JPS61174212A - 置換アセチレン類の共重合体 - Google Patents
置換アセチレン類の共重合体Info
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- JPS61174212A JPS61174212A JP1267085A JP1267085A JPS61174212A JP S61174212 A JPS61174212 A JP S61174212A JP 1267085 A JP1267085 A JP 1267085A JP 1267085 A JP1267085 A JP 1267085A JP S61174212 A JPS61174212 A JP S61174212A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は1−トリメチルシリルプロピ>単位オよびその
他の置換アセチレン類より形成される単量体単位からな
る新規の置換アセチレン系共重合体に関するものである
。
他の置換アセチレン類より形成される単量体単位からな
る新規の置換アセチレン系共重合体に関するものである
。
本発明の共重合体は文献未載の新規共重合体であり、例
えば、気体混合物あるいは液体混合物の分離に用いられ
る物質透過性能および物質分離能の両方に優れた高性能
の物質分離膜を提供する素材として有用である。特に近
年、膜を用いる気体分離法は、その省エネルギー性、高
い安全性および操作の簡便性の故に、急激に用途が拡大
しつつある。さらにその中でも特に、酸素濃度が25%
以上に濃縮された酸素富化空気は、例えば各種燃焼機関
、医療用機器1食品工業、廃棄物処理などに有効に用い
ることができ、その効率的な製造方法が必要とされてい
る。
えば、気体混合物あるいは液体混合物の分離に用いられ
る物質透過性能および物質分離能の両方に優れた高性能
の物質分離膜を提供する素材として有用である。特に近
年、膜を用いる気体分離法は、その省エネルギー性、高
い安全性および操作の簡便性の故に、急激に用途が拡大
しつつある。さらにその中でも特に、酸素濃度が25%
以上に濃縮された酸素富化空気は、例えば各種燃焼機関
、医療用機器1食品工業、廃棄物処理などに有効に用い
ることができ、その効率的な製造方法が必要とされてい
る。
気体混合物を分離する方法としては、従来、気体間の沸
点差を利用する深冷分離法が一般に用いられてきている
。しかしながら、深冷分離法では気体の相変化を利用し
ているため、エネルギー消 □費量が大きい、ある
いは製造した気体を圧力容器に貯蔵して利用するため危
険性か大きい、操作か煩雑であるなど種々の問題があっ
た。
点差を利用する深冷分離法が一般に用いられてきている
。しかしながら、深冷分離法では気体の相変化を利用し
ているため、エネルギー消 □費量が大きい、ある
いは製造した気体を圧力容器に貯蔵して利用するため危
険性か大きい、操作か煩雑であるなど種々の問題があっ
た。
近年、かかる方法に比べてより経済的であり、かつ安全
性、操作の簡便さに優れた方法として高分子膜透過を利
用した分離法が注目されている。
性、操作の簡便さに優れた方法として高分子膜透過を利
用した分離法が注目されている。
す赴わち、高分子膜を通して気体が透過する速度の違い
を利用して、混合気体の1成分もしくはそれ以上の成分
を分離または濃縮しようとするものであり、特に酸素富
化空気製造への利用が期待されている。
を利用して、混合気体の1成分もしくはそれ以上の成分
を分離または濃縮しようとするものであり、特に酸素富
化空気製造への利用が期待されている。
酸素富化に用いる膜として特に要求される特性は、
1、 酸素の透過係数Poz(以下、特にことわらない
限り、透過係数の単位として−(STP)・d・8fl
(1@ 071 Hgを用いる。)が大きいこと2、酸
素と窒素の分離能、すなわち分離係数α(=酸素の透過
係数Poz/窒素の透過係数P&)が大きいこと 五 薄膜としてもピンホールもしくは割れを生じない充
分な強度と加工性を有すること である。
限り、透過係数の単位として−(STP)・d・8fl
(1@ 071 Hgを用いる。)が大きいこと2、酸
素と窒素の分離能、すなわち分離係数α(=酸素の透過
係数Poz/窒素の透過係数P&)が大きいこと 五 薄膜としてもピンホールもしくは割れを生じない充
分な強度と加工性を有すること である。
従来、特に高い気体透過性を有する高分子膜材料として
は、ポリジメチルシロキサン、あるいはポリ(1−トリ
メ;チルシリプロピン) (J、、Am。
は、ポリジメチルシロキサン、あるいはポリ(1−トリ
メ;チルシリプロピン) (J、、Am。
Ohem、Soc、1983.105. P、 747
!l )が知られているが、前者は膜の機械的強度が小
さいために、数十μm以下では実際の使用に耐えうる膜
とすることができず、また後者はα=1.7と極めて分
離能に乏しく充分な酸素濃度の空気が得られないという
欠点を持っていた。ポリジメチルシロキサンの加工性を
改善するためにポリジメチルシロキサン−ポリカーボネ
ートブロック共重合体(米国特許5.980,456.
同へ874,986号)、ポリジメチルシロキサン共重
合体(特開昭56−26504号)等、共重合による高
強度化が試みられてきたが、透過性の著しい低下はまぬ
がれない。
!l )が知られているが、前者は膜の機械的強度が小
さいために、数十μm以下では実際の使用に耐えうる膜
とすることができず、また後者はα=1.7と極めて分
離能に乏しく充分な酸素濃度の空気が得られないという
欠点を持っていた。ポリジメチルシロキサンの加工性を
改善するためにポリジメチルシロキサン−ポリカーボネ
ートブロック共重合体(米国特許5.980,456.
同へ874,986号)、ポリジメチルシロキサン共重
合体(特開昭56−26504号)等、共重合による高
強度化が試みられてきたが、透過性の著しい低下はまぬ
がれない。
このように現在に至るまで、気体混合物の分離に用いる
膜として要求されるすべての性能を満足する膜素材とな
りうる重合体は知られていない。
膜として要求されるすべての性能を満足する膜素材とな
りうる重合体は知られていない。
(本発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上に述べた従来の気体分離膜の欠点を解決し
うる透過性1分離能に優れ、かつ強度に優れた膜素材と
なりつる新規共重合体を提供するものである。
うる透過性1分離能に優れ、かつ強度に優れた膜素材と
なりつる新規共重合体を提供するものである。
本発明者らは、気体、特に酸素ガスの選択透過性に優れ
、さらに薄膜化しうるに充分な機械的強度を有する膜素
材を求めて鋭意検討した。その結果、1−)リメチルシ
リルプロピンと他の種々の置門アセ□チレン類との新規
共重合体が膜素材として用いた場合、ポリ(1−トリメ
チルシリルプロピン)の気体透過性と同程度の透過性能
を有し、かつ同ポリマーの酸素選択透過性を大幅に上回
る選択性能を有する膜を与えることを見出し、本発明を
完成させるに至ったものである。
、さらに薄膜化しうるに充分な機械的強度を有する膜素
材を求めて鋭意検討した。その結果、1−)リメチルシ
リルプロピンと他の種々の置門アセ□チレン類との新規
共重合体が膜素材として用いた場合、ポリ(1−トリメ
チルシリルプロピン)の気体透過性と同程度の透過性能
を有し、かつ同ポリマーの酸素選択透過性を大幅に上回
る選択性能を有する膜を与えることを見出し、本発明を
完成させるに至ったものである。
すなわち、本発明は、構造式
でボされる繰返し率侃および一般式
+ O= O−) 、 (2)〔式中、卯
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基であり、R1はフェニル基、置換フェニル基、アルキ
ル基、置換アルキル基、またば式−5i−R′′で表わ
される基(R’、R’はギれ・ t ぞれ独立にアルキル基、置換アルキル基であり、R′は
置換アルキル基、フェニル基、 置換フェニル基を表す
。)を表す。〕で示される繰返し単位から形成される共
重合体に関するものである。
は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基であり、R1はフェニル基、置換フェニル基、アルキ
ル基、置換アルキル基、またば式−5i−R′′で表わ
される基(R’、R’はギれ・ t ぞれ独立にアルキル基、置換アルキル基であり、R′は
置換アルキル基、フェニル基、 置換フェニル基を表す
。)を表す。〕で示される繰返し単位から形成される共
重合体に関するものである。
構造式(1)および一般式(2)で示される繰返し単位
を有する共重合体を得るために用いられるモノマーであ
る1−トリメ・チルシリルプロピンは市販のモノマーを
使用することができる。また、共重合の際コモノマーと
して用いる一般式 %式%(5) 〔式中 R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
置換アルキル基であり、2はフェニル基、置換フェニル
基、アルキル基、置換アルキル基または式 −a1−R1′で表わされる基(R3,R′はそれぞれ
独を 立にアルキル基、置換アルキル基であり、2は置換アル
キル基、フェニル基、置換フェニル基を表す。)を表す
。〕で示される置換アセチレンモノマーのいくつかは市
販されており:またこのうちシ!J l![7セチL/
ン化合物は置換アセチレン化合物とクロロシラン化合物
との反応により収率良く合成することができる。例えば o4o=oH監御島014020Li −+HF OHa ■ 等の反応を例示することかできる。
を有する共重合体を得るために用いられるモノマーであ
る1−トリメ・チルシリルプロピンは市販のモノマーを
使用することができる。また、共重合の際コモノマーと
して用いる一般式 %式%(5) 〔式中 R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
置換アルキル基であり、2はフェニル基、置換フェニル
基、アルキル基、置換アルキル基または式 −a1−R1′で表わされる基(R3,R′はそれぞれ
独を 立にアルキル基、置換アルキル基であり、2は置換アル
キル基、フェニル基、置換フェニル基を表す。)を表す
。〕で示される置換アセチレンモノマーのいくつかは市
販されており:またこのうちシ!J l![7セチL/
ン化合物は置換アセチレン化合物とクロロシラン化合物
との反応により収率良く合成することができる。例えば o4o=oH監御島014020Li −+HF OHa ■ 等の反応を例示することかできる。
本発明に用いる一般式(3)で示される置換アセチレン
モノマーとしては、 no=o4o4−)、 o鴇 、 HOEEO−σa
(o4)、。
モノマーとしては、 no=o4o4−)、 o鴇 、 HOEEO−σa
(o4)、。
HOm−d(Q)、 、H(]”0(−0%−)B
OH,。
OH,。
no=o−(oH!+si]q 、HOiO−(−
0%40F、OF、。
0%40F、OF、。
(3’H,0=a−1−oz−+IOH,、olo%o
fo−OH(OHa’)t sBr”&’=0+0Hr
hO)& t 0AO=O+0HrhSi(OHa)
seoi4c+=oo4o4or、 、 a4o4o
=aa4o4or、。
fo−OH(OHa’)t sBr”&’=0+0Hr
hO)& t 0AO=O+0HrhSi(OHa)
seoi4c+=oo4o4or、 、 a4o4o
=aa4o4or、。
゛04÷0晒0ミ←◎、 o1o4o=a()y tO
鴇 04 0鴇O塊 oH!o40塊
0塊等を例示することか
できる。
鴇 04 0鴇O塊 oH!o40塊
0塊等を例示することか
できる。
特に、1−トリメチルシリルプロピンと共重合しやすい
という点から、好ましい七ツマ−としては前記一般式(
3)中のR1かメチル基、エチル基等の低級アルキル基
または置換アルキル基である置換アセチレンモノマーが
挙げられる。
という点から、好ましい七ツマ−としては前記一般式(
3)中のR1かメチル基、エチル基等の低級アルキル基
または置換アルキル基である置換アセチレンモノマーが
挙げられる。
さらに、得られる共重合体の酸素、光放射線などに対す
る耐久性が優れ、長期間安定した気体選択透過能が維持
できるという点で、より好ましいモノマーとしては、前
記一般式(3)中の2がフェニル基、置換フェニル基、
フェニル置換アルキル基またはフェニル基を含む置換シ
リル基などのフェニル基を有する置換基である、置換ア
セチレンモノマーが挙げられる。
る耐久性が優れ、長期間安定した気体選択透過能が維持
できるという点で、より好ましいモノマーとしては、前
記一般式(3)中の2がフェニル基、置換フェニル基、
フェニル置換アルキル基またはフェニル基を含む置換シ
リル基などのフェニル基を有する置換基である、置換ア
セチレンモノマーが挙げられる。
前記構造式(1)および一般式12)で示される繰返し
単位を有する共重合体を得る方法としては、1−トリメ
チルシリルプロピンと、前記一般式(3)で示される置
換アセチレンモノマーを混合し、v族a移金属であるタ
ンタルあるいはニオブのハロゲン化物(たとえば、五塩
化タンタル、五塩化ニオブ。
単位を有する共重合体を得る方法としては、1−トリメ
チルシリルプロピンと、前記一般式(3)で示される置
換アセチレンモノマーを混合し、v族a移金属であるタ
ンタルあるいはニオブのハロゲン化物(たとえば、五塩
化タンタル、五塩化ニオブ。
五臭化タンタル、五臭化ニオブなど)を触媒として、有
機溶媒中で通常30〜100℃の温度で2〜56時間重
合することにより得られる。溶媒としては、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、シクロヘキ
サン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素、クロロホ
ルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素などの塩素
系溶剤などを用いることができる。また、上記の触媒を
主触媒とし、第2成分としてアルミニウム、ケイ素。
機溶媒中で通常30〜100℃の温度で2〜56時間重
合することにより得られる。溶媒としては、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、シクロヘキ
サン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素、クロロホ
ルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭素などの塩素
系溶剤などを用いることができる。また、上記の触媒を
主触媒とし、第2成分としてアルミニウム、ケイ素。
錫、アンチモンなどを含む有機金属化合物(たとえば、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ヒ
ドロシラン誘導体、テトラフェニル錫、テトラーn−ブ
チル錫、トリフェニルアンチモンなど)を助触媒として
目的とする共重合体を得ることもできる。
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ヒ
ドロシラン誘導体、テトラフェニル錫、テトラーn−ブ
チル錫、トリフェニルアンチモンなど)を助触媒として
目的とする共重合体を得ることもできる。
本発明の共重合体は、トルエン、ベンゼン、エチルベン
ゼン、キシレン等の芳香族系溶媒、四塩化炭素、クロロ
ホルム、トリクロロエチレン等のハ、12ゲン化炭化水
素あるいはシクロヘキサン、テトラヒドロ7ラン等の有
機溶媒に可溶で、・アルコール類または水に対しては不
溶性である。また、この共重合体を上記の可溶性有機溶
媒に溶解し、その溶液を金jl!!、ガラス板、テフロ
ン板または水面上などに展延した後、溶媒を徐々に蒸発
させることにより厚みα01μm〜数十μm程度の丈夫
な薄膜とすることができる。また、多孔質の支持体を重
合体溶液に浸漬したのちに引き上げたり、支持体に溶液
を塗布、乾燥させるなどの方法も採用することができる
。
ゼン、キシレン等の芳香族系溶媒、四塩化炭素、クロロ
ホルム、トリクロロエチレン等のハ、12ゲン化炭化水
素あるいはシクロヘキサン、テトラヒドロ7ラン等の有
機溶媒に可溶で、・アルコール類または水に対しては不
溶性である。また、この共重合体を上記の可溶性有機溶
媒に溶解し、その溶液を金jl!!、ガラス板、テフロ
ン板または水面上などに展延した後、溶媒を徐々に蒸発
させることにより厚みα01μm〜数十μm程度の丈夫
な薄膜とすることができる。また、多孔質の支持体を重
合体溶液に浸漬したのちに引き上げたり、支持体に溶液
を塗布、乾燥させるなどの方法も採用することができる
。
本発明の共重合体から得られる高分子膜の気体選択透過
性能は、共重合体゛の組成を調整することにより自由に
コントロールすることができるが、気体透過性および分
離性能の両方のバランスが良い優れた膜素材を得るため
には、共重合体を構成する繰返し単位において、構造式
(1)で示され、る繰返し単位と一般式(2)で表わさ
れる繰返し単位のモル比が9515から40/60の範
囲、より好ましくは85/15から65/S 5の範囲
にあることか望ましい。繰返し単位のモル比がこれより
大きい範囲では高い透過性が得られるが選択性が低く、
またこれより小さい範囲では高い選択性が得られるが透
過性が低下する。
性能は、共重合体゛の組成を調整することにより自由に
コントロールすることができるが、気体透過性および分
離性能の両方のバランスが良い優れた膜素材を得るため
には、共重合体を構成する繰返し単位において、構造式
(1)で示され、る繰返し単位と一般式(2)で表わさ
れる繰返し単位のモル比が9515から40/60の範
囲、より好ましくは85/15から65/S 5の範囲
にあることか望ましい。繰返し単位のモル比がこれより
大きい範囲では高い透過性が得られるが選択性が低く、
またこれより小さい範囲では高い選択性が得られるが透
過性が低下する。
本発明の共重合体の重量平均分子量は膜強度の点から大
きいことが望ましく、通常1万以上、特に好ましくは1
0万以上である。
きいことが望ましく、通常1万以上、特に好ましくは1
0万以上である。
本発明の共重合体は上記の物質分離膜としての応用の他
にも、レジスト材、半導体材料などの各種電子材料とし
て、あるいはその他の機能性高分子材料としての応用が
期待される。
にも、レジスト材、半導体材料などの各種電子材料とし
て、あるいはその他の機能性高分子材料としての応用が
期待される。
以上のように、本発明の共重合体より得られる高分子膜
は非常に優れた物質選択透過性および製膜性を有するた
めに、本発明の共重合体を用いることにより、空気から
の酸素冨化等種々の気体混合物あるいは液体混合物の分
離、濃縮を極めて効率良く行うことができる。また、こ
の共重合体の組成を調整することにより、得られる高分
子膜の物質の選択透過性能を自由にコントロールするこ
とができる。
は非常に優れた物質選択透過性および製膜性を有するた
めに、本発明の共重合体を用いることにより、空気から
の酸素冨化等種々の気体混合物あるいは液体混合物の分
離、濃縮を極めて効率良く行うことができる。また、こ
の共重合体の組成を調整することにより、得られる高分
子膜の物質の選択透過性能を自由にコントロールするこ
とができる。
以下に、実施例および参考例により本発明をさらに詳し
く説明する。ただし、本発明がこれらに限定されるもの
ではないこと位もちろんである。
く説明する。ただし、本発明がこれらに限定されるもの
ではないこと位もちろんである。
なお、実施例において気体の透過係数の測定は高真空の
圧力法を用いて行った。
圧力法を用いて行った。
参考例1(コモノマーの合成)
11三ツロフラスコ中でプロピンガス729をTHT!
400m1に溶解し、アルゴンガス雰囲気下で一78℃
に冷却した後、その溶液にn−ブチルリチウムヘキサン
溶液(1,61M ) 400 mlをゆっくりと滴下
し、滴下終了後フェニルジメチルクロロシラン9a99
を加え、さらに−78℃で1時間反応を行った。
400m1に溶解し、アルゴンガス雰囲気下で一78℃
に冷却した後、その溶液にn−ブチルリチウムヘキサン
溶液(1,61M ) 400 mlをゆっくりと滴下
し、滴下終了後フェニルジメチルクロロシラン9a99
を加え、さらに−78℃で1時間反応を行った。
その後、反応液より有機層のみを取り出し、純水で洗浄
した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し減圧i留した
。その結果1−フェニルジメチルシリルプロピン94.
69<収率9五7%r 沸点”〜72℃/2龍Hg )
が得られた。
した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し減圧i留した
。その結果1−フェニルジメチルシリルプロピン94.
69<収率9五7%r 沸点”〜72℃/2龍Hg )
が得られた。
実施例1
1−トリメチルシリルプロピンおよび参考例1で得られ
た1−7エニルジメチルシリルプロビンをモル比70/
60の割合で、全モノマー濃度が1.0Mとなるように
トルエンに溶解し、五塩化タンタルおよびテトラフェニ
ル錫をそれぞれ20mMの濃度で加え、ガラスアンプル
中に仕込み、脱気封管後80℃で24時間振とうし、粘
稠なゲル状重合体を得た。この重合体をトルエンに溶解
させ、多量のメタノール中に数回再沈殿を繰り返しから
なる共重合体であることを確認し、元素分析の炭素含量
よりその組成を算出したところ、後者の繰返し単位の含
有率は19モル%であった。また、GPO測定の結果、
共重合体の重量平均分子量はポリスチレン換算値で5.
43 X 10’であった。
た1−7エニルジメチルシリルプロビンをモル比70/
60の割合で、全モノマー濃度が1.0Mとなるように
トルエンに溶解し、五塩化タンタルおよびテトラフェニ
ル錫をそれぞれ20mMの濃度で加え、ガラスアンプル
中に仕込み、脱気封管後80℃で24時間振とうし、粘
稠なゲル状重合体を得た。この重合体をトルエンに溶解
させ、多量のメタノール中に数回再沈殿を繰り返しから
なる共重合体であることを確認し、元素分析の炭素含量
よりその組成を算出したところ、後者の繰返し単位の含
有率は19モル%であった。また、GPO測定の結果、
共重合体の重量平均分子量はポリスチレン換算値で5.
43 X 10’であった。
得られた共重合体をトルエンに再溶解し、その溶液をテ
フロン板上に流延した後、トルエンを蒸発除去し、換厚
か21μmの均質膜を得た。
フロン板上に流延した後、トルエンを蒸発除去し、換厚
か21μmの均質膜を得た。
この膜の25℃における酸素および窒素の透過係数の測
定結果を表1に示す。また、この共重合体のIRスベク
Fルデータおよび元素分析値は次のとおりであった。
定結果を表1に示す。また、この共重合体のIRスベク
Fルデータおよび元素分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル: 3100〜2850(s)、 16
60〜1610 (s rシリル基上のフェニル基によ
る特性吸収)、 1520(s)、 14’50’(
m)、 1540 (s、側鎖メチル基による特性吸収
L 1260 (a、’ Eli−0M合による特性
吸収)、 1190(s)、 1120(w)。
60〜1610 (s rシリル基上のフェニル基によ
る特性吸収)、 1520(s)、 14’50’(
m)、 1540 (s、側鎖メチル基による特性吸収
L 1260 (a、’ Eli−0M合による特性
吸収)、 1190(s)、 1120(w)。
10109G(、1000(s)、 930(a)、’
850(a)c!n−1元素分析値:067.28%、
Hl[LO8%O8側2〜4 1−トリメチルシリルプロピンと1−7エニルジメチル
シリルプロビンのモル比をそれぞれ80/20,501
50,50/70にした以外、実施例1と全く同様にし
て重合精製を行った。得られた共重合体の元素分析の炭
素含量よりその組成を算出したところ、 れぞれ11モル%、51モル%、45モル%であった。
850(a)c!n−1元素分析値:067.28%、
Hl[LO8%O8側2〜4 1−トリメチルシリルプロピンと1−7エニルジメチル
シリルプロビンのモル比をそれぞれ80/20,501
50,50/70にした以外、実施例1と全く同様にし
て重合精製を行った。得られた共重合体の元素分析の炭
素含量よりその組成を算出したところ、 れぞれ11モル%、51モル%、45モル%であった。
また、これらの共重合体の重量平均分子量は、ポリスチ
レン換算値でそれぞれ&95X10B。
レン換算値でそれぞれ&95X10B。
五60X10”、2.87X10’であった。これらの
共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚がそれぞ
れ24μm、18μm、32μmの均質膜を得た。この
膜の25℃における酸素および窒素の透過係数の測定結
果を表1に示す。
共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚がそれぞ
れ24μm、18μm、32μmの均質膜を得た。この
膜の25℃における酸素および窒素の透過係数の測定結
果を表1に示す。
参考例2(コモノマーの合成)
参考例1においてフェニルジメチルクロロシランの代り
に、!1.43−トリフルオロプロピルジメチルクロロ
シランを用いて、参考例1と全く同様の操作を行い、1
(3<3.3−)リフルオロプロピルジメチルシリル)
プロピン(肺A50〜52℃/24mnig)を85.
2%の収率で得た。
に、!1.43−トリフルオロプロピルジメチルクロロ
シランを用いて、参考例1と全く同様の操作を行い、1
(3<3.3−)リフルオロプロピルジメチルシリル)
プロピン(肺A50〜52℃/24mnig)を85.
2%の収率で得た。
実施例5
1−トリメチルシリルプロピンおよび参考例2で得られ
た1 +3.3.3− )リフルオロプロピルジメチル
シリル)プロピンをモル比65/35の割合で、全モノ
マー濃度が1.0Mとなるようにトルエン(溶解し、五
塩化タンタルおよびテトラフェニル錫をそれぞれ20m
Mの濃度で加えた後、実施例1と同様にして重合、精製
を行った。乾燥後、工R,NMRおよび元素分析を行い
、繰返し単位OH,OH,01(!OF。
た1 +3.3.3− )リフルオロプロピルジメチル
シリル)プロピンをモル比65/35の割合で、全モノ
マー濃度が1.0Mとなるようにトルエン(溶解し、五
塩化タンタルおよびテトラフェニル錫をそれぞれ20m
Mの濃度で加えた後、実施例1と同様にして重合、精製
を行った。乾燥後、工R,NMRおよび元素分析を行い
、繰返し単位OH,OH,01(!OF。
体であることを確認し、元素分析の炭素含量よりこの組
成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は25
モル%であった。またGPQ測定の結果、共重合体の重
量平均分子量はポリスチレン換算値で4.92 X 1
0’であった。
成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は25
モル%であった。またGPQ測定の結果、共重合体の重
量平均分子量はポリスチレン換算値で4.92 X 1
0’であった。
得られた共重合体を、実施例1と同様にして製膜し、膜
厚が15μmの均質膜を得た。この膜の25℃における
酸素および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。
厚が15μmの均質膜を得た。この膜の25℃における
酸素および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。
また、この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素
分析値は次のとおりであった。
分析値は次のとおりであった。
工Rスペクトル:6100〜2850(s)、 157
0〜1550(s)、1450(s)、1380(s、
側鎖メチル基による特性吸収)、1320(m)、12
60(s。
0〜1550(s)、1450(s)、1380(s、
側鎖メチル基による特性吸収)、1320(m)、12
60(s。
51−0結合による特性吸収L 1190(s)、11
20(s、o−F結合による特性吸収) 、 10
b o(m)。
20(s、o−F結合による特性吸収) 、 10
b o(m)。
1020(a)、 910(s)、 900(a)、
840(m)、 800(w)、 740(m)、 6
50(w)cIn”元素分析値: 05a79%、H9
,32%実施例6,7 1−トリメチルシリルプロピンと14−!l、5.3−
トリフルオロプロピルジメチルジメチルシリル)プロピ
ンのモル比をそれぞれ82/1B、40/60にした以
外、実施例5と全く同様にして重合。
840(m)、 800(w)、 740(m)、 6
50(w)cIn”元素分析値: 05a79%、H9
,32%実施例6,7 1−トリメチルシリルプロピンと14−!l、5.3−
トリフルオロプロピルジメチルジメチルシリル)プロピ
ンのモル比をそれぞれ82/1B、40/60にした以
外、実施例5と全く同様にして重合。
精製を行った。得られた共重合体の元素分析の炭素含量
よりその組成を算出したところ 塊0−8i−OH,。
よりその組成を算出したところ 塊0−8i−OH,。
0H!01(!0馬
れぞれ7%、48%であった。また、これらの共重合体
の重量平均分子量はポリスチレン換算値でそれぞれ5.
62X10”、五a 9 X 10Iであった。
の重量平均分子量はポリスチレン換算値でそれぞれ5.
62X10”、五a 9 X 10Iであった。
これらの共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
がそれぞれ22μm、35μmの均質膜を得た。これら
の膜の25℃における酸素および窒素シ透過係数の測定
結果を表1に示す。
がそれぞれ22μm、35μmの均質膜を得た。これら
の膜の25℃における酸素および窒素シ透過係数の測定
結果を表1に示す。
実施例8
1−トリメチルシリルプロピンおよび1−フェニルプロ
ピン(市販品)をモル比60/70の割合で全モノマー
濃度がtOMとなるようにトルエンに溶解し、五塩化タ
ンタルを20mMの濃度で加えた後、実施例1と同様の
方法で重合、精製を行った。乾燥後、工R,NM、Rお
よび元素分析を行い、繰返し単位 04 、 体であることを確認し、元素分析の炭素含量よりその組
成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は35
モル%であった。また、GPO測定の結果、共重合体9
重量平均分子量は、ポリスチレン換算値、で2.57
X 10’であった。
ピン(市販品)をモル比60/70の割合で全モノマー
濃度がtOMとなるようにトルエンに溶解し、五塩化タ
ンタルを20mMの濃度で加えた後、実施例1と同様の
方法で重合、精製を行った。乾燥後、工R,NM、Rお
よび元素分析を行い、繰返し単位 04 、 体であることを確認し、元素分析の炭素含量よりその組
成を算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は35
モル%であった。また、GPO測定の結果、共重合体9
重量平均分子量は、ポリスチレン換算値、で2.57
X 10’であった。
得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
が26μmの均質膜を得た。この膜の25℃におけ、る
酸素お1よび窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。
が26μmの均質膜を得た。この膜の25℃におけ、る
酸素お1よび窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。
また、この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素
分析値は次のとおりであった。
分析値は次のとおりであった。
■R子ベクトル:3050(→、2960(a)、29
0口(a)、 2850(→、1750(W)、160
0(m、フェニル基による特性吸収、) 、 156
0(a)、 1450(s)。
0口(a)、 2850(→、1750(W)、160
0(m、フェニル基による特性吸収、) 、 156
0(a)、 1450(s)。
1380 (is r側鎖メチル基による特性吸収)。
1260(s、5i−0結合による特性吸収)、119
0(m)、 1080(m)、 1020(m)、
910’(s)、 82’0(s)。
0(m)、 1080(m)、 1020(m)、
910’(s)、 82’0(s)。
750(s)、 690(s)、 630□−1(
m)元素分析値;074.40%、H9,48%実施例
9.10 1−トリメチルシリルプロピンと1−フェニルプロピン
のモル比をそれぞれ50150,20/80にした以外
、実施例8と全く同様にして重合。
m)元素分析値;074.40%、H9,48%実施例
9.10 1−トリメチルシリルプロピンと1−フェニルプロピン
のモル比をそれぞれ50150,20/80にした以外
、実施例8と全く同様にして重合。
精製を行った。得られた共重合体の元素分析の炭素含量
よりその組成を算出したところ、0塊 それ10%、45%であった。また、これらの共重合体
の重量平均分子量はポリスチレン換算値で+h(’h4
.12 X 10’、 2.21 X 10I+テアツ
タ。
よりその組成を算出したところ、0塊 それ10%、45%であった。また、これらの共重合体
の重量平均分子量はポリスチレン換算値で+h(’h4
.12 X 10’、 2.21 X 10I+テアツ
タ。
これらの基型・合体を実施例1と同様にして製膜し、膜
厚がそれぞれ15μm、19μmの均質膜を得た。
厚がそれぞれ15μm、19μmの均質膜を得た。
これらの膜の25°Cにおける酸素および窒素の透過係
数の測定結果を表1に示す。
数の測定結果を表1に示す。
参考例3(コモノマーの合成)
1+ペンタフルオロフエニルジメチルシリル)プロピン
(沸点75〜76°C/8闘Hg )を95.3%の収
率で得た。
(沸点75〜76°C/8闘Hg )を95.3%の収
率で得た。
実施例11
1−トリメチルシリルプロピンおよび参考例3で得られ
た1−(ペンタフルオロフェニルジメチルシリル)プロ
ピンをモル比70150の割合で全モノマー濃度か1.
0Mとなるようにトルエンに溶解し、五塩化タンタルお
よびテトラフェニル錫をそれぞれ20m1Jの濃度で加
えた後、実施例1と同様にして重合、精製を行った。
た1−(ペンタフルオロフェニルジメチルシリル)プロ
ピンをモル比70150の割合で全モノマー濃度か1.
0Mとなるようにトルエンに溶解し、五塩化タンタルお
よびテトラフェニル錫をそれぞれ20m1Jの濃度で加
えた後、実施例1と同様にして重合、精製を行った。
乾燥後、工Rおよび元素分析を行い、繰返し単位合体で
あることを確認し、元素分析の炭素含量よりその組成を
算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は20モル
%であった。
あることを確認し、元素分析の炭素含量よりその組成を
算出したところ、後者の繰返し単位の含有率は20モル
%であった。
また、GPO測定の結果、共重合体の重量平均分子量は
ポリスチレン換算値で1口4 X 101であった。
ポリスチレン換算値で1口4 X 101であった。
得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
が18μmの均質膜を得た。この膜の25℃における酸
素および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。この
共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素分析値は次
のとおりであった。
が18μmの均質膜を得た。この膜の25℃における酸
素および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。この
共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素分析値は次
のとおりであった。
工Rスペクトル:3150〜2850(s)、1600
〜1530(a)、 1450(s)、 1420
(@、1380(a、側鎖メチル基による特性吸収)、
1260(a。
〜1530(a)、 1450(s)、 1420
(@、1380(a、側鎖メチル基による特性吸収)、
1260(a。
11si O結合による特性吸収)t 1190(s)
、 1120(a、o−F結合による特性吸収) +
1020 (m)+93.0(s)、 860〜81
0(s)、 760(s)、φ50(a)国−1元素分
析値:05a73%、HfL07%参考例4(コモノマ
ーの合成) 参考例1においてフェニルジメチルクロシランの代りに
2−ペンタフルオロフェニルニーfルシytチルクロロ
シランを用いて、参考例1と全く同様の操作を行い、1
+2−ペンタフルオロフェニルエチルジメチルシリル)
プロピン(沸点90〜92°C/4龍Hg )を91.
5%の収率で得た。
、 1120(a、o−F結合による特性吸収) +
1020 (m)+93.0(s)、 860〜81
0(s)、 760(s)、φ50(a)国−1元素分
析値:05a73%、HfL07%参考例4(コモノマ
ーの合成) 参考例1においてフェニルジメチルクロシランの代りに
2−ペンタフルオロフェニルニーfルシytチルクロロ
シランを用いて、参考例1と全く同様の操作を行い、1
+2−ペンタフルオロフェニルエチルジメチルシリル)
プロピン(沸点90〜92°C/4龍Hg )を91.
5%の収率で得た。
実施例12
1−トリメチルシリルプロピンおよび参考例4で得られ
た1+2−ペンタフルオロフェニルエチルジメチルシリ
ル)プロピンをモル比67155の割合で、金子ツマー
濃度が1.0Mとなるようにトルエンに溶解し、五塩化
タンタルおよびテトラフェニル錫をそれぞれ20’ m
Mの濃度で加えた後、実施例1と同様にして重合、゛
精製を行った。乾燥後、工R,NMRおよび元素分析を
行い、繰返し重合体であることを確認し、元素分析の炭
素含量よりその組成を算出したところ、後者の繰返し単
位の含有率は20モル%であった。またGPO測定の結
果、共重合体の重置平均分子量はポリスチレン換算値で
2.65X10Sであった。
た1+2−ペンタフルオロフェニルエチルジメチルシリ
ル)プロピンをモル比67155の割合で、金子ツマー
濃度が1.0Mとなるようにトルエンに溶解し、五塩化
タンタルおよびテトラフェニル錫をそれぞれ20’ m
Mの濃度で加えた後、実施例1と同様にして重合、゛
精製を行った。乾燥後、工R,NMRおよび元素分析を
行い、繰返し重合体であることを確認し、元素分析の炭
素含量よりその組成を算出したところ、後者の繰返し単
位の含有率は20モル%であった。またGPO測定の結
果、共重合体の重置平均分子量はポリスチレン換算値で
2.65X10Sであった。
得られた共重合体を実施例1と同様にして製膜し、膜厚
12μmの均質膜を得た。この膜の25℃における酸素
および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。また、
この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素分析値
は次のとおりであった。
12μmの均質膜を得た。この膜の25℃における酸素
および窒素の透過係数の測定結果を表1に示す。また、
この共重合体の工Rスペクトルデータおよび元素分析値
は次のとおりであった。
工Rスペクトル+3100〜211150(s)、16
70(4,1590〜1510(g)、 1450(s
)、 1380(s、側鎖メチル基による特性吸収)
、、 t 28 o(w)。
70(4,1590〜1510(g)、 1450(s
)、 1380(s、側鎖メチル基による特性吸収)
、、 t 28 o(w)。
1260 (a、 、Ell−0結合による特性吸収)
、1190(a)、 1150 (g、 0−7結合
による特性吸収)。
、1190(a)、 1150 (g、 0−7結合
による特性吸収)。
1 000(m)、930(s)、880〜750(s
)、700(a)。
)、700(a)。
650(g)cm”
元素分析値+ 05’196%、H&40%表1中po
、およびPNtの単位はいずれも−(STP)・Cm/
ctfl @sea * cm Hgである。
、およびPNtの単位はいずれも−(STP)・Cm/
ctfl @sea * cm Hgである。
特許出願人 東洋曹達工業株式会社
相模中央化学研究所
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、構造式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
る繰返し単位 および一般式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
または置換アルキル基、R^2はフェニル基、置換フェ
ニル基、アルキル基、置換アルキル基または式▲数式、
化学式、表等があります▼で表わされる基 (R^3、R^4はそれぞれ独立にアルキル基、置換ア
ルキル基であり、R^5は置換アルキル基、フェニル基
、置換フェニル基を表す。)を表す。〕で示される繰返
し単位から形成される共重合体。 2、構造式▲数式、化学式、表等があります▼で示され
る単量体単位 および一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R^1、R^2は上記と同様である。)で示され
る単量体単位のモル比が95/5から40/60の範囲
にある特許請求の範囲第1項記載の共重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1267085A JPS61174212A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 置換アセチレン類の共重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1267085A JPS61174212A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 置換アセチレン類の共重合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61174212A true JPS61174212A (ja) | 1986-08-05 |
JPH0582407B2 JPH0582407B2 (ja) | 1993-11-18 |
Family
ID=11811806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1267085A Granted JPS61174212A (ja) | 1985-01-28 | 1985-01-28 | 置換アセチレン類の共重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61174212A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1000434C2 (nl) * | 1994-05-24 | 1995-11-24 | Bend Research | Acetyleencopolymeren en membranen daarvan. |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59155409A (ja) * | 1983-02-23 | 1984-09-04 | Toshinobu Higashimura | 重合体の製法 |
JPS59210915A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | 重合体の製法 |
JPS6078601A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-04 | Sanyo Chem Ind Ltd | パ−ベ−パレイシヨン用複合分離膜 |
JPS60135413A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 置換ポリアセチレン共重合体 |
JPS60149022A (ja) * | 1984-01-14 | 1985-08-06 | Toyo Contact Lens Co Ltd | コンタクトレンズ |
JPS60212414A (ja) * | 1984-04-07 | 1985-10-24 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | アセチレン系ポリマ−および該ポリマ−からなる分離膜 |
-
1985
- 1985-01-28 JP JP1267085A patent/JPS61174212A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59155409A (ja) * | 1983-02-23 | 1984-09-04 | Toshinobu Higashimura | 重合体の製法 |
JPS59210915A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-29 | Sanyo Chem Ind Ltd | 重合体の製法 |
JPS6078601A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-04 | Sanyo Chem Ind Ltd | パ−ベ−パレイシヨン用複合分離膜 |
JPS60135413A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 置換ポリアセチレン共重合体 |
JPS60149022A (ja) * | 1984-01-14 | 1985-08-06 | Toyo Contact Lens Co Ltd | コンタクトレンズ |
JPS60212414A (ja) * | 1984-04-07 | 1985-10-24 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | アセチレン系ポリマ−および該ポリマ−からなる分離膜 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1000434C2 (nl) * | 1994-05-24 | 1995-11-24 | Bend Research | Acetyleencopolymeren en membranen daarvan. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0582407B2 (ja) | 1993-11-18 |
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