の組成を調整することにより自由にコントロールする
ことができるが、上述の性能を満足するためには、共重
合体を構成する単量体単位において、構造式(1)で示
される単量体単位と一般式(2)で表される単量体単位
のモル比が90/10から60 / 40の範囲、より
好ましくは85/15から65155の範囲にあること
が望ましい。単量体単位のモル比がこれより大きい範囲
では高い透過性が得られるが選択性が低く、またこれよ
り小さい範囲では高い選択性が得られるが透過性が低下
する。
本発明で用いる共重合体の分子量は膜強度の点から大き
いことが望ましく、通常1万以上、好ましくは10万以
上である。
本発明で用いる高分子膜は、充分な気体透過量を与え、
かつ実用的な強度を持つために、膜の厚さが(:LO1
〜IGOμmq特にα05〜50μmであることが好ま
しい。膜厚が1μm以下の薄膜では支持体とともに用い
ることが好ましい。支持体としては織布状または不織布
状支持体、ミクロフィルター、限外ろ過膜など膜を支持
する充分な強度を有する多孔質体であればこれを用いる
ことができる。
本発明における高分子膜は、均質膜、非対称膜あるいは
他の膜素材との複合膜等の形態で用いることができるが
、七〇製膜方法は、特に限定されることなく、公知ある
いは周知の方法でよい。例えば、共重合体溶液を金属、
ガラス板、または水面上などに展延した後、溶媒を蒸発
させて丈夫な膜とすることができる。また多孔質の支持
体を重合体溶液に浸漬したのち(引き上げたり、支持体
に溶液を塗布、乾燥させるなどの方法も採用することが
できる。
共重合体溶液を作製するための有機溶媒としては、共重
合体を良く溶解するものであれば特に限定することな・
く用いることができるが、具体的にはトルエン、ベンゼ
ン、エチルベンゼン、p−キシレン等の芳香族系溶媒、
四塩化炭素、クロロホルム、’t’)クロロエチレン等
のハロゲン化炭化水素、あるいはシクロヘキサン、テト
ラヒドロフラノなどが良好に用いられる。
本発明で用いる高分子膜は、上述の構造式(1)および
一般式(2)で示される繰返し単位を有する共重合体の
みからなるものばかりでなく、他の高分子あるいは低分
子物質を添加、混合したものでもよい。
また、本発明において、上記高分子膜を他の膜と重ね合
せた積層膜の形で用いることもできる。
またこのようにして得られる膜は、平膜、管状膜。
中空糸膜なといかなる形状においても用いることができ
る。
本発明において分離の対象とする気体混合物の構成成分
気体としては、ヘリウム、ネオン、Φセノン、クリプト
ン、窒素、酸素、水素、二酸化炭素、−酸化炭素、窒素
酸化物、硫化水素、亜硫酸ガス、メタン、エタン、プロ
パン、ブタン、インブタン、エチレン、プロビレ/lブ
チレン等の低分子ガス状化合物が挙げられろ。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明の高分子膜は非常に優れた気体選
択透過性、および製膜性を有するために、本発明の膜を
用いて、空気からの酸素富化等種々の気体混合物の分離
、濃縮を極めて効率良く行うことができる。
以下実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、
本発明は何らこれらの実施例に限定されるものではない
なお、実施例において気体の透過係数の測定は高真空の
圧力法を用いて行った。
実施例1 1−トリメチルクリルプロピンおよび1−フェニルジメ
チルシリルプロピンをモル比70/30の割合で、全モ
ノマー濃度がtOMとなるよりにトルエンに溶解し、五
塩化タンタルおよびテトラフェニル錫をそれぞれ20 
mMの濃度で加え、ガラスアンプル中(仕込み、脱気封
管後80°Cで24時間振とうし、粘調なゲル状重合体
を得た。この重合体をトルエンに溶解させ、多量のメタ
ノール中に数回再沈殿を繰り返した。乾燥後、工R1N
MRおよび元素分析を行い、繰返し単位重合体であるこ
とを確認し、元素分析の炭素含量よりその組成を算出し
たところ、後者の繰返し単位の含有率は19モルチであ
った。また、Gpc測定の結果、共重合体の重量平均分
子量は5.45×10’であった。
得られた共重合体をトルエンに再溶解し、その溶液をテ
フロン板上に流延した後、トルエンを蒸発除去し、膜厚
が21μmの均質膜を得た。
この膜の25°Cにおける透過係数を測定したところ、
  pot −1,44X  1 0−丁 、  PM
、−&8 9X  1 0−畠。
α−2,09であった。またこの共重合体のIRスペク
トルデータおよび元素分析値は次のとおりであった。
IRスペク) # : 5100〜2850.166a
N1610゜1520、1450.1340.1260
.1190.1120.1090゜1000、930.
850α−1 元素分析値:C!、67.28%、H31[LO8%O
8側2 1−) IJ メチルシリルプロピンと1−フェニルジ
メチルシリルプロピンのモル比を50150にした以外
、実施例1と全く同様にして重合、nMを行った。得ら
れた共重合体の元素分析の炭素含量よりその組成を算出
したところ、 CH3 4cmc+  で示される繰返し単位の含有率は31モ
ルチであった。この共重合体を実施例1と同様にして製
膜し、膜厚18μmの均質膜を得た。
この膜の25°Cにおける透過係数を測定したところ、
  Po、  −455X  1  (r”  、  
 P夏、−2,59X10−畠α−2,53であった。
なお、この共重合体の元素分析値ハ(1!、611L8
9 %、 H0a95 %であった。
実施例3 1−トリメチルシリルプロピ/および1モ3.45−ト
リフルオロプロピルジメチルシリル)プロピンをモル比
65 / 55の割合で、全モノマー濃度が1.0Mと
なるようくトルエンに溶解し、五塩化タンタルおよびテ
トラフェニル錫をそれぞれ20mMの濃度で加えた後、
実施例1と同様にして重合。
精製を行った。乾燥後、IR,NMRおよび元素OH8 分析を行い、繰返し単位4cmc+  およびHlC−
81−C!H1 CFI3 CFI。
+c−c+   からなる共重合体であることをH3O
−8i<H。
(J(、CH,clFm 確認し、元素分析の炭素含量よりその組成を算出したと
ころ、後者の繰返し単位の含有率は25モルチであった
。またGPC測定の結果、共重合体の重量平均分子量は
4.92X10’であった。
得られた共重合体を、実施例1と同様にして製膜し、膜
厚が15μmの均質膜を得た。この膜の25°Cにおけ
る透過係数を測定したところ、Po、 −1,05X1
0−丁 、   PNl−4,51X  1  「” 
  α =  2.5 5であった。
また、この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素
分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル: 5100〜2850.1570〜4
550゜1450、1380.1520.1260.1
190.1120.1060゜1020、930.90
0.840.800.740.650備−1元素分析値
: C85a79%、H19,52%実施例4 1−トリメチルシリルプロピンおよび1−7エニルブロ
ビンをモル比50 / 70の割合で全モノマー濃度が
1.0Mとなるようにトルエンに溶解し、五塩化タンタ
ルを20mMの濃度で加えた後、実施例1と同様の方法
で重合、精製を行った。乾燥後、IR,NMRおよび元
素分析を行い、繰返し単位CH。
合体であることを確認し、元素分析の炭素含量よりその
組成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は3
5モル係であった。また、GPCj測定の結果、共重合
体の重量平均分子量はλ57X10’であった。
得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
が23μmの均質膜を得た。この膜の25°Cにおける
透過係数を測定したところ、Po2−7、31 X 1
0−@、 P+、−2−94X101であり、α−2,
49であった。また、この共重合体の工Rスペクトルデ
ータおよび元素分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル: 3050.2960.2900.2
850゜1750、1600.1560.1450.1
380.1260.1190゜1080、1020.9
10.820.750.690.6506r1−’元素
分析値HC07440チ、H09,48%実施例5 1−トリメチルシリルプロピンおよび1−(ペンタフル
オロフェニルジメチルシリル)プロピンをモル比701
50の割合で全モノマー濃度が1.0Mとなるようにト
ルエンに溶解し、五塩化タンタルおよびテトラフェニル
錫をそれぞれ20mMの濃度で加えた後、実施例1と同
様にして重合。
精製を行った。乾燥後、IR,NMRおよび元素分析を
行い、繰返し単位 重合体であることを確認し、元素分析の炭素含量よりそ
の組成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は
20モルチであった。
またGPO測定の結果、共重合体の重量平均分子量は2
.04X10’であつ丸 得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
が18μmの均質膜を得た。この膜の25°Cにおける
透過係数を測定したところ、PO2−1,49X10−
丁    p、、−7,10X1 0−畠   、α−
2,10であった。この共重合体の工Rスペクトルデー
タおよび元素分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル: 、5150〜2850.1600〜
1530゜1450、 1420. 1380. 12
60. 11?0. 1120,102Q。
930、860−810.760.650 tf”元素
分析値: (!、511L75’4. a、ao 7%
実施例6 1−トリメチルシリルプロピンおよび1%2−ペンタフ
ルオロフェニルエチルジメチルシリル)プロピンをモル
比67/S 5の割合で、全モノマー濃度が1.0Mと
なるようにトルエンに溶解し、五塩化タンタルおよびテ
トラフェニル錫をそれぞれ20 mMの濃度で加えた後
、実施例1と同様にして重合、精製を行った。乾燥後、
工R,NMRおよび元素分析を行い、繰返し単位 からなる共重合体であることを確認し、元素分析の炭素
含量よりその組成を算出したところ、後者の繰返し単位
の含有率は20モルチであった。またGPC測定の結果
、共重合体の重量平均分子量はλ65X10’であった
得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
12μmの均質膜を得た。この膜の25°Cにおける透
過係数を測定したところ、PO!−1,89X10” 
、&、−a79X10−’、CL−2−15であった。
また、この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素
分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル: 3100〜2850,1670.1
590〜1510、1450.13B0.1280.1
260.1190.1130゜1000、950.88
0−乃0.700.650 tyn−’元素分析値:c
、59.96チ、H1aaoチ実施例7 実施例6で得られた共重合体をトルエンに再溶解し、こ
の溶液1滴を清浄な水面上に滴下し自主的(展延せしめ
た。水面上に得られた共重合体極薄膜を、多孔質ポリプ
ロピレン・シェラガード上にすくい上げ複合膜を作製し
た。この膜の断面を電子顕微鏡を用いて観察した結果、
共重合体極薄膜の膜厚はα14μmであった。
この複合膜の25°Cにおける透過係数を測定したとこ
ろ、PO,−9,45X 10−’ 、、d (111
17P ) /d−sec−cInHg、 Pm、−4
27X1 o−37(s’rp)/d−eec a (
MHg、α−2,21であった。
さらに、この複合膜の両側(、五o1197crttの
差圧がかかる様に空気を導入し、この状態を35日間保
った後、再度25°Cにおゆる透過測定を行ったところ
、最初の測定値と5チ以内で一致した。
実施例8〜15 実施例1と同様の方法で1−トリメチルシリルプロピン
(表1中TMEIPと略す)と表IK記載のコモノマー
を、同じ(記載のモル比の割合で用いて共重合し、精製
、製膜した。ただし、実施例12および13については
実施例4と同様の方法で共重合した。
得られた共重合体におけるコモノマ一単位の含有率9重
量平均分子量、25°Cにおけるpo、 、 Plq 
αの値をそれぞれ表1に示す。
比較例1 実施例4と同様な方法で、1−トリメチルシリルプロピ
ンを単独で重合し、精製、製膜した。
得られたポリ(1−トリメチルシリルプロピン)の重量
平均分子量は1lL99X10’であった。この膜の2
5°Cにおける透過係数を測定したところ、Po、−&
8 ox 10−’ 、 Pi2−410X10−7゜
α−1666であった。
特許出願人  東洋曹達工業株式会社 相模中央化学研究所 手続補正書 昭和60年5月23日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される繰返し単位および一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
    、置換アルキル基であり、R^2はフェニル基、置換フ
    ェニル基、アルキル基、置換アルキル基、または式 ▲数式、化学式、表等があります▼で表される基(R^
    3、R^4はそれぞれ独立にアルキル基、置換アルキル
    基であり、R^5は炭素数2以上のアルキル基、置換ア
    ルキル基、フェニル基、置換フェニル基を表す。)を表
    す。〕で示される繰返し単位を有する共重合体より形成
    される気体分離膜。 2、該共重合体を構成する単量体単位において構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される単量体単位と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2は上記と同一である。)で示さ
    れる単量体単位のモル比が90/10から60/40の
    範囲にある特許請求の範囲第1項記載の気体分離膜。 3、該共重合体の酸素透過係数が6×10^−^8cm
    ^2(STP)・cm/cm^2・sec・cmHg以
    上、酸素と窒素の透過係数比が2.0以上である特許請
    求の範囲第1項または第2項記載の気体分離膜。
JP60002088A 1985-01-11 1985-01-11 気体分離膜 Granted JPS61161120A (ja)

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