JPS61151831A - 鏡面基板 - Google Patents
鏡面基板Info
- Publication number
- JPS61151831A JPS61151831A JP27347984A JP27347984A JPS61151831A JP S61151831 A JPS61151831 A JP S61151831A JP 27347984 A JP27347984 A JP 27347984A JP 27347984 A JP27347984 A JP 27347984A JP S61151831 A JPS61151831 A JP S61151831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- specular
- substrate
- undercoat
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、合成樹脂と金属板とを複合化することにより
、鏡面性及び剛性のすぐれた磁気メモリー用又は光メモ
リー用基板に関するものである。
、鏡面性及び剛性のすぐれた磁気メモリー用又は光メモ
リー用基板に関するものである。
［従来技術］
表面精度のよい磁気メモリー用又は光メモリー用鏡面基
板として、ガラス基板、アルミニウム基板、スタバック
ス等の金属基板、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の合１
＆樹脂基板などがある。しかし、ガラス基板の場合、表
面精度を得るために多大な゛工数を要する研摩工程を必
要とし、又、割れやすい、高温に弱い等の欠点がある。
板として、ガラス基板、アルミニウム基板、スタバック
ス等の金属基板、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の合１
＆樹脂基板などがある。しかし、ガラス基板の場合、表
面精度を得るために多大な゛工数を要する研摩工程を必
要とし、又、割れやすい、高温に弱い等の欠点がある。
金属基板の場合も表面精度を得るための研磨工程に多大
の工数を必要とする。一方、合成樹脂基板の場合には、
鏡面性の型から転写することにより、すぐれた鏡面性を
得ることは比較的容易であるものの、剛性に欠点がある
。
の工数を必要とする。一方、合成樹脂基板の場合には、
鏡面性の型から転写することにより、すぐれた鏡面性を
得ることは比較的容易であるものの、剛性に欠点がある
。
［発明の目的］
本発明は、剛性、耐熱性のすぐれた金属板と、鏡面性の
得やすい合成樹脂とを複合化することにより、鏡面性、
剛性及び耐熱性のすぐれた磁気メモリー用又は光メモリ
ー用鏡面基板を提供することを目的とする。
得やすい合成樹脂とを複合化することにより、鏡面性、
剛性及び耐熱性のすぐれた磁気メモリー用又は光メモリ
ー用鏡面基板を提供することを目的とする。
［発明の構成１
本発明は、第１図又は第２図の如く、円形金属板（１）
、円形金属板の表面に形成された７ング一コート樹脂層
（２）、７ンダ一コート樹脂層表面に形成された鏡面（
３ａ）を有する紫外線硬化樹脂の層（３）からなること
を特徴とする磁気メモリー用又は光メモリー用鏡面基板
である。
、円形金属板の表面に形成された７ング一コート樹脂層
（２）、７ンダ一コート樹脂層表面に形成された鏡面（
３ａ）を有する紫外線硬化樹脂の層（３）からなること
を特徴とする磁気メモリー用又は光メモリー用鏡面基板
である。
本発明において、金属板（１）としては鉄板、アルミニ
ウム板等である。金属板（１）の表面に形成されるアン
ダーコート樹脂層（２）は金属板及び表面の樹脂層との
接着性がすぐれたものであれば特に限定されないが：ウ
レタン系、エポキシ系の樹脂が好ましい。
ウム板等である。金属板（１）の表面に形成されるアン
ダーコート樹脂層（２）は金属板及び表面の樹脂層との
接着性がすぐれたものであれば特に限定されないが：ウ
レタン系、エポキシ系の樹脂が好ましい。
表面層を形成する紫外線硬化樹脂の層（３）は表面が鏡
面（３ａ）となっている、特に紫外線硬化樹脂は硬化が
容易で、硬度、耐光性、耐熱性等もすぐれているので、
磁気メモリー用や光メモリー用基板に好適に使用される
。紫外線硬化樹脂はアクリル酸ないしメタクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリエステルあるいはテトラ
エステルのモノマーやオリゴマーを主成分とするものな
どであるが、前記特性上、ジアクリレート、トリ７クリ
レート等の多官能性のものが好ましい。更には、４′−
イソプロピル２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノン、２゜２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン等の光開始剤を加える。更には必要に応じて劣化防止
剤、安定剤等を加えたものが好ましい。
面（３ａ）となっている、特に紫外線硬化樹脂は硬化が
容易で、硬度、耐光性、耐熱性等もすぐれているので、
磁気メモリー用や光メモリー用基板に好適に使用される
。紫外線硬化樹脂はアクリル酸ないしメタクリル酸のモ
ノエステル、ジエステル、トリエステルあるいはテトラ
エステルのモノマーやオリゴマーを主成分とするものな
どであるが、前記特性上、ジアクリレート、トリ７クリ
レート等の多官能性のものが好ましい。更には、４′−
イソプロピル２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェ
ノン、２゜２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン等の光開始剤を加える。更には必要に応じて劣化防止
剤、安定剤等を加えたものが好ましい。
紫外線硬化樹脂は低粘度の液状のものが多く、注型が容
易であり、硬化にも加熱の必要がなく、繰作が簡単であ
る。得られた硬化物は硬化収縮が小さく、寸法安定性が
良好であるので、成形型の鏡面がよく転写され、極めて
裏孔な表面精度が得られる。耐熱性、耐候性等も問題な
い。
易であり、硬化にも加熱の必要がなく、繰作が簡単であ
る。得られた硬化物は硬化収縮が小さく、寸法安定性が
良好であるので、成形型の鏡面がよく転写され、極めて
裏孔な表面精度が得られる。耐熱性、耐候性等も問題な
い。
表面の鏡面を得るには、鏡面加工されたガラス型内に金
属板を置き、この上に液状樹脂を注型し、紫外線を照射
して樹脂を硬化させるのが一般的であるが、これに限定
されない。
属板を置き、この上に液状樹脂を注型し、紫外線を照射
して樹脂を硬化させるのが一般的であるが、これに限定
されない。
この紫外線硬化樹脂の層の厚みは通常０．０５〜０．２
輪−程度である。
輪−程度である。
［発明の効果］
本発明の鏡面基板は、金属板による剛性、紫外線硬化樹
脂によるすぐれた表面精度を有し、又、金属板とこれら
の樹脂の複合化による耐熱性のすぐれたものであり、磁
気メモリー用基板、光メモリー用原盤あるいは基板とし
て使用されるものである。
脂によるすぐれた表面精度を有し、又、金属板とこれら
の樹脂の複合化による耐熱性のすぐれたものであり、磁
気メモリー用基板、光メモリー用原盤あるいは基板とし
て使用されるものである。
［実施例ｊ
第２図は本発明の実施例を示すもので、直径８５ＩＩ１
ｍ、内径３０ＩＩＩＩ！１、厚み１．６關のアルミニウ
ム板（１）、該アルミニウム板の両面に形成された厚み
５０μｍのエポキシ樹脂系アンダーコート樹脂層（２）
、アンダーコート樹脂層上形成された厚み１００μ鰯の
下記の紫外線硬化樹脂層（３）からなる磁気メモリー眉
基板である。
ｍ、内径３０ＩＩＩＩ！１、厚み１．６關のアルミニウ
ム板（１）、該アルミニウム板の両面に形成された厚み
５０μｍのエポキシ樹脂系アンダーコート樹脂層（２）
、アンダーコート樹脂層上形成された厚み１００μ鰯の
下記の紫外線硬化樹脂層（３）からなる磁気メモリー眉
基板である。
ペンタエリスリトールトリアクリレート１００重量部
４″−イソプロピル２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
オフェノン ４この基板は次のようにし
て得られた。内面を鏡面加工したガラス型を使用し、こ
の内部にアンダーコート樹脂層（２）を両面に設けたア
ルミニウム板（１）を置き、前記紫外線硬化樹脂を厚下 み１００μ論に注型し、上器から紫外線を照射して硬化
させた。
オフェノン ４この基板は次のようにし
て得られた。内面を鏡面加工したガラス型を使用し、こ
の内部にアンダーコート樹脂層（２）を両面に設けたア
ルミニウム板（１）を置き、前記紫外線硬化樹脂を厚下 み１００μ論に注型し、上器から紫外線を照射して硬化
させた。
なお、基板の厚みはスペーサーにより規制した。
得られた基板は次のような特性を有していた。
基板の厚み １．９±０．０１ｍｍ
表面粗さ Ｒｅｍａｘ ０．０１−０．０２μ鶴平面
性 １５〜２０μ− 耐熱性 １８０℃
性 １５〜２０μ− 耐熱性 １８０℃
第１図、＠２図は本発明の基板の断面図である。
１ 二 金属板
２ ： アンダーコート樹脂層
３ ： 光硬化性樹脂層
３ａ： 鏡面
特許出願人 住友ベークライト株式会社第１図
第２図
Claims (1)
- 円形金属板、円形金属板表面の両面又は片面に形成され
たアンダーコート樹脂層、アンダーコート樹脂層表面に
形成された鏡面を有する紫外線硬化樹脂層からなること
を特徴とする磁気メモリー用又は光メモリー用鏡面基板
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27347984A JPS61151831A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 鏡面基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27347984A JPS61151831A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 鏡面基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61151831A true JPS61151831A (ja) | 1986-07-10 |
Family
ID=17528480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27347984A Pending JPS61151831A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | 鏡面基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61151831A (ja) |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP27347984A patent/JPS61151831A/ja active Pending
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