JPS61157677A

JPS61157677A - イオン化プラズマ式の塗装方法及び装置

Info

Publication number: JPS61157677A
Application number: JP28685185A
Authority: JP
Inventors: ウラジミール　ペトロヴイツチ　ペトラコフ; ゲンナデイ　ペトロヴイツチ　ミンキン; ウラジミール　アレクサンドロヴイツチ　シヤグン; パヴエル　セメノヴイツチ　バリキン; ダヴイド　イサーコヴイツチ　バルクロン; ウラデイミール　アレクサンドロヴイツチ　ドムラチエフ
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1984-12-20
Filing date: 1985-12-19
Publication date: 1986-07-17
Also published as: DE3529813C2; FR2575186A1; FR2575186B1; SU1414878A1; JPH0258349B2; DE3529813A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、真空蒸着の技術に係り、特に、イオン化プラ
ズマ塗装によって被膜を形成する方法及びこの方法を実
施する装置に係る。

本発明は、複雑な組成及び複雑な被膜の物品を処理する
時に種々の材料（導電性、電流抵抗性、誘電性、保護性
）を溶融、エツチング又は塗装することによって例えば
被膜を形成するような真空蒸着技術に最も効果的に適用
できる。ここに開示する方法により１本発明のイオン化
プラズマ式の塗装装置において処理された物品は、電子
、冶金及び光学の分野で広くしようすることができる。

従来の技術物品に被膜を塗布する時には、物品の品質が重要である
と同時に、使用する技術の生産性や、使用する装置の性
能信頼性や、物品がどれ程品質管理及び監視されるかと
いったことが重要となる。

これらは、全て、装置の設計と、選択した処理方法とに
よって決まる。

デントン・バキューム（Ｄｅｎｔｏｎ　Ｖａｃｕｕｍ）
によって市販されている薄膜を真空蒸着する装置が知ら
れている（１９７２年６月、ロシア、モスクワ、ＴｓＮ
ＩＩＥｌｅｋｔｒｏｎｉｋａで出版されたレビューズ・
オブ・エレクトロニック・シリーズ：生産及びプラント
のための技術及び管理、薄膜を付着するベレジン・エム
・アイ技術及び装置（Ｒｅｖｉｅｗｓ　ｏｆＥｌｅｃｔ
ｒｏｎｉｃｓ、　５ｅｒｉｅｓ　　：　　Ｔｅｃｈｎｏ
ｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｍａｎａ−ｇｅｍｅｎｔ　ｏｆ　Ｐ
ｒｏｄｕｃｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｐｌａｎｔ、　Ｂｅｒｅ
ｚｉｎ　Ｍ、Ｉ。

Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ａｎｄ　Ｅｑｕｉｏｍｅｎｔ　
ｆｏｒ　Ａｐｐｌｙｉｎｇ　ＴｈｉｎＦｉｌｍｓ）第９
（３０）巻を参照されたい。

この公知の装置は、３つの主たる要素、即ち、機械的な
ポンプ及び拡散ポンプを有する真空系統と、塗装室と、
監視及び制御系統とを備えている。

機械的なポンプは、塗装室を予め排気すると共に、拡散
ポンプの出口に真空状態を形成するように作動される。

ポンピングされるガスの分子を作用流体の蒸気噴射中に
拡散する原理を用いた拡散ポンプは、真空室を１０−４
ないし１０−’ｐａという希薄状態に排気する。

この真空蒸着装置の重大な欠点は、拡散ポンプによって
排気された真空室にオイルの分子が入す込むことである
。処理空間において、オイル分子が基板に沈降すると、
被膜を汚し、物品に対する被膜の付着を妨げ、更に、オ
イルが残留ガスに接触した時には、ガスが酸化されると
共に、その排気特性が失われる。

更に、拡散ポンプの作動には、オイルを予熱することが
含まれる。

更に、アルミニウム及びその合金の薄膜を蒸着する装置
も知られている（１９８０年、ロシア、電子業界／雑誌
（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ　Ｉｎｄｕｓｔｒｙ／Ｍａｇ
ａｚｉｎ）第５巻、第５２から５４までに頁に掲載され
たｒＥｌｅｋｔｒｏｎｎａｙａ　Ｐｒｏｍｙｓｈｌｅｎ
ｎｏｓｔＪを参照されたい）。１００００Ω／Ｓの平均
作動速度（空気で）を有する拡散ポンプのまわりに形成
された排気系統は、１時間当たり６．６　Ｘ　１０−’
ｐ　ａ以上の残留圧−を作用室に発生する。最初の排気
は、２つの機械的なポンプによって行なわれる。作用空
間をオイル蒸気の逆流から保護するために種々の手段が
組み込まれる。

これらの手段の中で、蒸気の反発性の低いオイルを機械
的ポンプ及び拡散ポンプが使用され。

前部ラインに組み込まれた作用容積３Ｑの窒素充填トラ
ップが使用され、更に、容積６Ｑの骨格型冷凍トラップ
が使用され、液体窒素の自動供給源が拡散ポンプと高真
空カットオフゲートとの間に含まれる。真空室の空気は
、２段階で予め排気され、即ち、機械的なポンプで６６
．５ないし１３゜３ｐａの残留圧力まで排気され（ボン
ピング除去される空気の流れによって前部ラインから作
用室へのオイル蒸気の侵入を阻止するようにして）そし
て拡散ポンプで（１３，３ないし１．３）ＸＩＯ−１ｐ
ａの範囲にわたってバイパスラインを経て排気される。

次いで、高真空ゲートを開きそしてバイパスラインのバ
ルブを閉じた状態で最終的なボンピングが行なわれる。

真空蒸着による被膜形成プロセスは、次のように行なわ
れる。

真空室内に基板を装填し、拡散ポンプを加熱し、真空室
から空気をポンピングし、基板を加熱しそして塗装を実
行する。

この装置の欠点は、排気された真空室内にオイルの分子
が侵入し、作用真空（１０−５ｐａ）に達するのに相当
の時間（約１時間）を必要とし。

オイル蒸気の逆流に対して作用室を保護する装置が複雑
であり、且つ、液体窒素を相当に入力しなければならな
いことである。又、装置の処理容量が比較的低いことも
重大な欠点である。

技術的な要旨が本発明に最も近い公知技術は、イオン化
プラズマ塗装方法及びイオン化プラズマ塗装装置である
（１９８３年、ロシア、電子業界／雑誌（Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｎｉｃｓ　Ｉｎｄｕｓｔｒｙ／Ｍａｇａｚｉｎ）第５
巻、第５０−５２に頁に掲載されたｒ　Ｅｌｅｋｔｒｏ
ｎｎａｙａＰｒｏｍｙｓｈｌｅｎｎｏｓｔ　Ｊを参照さ
れたい）。

イオン化プラズマ式の塗装装置は、アルゴン及び空気の
注入手段と通信する真空室を備え、この真空室は、４つ
の円筒状の室と、イオン化プラズマ塗装源とを収容して
いる。この真空室には、高排気ユニットが接続され、こ
のユニットは、機械的なポンプと、低温ポンプと、補助
的なマグネトロンポンプとを備え、更に、真空室には、
アルゴン注入手段が接続されている。イオン化プラズマ
塗装方法は、この装置において、次のように実行される
。

塗装さるべき１つ又は複数の物品を４つの円筒室のうち
の１つに装填する。機械的なポンプ及び低温ポンプによ
って真空室から活性ガスをポンピングし、６ＸＩＯ−４
ｐａの圧力とする。その後、機械的なポンプをオフにし
、補助的なマグネトロンポンプを作動する。次いで、ア
ルゴンを５×１Ｏ−１ｐａの圧力まで注入し、塗装を実
行する。作用ガス（アルゴン）の所要圧力は、アルゴン
注入手段を作動することにより塗装工程全体にわたって
維持される。

この公知装置及びイオン化プラズマ式の塗装方法の欠点
は、構造が複雑で且つかさばり、真空室から活性ガスを
ポンピングするのに時間がか＼す、然も、真空室に所要
のアルゴン圧力を維持するのが困難なことである。これ
は、機械的なポンプを長時間作動しなければならないと
共に、維持すべき高真空状態を形成する主たるソースで
ある低温ポンプを連続的に作動しなければならず、更に
は、装置の部品の修理及び交換が複雑で、塗装された被
膜の品質の監視が複雑なことによるものである。以上の
欠点から、装置の生産性は比較的低くなり、蒸着した被
膜の質が不充分なものとなる。

発明が解決しようとする問題点本発明の目的は、イオン化プラズマ塗装方法及びこの方
法を実施する装置であって、ポンピングユニットの設計
上の変更と、方法操作の変更とにより、高い効率で被膜
を付着できると共にその質を高めることができる一方、
マグネトロンで開始される高周波清掃及び物品の塗装中
に不活性ガスの純度を監視できるようにする方法及び装
置を堤供することである。

この目的は、物品を真空室に装填し、真空室から活性ガ
スをポンピング除去して予備真空レベルとし、予備真空
ポンプを切断し、真空室から活性ガスをボンピング除去
して作用真空レベルとし、そして不活性ガス雰囲気中で
物品に被膜を塗装するイオン化プラズマ式の塗装方法で
あって、真空室から活性ガスをボンピング除去して作用
真空レベルとする前に、不活性ガスの注入を行ない、物
品に被膜を塗装した後、真空室からの活性ガスのボンピ
ング除去を遮断して、ここに空気を注入し、その後真空
室からの空気の排気を６ないし６６ｐａの圧力まで行な
うことを特徴とする方法によって達成される。

又、この目的は、イオン化プラズマ源を収容する真空室
と、物品を収容する手段と、カットオフバルブを経て真
空室に接続された予備真空ポンプと、真空室に接続され
たマグネトロンポンプを含む高真空ユニットと、真空室
に空気を入れる注入手段と、マグネトロンポンプに接続
された導入ガスの注入手段とを具備するイオン化プラズ
マ式の塗装方法を実施する装置であって、上記マグネト
ロンポンプが、更に別のカットオフバルブを経て真空室
に接続され、マグネトロンポンプには、残留雰囲気を監
視する手段が設けられていることを特徴とする装置によ
って達成される。

真空室は、物品を高周波で予め清掃する装置を収容する
のが便利である。更に、真空室は、物品を加熱する装置
を収容するのが便利である。

ここに開示する方法は、マグネトロンポンプの始動を容
易にし、不活性ガスを節約し、マグネトロンポンプの始
動圧力を高め、相当のガス負荷においても活性ガスのポ
ンピング率を高くすることができ、然も、活性ガスのポ
ンピングと不活性ガスのボンピングとを微細に選択する
ことができる。更に、マグネトロンポンプの寿命が延ば
されると共に、その作動の信頼性及び利便さが確保され
る。

ここに開示する方法を実施する場合には、マグネトロン
ポンプの開始状態即ち作動状態が維持されると共に、真
空室を高い速度で排気することができ、然も１機械的ポ
ンプの作動時間が最少とされる。

高排気ユニットに組み込まれたマグネトロンポンプは、
ポンプの開始圧力を高めることができ、活性ガスを高い
率でボンピングすることができ、相当のガス負荷におい
てもこれらの高いポンピング率を維持することができ、
然も、不活性ガスのボンピングと活性ガスのポンピング
とを厳密に選択することができる。マグネトロンポンプ
は、長い寿命を発揮すると共に、信頼性が高く、且つ、
操作が容易である。

カットオフバルブを経て真空室に接続されたマグネトロ
ンポンプは、その作動状態を維持でき、真空室から活性
ガスを高い率でポンピングできる一方、マグネトロンポ
ンプ及び機械的なポンプの両方の寿命を延ばすことがで
きる。

マグネトロンポンプのハウジングに接続された不活性ガ
スの注入手段は、マグネトロンポンプの始動を容易にす
ると共に、不活性ガスを節約できるようにする。

残留雰囲気を監視する手段に組み合わされたマグネトロ
ンポンプは、活性ガスが充分にボンピング除去された時
を判断できると共に、被膜塗装工程中にそれらの注入を
制御することができる。

物品を高周波マグネトロンで清掃する装置を収容する上
記装置の真空室は、１回の工程で清掃を行なえるように
し、生産性を高めると共に、塗装された被膜の質を高め
ることができる。

塗装さるべき物品を加熱する装置を収容する真空系統は
、素早くガス抜きできるようにすると共に、被膜の質を
高めることができる。

実施例本発明によるイオン化プラズマ塗装装置は、イオン化プ
ラズマ塗装源２を収容する真空室１（第１図及び第２図
）を備え、上記イオン化プラズマ源はシャフト４の助け
により真空室１の後部カバー３に取り付けられる。真空
室１は、更に、塗装さるべき物品を位置設定する手段も
備え、この手段は、塗装さるべき物品６を取り付けるよ
うにこの真空室１内に同軸的に受は入れられるドラム５
を含んでいる。このドラム５は、シャフト８の助けによ
り真空室１の前部カバー７に取り付けられ、駆動装置９
に作動的に接続される。ドラム５と真空室１の隣接壁と
のスペースは、塗装さるべき物品の清掃を高周波マグネ
トロンで開始する装置１０と、これらの物品を加熱する
装置１１とを収容する。塗装さるべき物品を高周波で清
掃する装置１０は、マグネトロンの形式であり、そのタ
ーゲットは、ドラム５に取り付けられた塗装さるべき物
品である。マグネトロンは、高周波（マイクロ波）電圧
発生器（図示せず）から給電される。

塗装さるべき物品を加熱する装置１１は、直流電源（図
示せず）によって給電される一般のランプ型のヒータで
ある。

真空室１は、空気を注入する手段１２及びサーモカップ
ル圧力計１３と連通ずると共に、カットオフバルブ１５
を経て予備排気ポンプ１４と連通ずる。

更に、真空室１には、高真空ユニットが接続され、この
ユニットは、マグネトロンポンプ１６及びバッフル１７
を組み込んでおり、マグネトロンポンプ１６の接続部に
は、アクチュエータ１９によって作動されるカットオフ
バルブ１８が取り付けられる。

マグネトロンポンプ１６（第１図）のハウジングは、カ
ソードとして働くチタンターゲット２１、永久磁石系２
２及び及びアノード２３を有するマグネトロン２０と、
残留雰囲気を監視する装置１２４とを収容し、この装置
は、ミラー系２５を含んでいる。

ミラー系２５は、プラズマの入射及び反射の色を揃える
ミラー（図示せず）を含む。ミラー系２５によって反射
された像、即ち、プラズマの色は、観察装置に向けられ
る。この系のミラーは、ダスト層の付着から保護される
。マグネトロンポンプ１６は、不活性ガス注入手段２６
と連通している。

動作イオンプラズマ塗装方法は、上記したイオンプラズマ塗
装装置によって、次のように行なわれる。

真空室１の前部カバー７（第１図）を開け。

塗装さるべき物品６をドラム５に配置し、その後、カバ
ー７をもう一度閉じる。真空室１及びマグネトロンポン
プ１６から次のようなシーケンスで空気をポンピング除
去する。予備排気ポンプ１４をオンにし、そのカットオ
フバルブ１５を開き、アクチュエータ１９を作動してマ
グネトロンポンプのカットオフバルブ１８を開く。予備
排気ポンプ１４をオンにするまで、空気注入手段１２及
び不活性ガス注入手段２６を閉じる。真空室１内の圧力
が約０．３ないし１．ＯＰａに減圧された状態で。

予備排気ポンプ１４のカットオフバルブ１５を閉じ、ポ
ンプ１４をオフにし、不活性ガスの注入手段２６を作動
して不活性ガスを１ないし１０Ｐａの圧力まで注入し、
その後、不活性ガス注入手段２６を閉じる。真空室１内
の圧力をサーモカップル圧力計１３で読む。アクチュエ
ータ１９を作動して、マグネトロンポンプのカットオフ
バルブ１８を閉じる。チタンターゲット２１を有するマ
グネトロン２０に作用電圧を印加し、放電電流を１゜０
ないし１．２Ａにセットする。マグネトロン２０は、次
のように作動する。アノード２３に対してカソードとし
て働くターゲット２１に負の電位を印加した時には、非
均−な電磁界が交差する領域がカソード２１付近に形成
される。この領域に現われる電子は、交差電磁界（永久
磁石系２２によって磁界が発生されそしてチタンターゲ
ット２１とアノード２３との間に電界が発生される）に
より複雑な動きをするように駆動され、不活性ガス（ア
ルゴン）の分子との激しい衝突を繰り返すことによって
（イオン化）捕えられる。その結果。

イオン化プラズマの環状ゾーンがチタンターゲット２１
の表面上に形成される。放電によって生じる正のイオン
は、チタンターゲット２１に向がって加速されて、その
表面の腐食領域に衝突し、チタン粒子を放出させる。こ
れらの粒子は、化学的に活性なものであるから、残留ガ
スの分子（０２、Ｎ２、Ｎ２、Ｎ２０．ｃｏ、ｃｏ、等
）と非可逆的に結合し、酸化物、炭化物、水酸化物、窒
化物、等を形成する。これらは、マグネトロンポンプ１
６の水冷室に沈降する。放出されたチタン粒子が残留ガ
スの分子と結合してマグネトロンポンプ１６の室の水冷
壁に付着する現象により、３ｏないし４０分以内に、不
活性ガス（アルゴン）以外の全てのガスが排気され、イ
オン化プラズマによって物品に被膜を塗装するのに特に
適した状態が生じる。不活性アルゴン以外の全てのガス
が排気された時は、残留雰囲気を監視する装置２４によ
り、チタンターゲット２１の表面上に緑がかった青いプ
ラズマグローが開始する時として指示される。

マグネトロンポンプ１６のカットオフバルブ１８は、ア
クチュエータ１９によって開けられ、真空室１及びマグ
ネトロンポンプ１６内の圧力が等しくされ、残留ガスが
真空室から排気される。マグネトロンポンプ１６のカッ
トオフバルブ１８が開いた時には、チタンターゲット２
１の表面上のグローが紫がかった赤に変わり、５ないし
６分以内に、緑がかった青い色に復帰する。この緑がが
った青いプラズマグローは、不活性ガス（アルゴン）以
外の活性ガスが真空室１から充分に排気されたことを指
示する。この段階において、放電電流を０．２ないし０
．３Ａに下げて、チタンターゲット２１の材料の南耗を
少なくするのが実際的である。

不活性ガス（アルゴン）がマグネトロンポンプ１６に導
入された状態では、高いチタンスパッタリング率が確保
される。チタンターゲット２１の面とマグネトロンポン
プ１６の壁との間隔を、スパッタされるチタン粒子の自
由走行の長さより数倍大きくすることにより、チタン粒
子と残留ガスの粒子との衝突の確率が高（され、３００
００Ｑ／Ｓまでの高い排気率を確保することができる。

チタンターゲット２１を有するマグネトロン２０の作用
電圧は、４００−５００Ｖに保持され、チタンターゲッ
ト２１の材料を侵食することによってアルゴンが放出さ
れるという現象が排除される。

チタンターゲット２１及びマグネトロンポンプ１６のハ
ウジングの壁を水冷することにより、それらの過熱及び
高いチタンスパッタリング率でのガスの放出が防止され
、大きなガス負荷においてもマグネトロン２ｏの安定し
た性能が確保される。

真空室１から残留ガスが排気された状態では、その圧力
が０．０５０ないし０．ＩＰａまで下がり、不活性ガス
の注入手段２６が作動されて、不活性ガス（アルゴン）
が０．１ないし１．ＯＰａの作用圧力まで注入される。

シャフト８上のドラム５を回転させるために駆動装置９
が作動される。物品加熱系統１１がオンにされる。物品
６は、高周波マグネトロンで開始される清掃装置１０に
より５ないし１０分間清掃され、次いで、イオン化プラ
ズマ塗装源２が作動されて、物品６に被膜が形成される
。

物品６が塗装されると、アクチュエータ１９が作動され
て、マグネトロンポンプ１６のカットオフバルブ１６を
閉じる。真空室１は、注入手段１２によって空気を注入
することによって非密封状態とされ、マグネトロン２ｏ
がオフにされ、物品６を取り出すようにする。その後の
被膜塗装サイクル中には、チタンターゲット２１を取り
換えねぼらない時、マグネトロンポンプ１６の密封状態
が破壊された時、或いは、他の非常事態の時しかマグネ
１−ロンポンプ１６の予備排気は必要とされない。マグ
ネトロンポンプ１６の始動状態が維持される場合には、
真空室１の圧力を６ないし６６Ｐａに減圧するに必要な
３ないし５分の間予備排気ポンプ１４を作動した後、５
ないし６分で、真空室１を素早く完全に排気することが
できる。

一般的に機械的なポンプである予備排気ポンプ１４を１
０分以上作動させ、その後、真空室１内の圧力を６Ｐａ
より低い値まで減圧した場合には、機械的なポンプから
のオイルが真空室１に入り込んで塗装の質に影響するこ
とが考えられる。

一方、真空室１が６６Ｐａ以上の圧力に排気された時に
マグネトロンポンプ１６のカットオフバルブ１８が開い
たとすれば、マグネトロン２０の作用負荷に影響が及び
、マグネトロンポンプ１６のポンピング率が低下し、チ
タンターゲット２１の材料が著しく消耗することになる
。

効果以上の説明から、ここに開示するイオン化プラズマ塗装
方法を本発明のイオン化プラズマ塗装装置で実施するこ
とにより、活性ガスを高い率でボンピング除去すること
ができ、相当なガス負荷においても高いポンピング率を
維傅でき、然も、活性ガスと不活性ガスのボンピング除
去を厳密に選択できることが明らかである。

更に、ここに開示するイオン化プラズマ塗装方法を本発
明のイオン化プラズマ塗装装置で実施することにより、
高質な被膜を高い生産率で物品に付着することができ、
ボンピング手段の寿命を延ばすことができ、信頼性のあ
る性能及び操作容易性を確保することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるイオン化プラズマ塗装装置を概
略的に示す図、そして第２図は、第１図の■−■線に沿った断面図である。１・・・真空室２・・・イオン化プラズマ塗装源３・・・真空室の後部カバー４・・・支持シャフト５・・・ドラム　　６・・・塗装さるべき物品７・・・
真空室の前部カバー８・・・シャフト　　９・・・駆動装置１０・・・物品
を高周波マグネトロンで清掃する装置１１・・・物品加熱装置１２・・・空気注入手段１３・・・サーモカップル圧力計１４・・・予備真空ポンプ１５・・・カットオフバルブ１６ｊ−命マグネトロンポンプ１７・・・バッフル１８・・・カットオフバルブ１９・・・アクチュエータ２０・・・マグネトロン２１・・・マグネトロンのチタンターゲット２２・・・
マグネトロンの永久磁石系２３・・・マグネトロンのアノード２４・・・残留雰囲気監視装置２４・・・ミラー系２６・・・不活性ガスの注入手段Ｆ／に　７

Claims

【特許請求の範囲】

（１）物品（６）を真空室（１）に装填し、真空室（１
）から活性ガスをポンピング除去して予備真空レベルと
し、予備真空ポンプ（１４）を切断し、真空室（１）か
ら活性ガスをポンピング除去して作用真空レベルとし、
そして不活性ガス雰囲気中で物品（６）に被膜を塗装す
るイオン化プラズマ式の塗装方法において、真空室（１
）から活性ガスをポンピング除去して作用真空レベルと
する前に、不活性ガスの注入を行ない、物品（６）に被
膜を塗装した後、真空室（１）からの活性ガスのポンピ
ング除去を遮断して、ここに空気を注入し、その後真空
室（１）からの空気の排気を６ないし６６ｐａの圧力ま
で行なうことを特徴とする方法。
（２）イオン化プラズマ塗装源を収容する真空室（１）
と、物品を収容する手段と、カットオフバルブ（１５）
を経て真空室（１）に接続された予備真空ポンプ（１４
）と、真空室（１）に接続されたマグネトロンポンプ（
１６）を含む高真空ユニットと、真空室（１）に空気を
入れる注入手段（１２）と、マグネトロンポンプ（１６
）に接続された導入ガスの注入手段（２６）とを具備す
る特許請求の範囲第（１）項に記載のイオン化プラズマ
式の塗装方法を実施する装置において、上記マグネトロ
ンポンプ（１６）は、更に別のカットオフバルブ（１８
）を経て真空室（１）に接続され、マグネトロンポンプ
には、残留雰囲気を監視する手段（２４）が設けられて
いることを特徴とする装置。
（３）上記真空室（１）に収容された物品を高周波マグ
ネトロンで清掃する装置（１０）を更に備えた特許請求
の範囲第（２）項に記載の装置。
（４）上記真空室（１）に収容された物品を加熱する装
置（１１）を備えた特許請求の範囲第（２）項又は第（
３）項に記載の装置。